Применение клеточных автоматов для Применение клеточных автоматов для исследования структурных исследования структурных

превращений в твердом теле при превращений в твердом теле при нелинейном внешнем воздействиинелинейном внешнем воздействии

Евразийский национальный университет им. Л.Н. ГумилеваЕвразийский национальный университет им. Л.Н. Гумилева

КАЗАХСТАНКАЗАХСТАН

Баратова А.А. Баратова А.А.

0

0,1

0,2

0,3

0,4

0,5

0,6

0,7

0,8

0,9

1

0 100 200 300 400 500

*103число итераций,

конц

ентр

ация

, %

1000*1000 500*500100*100

Рисунок 1 - Зависимость концентрации выживших дефектов от Рисунок 1 - Зависимость концентрации выживших дефектов от продолжительности облучения двумерных ионных кристаллов с продолжительности облучения двумерных ионных кристаллов с

решетками разного размера. Мощность дозы во всех случаях равна решетками разного размера. Мощность дозы во всех случаях равна 0,1%0,1%

Рисунок 2 - Снимок пространственного распределения радиационных Рисунок 2 - Снимок пространственного распределения радиационных дефектов в двумерном ионном кристалле с решеткой размером дефектов в двумерном ионном кристалле с решеткой размером

100х100 после 500 тысяч итераций100х100 после 500 тысяч итераций

Рисунок 3- Зависимость условного потенциала взаимодействия от Рисунок 3- Зависимость условного потенциала взаимодействия от радиуса разбиения трехмерной решетки твердого тела размером радиуса разбиения трехмерной решетки твердого тела размером

100х100х100 при начальной концентрации 0,1%, продолжительность 100х100х100 при начальной концентрации 0,1%, продолжительность облучения составляла 30.103 итерацийоблучения составляла 30.103 итераций

-300

-250

-200

-150

-100

-50

0

50

100

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

усл

овн

ый

пот

енци

ал

взаи

мо

дейс

твия

, усл

.ед.

радиус разбиения l

Рисунок 4- Зависимость УПВ структуры радиационных дефектов от Рисунок 4- Зависимость УПВ структуры радиационных дефектов от продолжительности облучения двумерного твердого тела с решеткой продолжительности облучения двумерного твердого тела с решеткой размером 1000х1000 при мощности дозы 0,1% для двух характерных размером 1000х1000 при мощности дозы 0,1% для двух характерных

размеров агрегатовразмеров агрегатов

-100

-50

0

50

100

150

200

0 100 200 300 400 500

усл

овн

ый

по

тен

ци

ал

вза

им

од

ей

стви

я,

усл

.ед

число итераций, *103

10*10 5*5

Рисунок 5 - Зависимость удельного значения информационной Рисунок 5 - Зависимость удельного значения информационной энтропии структуры радиационных дефектов от энтропии структуры радиационных дефектов от

продолжительностиоблучения двумерного кристалла продолжительностиоблучения двумерного кристалла NaClNaCl с решеткой с решеткой размером 1000х1000 при мощности дозы 0,1% для двух характерных размером 1000х1000 при мощности дозы 0,1% для двух характерных

размеров агрегатовразмеров агрегатов

0

0,2

0,4

0,6

0,8

1

1,2

0 100 200 300 400 500

*103

число итераций,

энтр

опия

, отн

.ед.

10*10 5*5

Рисунок 6- Изменение УПВ частиц в процессе эволюции Рисунок 6- Изменение УПВ частиц в процессе эволюции бимолекулярной системы при вероятности взаимодействия =1: а) бимолекулярной системы при вероятности взаимодействия =1: а)

хаотическое распределение, б) мультифрактальное распределениехаотическое распределение, б) мультифрактальное распределение

0

20

40

60

80

100

120

0 500 1000 1500 2000 2500 3000t, усл.ед.

U ,

усл.е

д. 218 K

273 K

237 K

0

20

40

60

80

100

120

140

160

180

200

0 500 1000 1500 2000 2500 3000t, усл. ед.

218 К

273 К

237 К

U, у

сл. е

д.

РисРисунок 7унок 7 - Влияние вероятности взаимодействия и степени покрытия - Влияние вероятности взаимодействия и степени покрытия поверхности на кинетику убыли молекул донора, распределенных по поверхности на кинетику убыли молекул донора, распределенных по поверхности с заданной степенью упорядоченности (поверхности с заданной степенью упорядоченности (=0,3±0,005) и =0,3±0,005) и ==273К:1) =0273К:1) =0..4%; =0.7; 2)4%; =0.7; 2) =0.4%; =1; 3) =0=0.4%; =1; 3) =0..2%; =0.7; 2%; =0.7; 4) =0.2%; =14) =0.2%; =1

0

0,1

0,2

0,3

0,4

0,5

0,6

0,7

0,8

0,9

1

0 500 1000 1500 2000 2500 3000

t, усл.ед.

С/Сo

1

4

3

2

РисРисунок 8 - унок 8 - Изменение энтропии системы при гетероаннигиляционных Изменение энтропии системы при гетероаннигиляционных взаимодействиях: а) =1, взаимодействиях: а) =1, ТТ ==213К213К: 1) : 1) =0,=0,216; 2216; 2) ) =0,=0,230; 3230; 3) ) =0,=0,241241;4) ;4) =0,=0,292292; 5) ; 5) =0,=0,335335;; б) =1, б) =1, ТТ ==273К273К: : 11) ) =0,=0,216216;; 2 2) ) =0,282; 3) =0,282; 3) =0,=0,292292; ; 4) 4) =0,335; =0,335; 55) ) =0,347=0,347

0

0,05

0,1

0,15

0,2

0,25

0,3

0,35

0,4

0,45

0,5

5 5,5 6 6,5

Sинф

C

4

2

1

53

а)

0

0,05

0,1

0,15

0,2

0,25

0,3

0,35

0,4

0,45

0,5

5 5,5 6 6,5

Sинф

С

12

3

4

5

б) б)