無塵室儀器介紹一、原子力顯微鏡 (Atomic Force Microscope)

二、 D.I Water 製造機

三、曝光顯影機

四、光學顯微鏡 OM 報告人 彭中南

原子力顯微鏡簡介：

掃瞄式探針顯微鏡是以極細微的探針，在極靠近試片表面的形貌及特性 ( 如電、磁、光、力等 ) 進行探測 . 掃瞄式探針顯微鏡可承載 4 吋至 6 吋之晶圓，移動範圍為 25mm×25mm×25mm ， 掃瞄範圍為50μm×50 μm × 12μm.

AFM 設備

AFM 試片1. 最高點和最低點 最小 1nm ，最大不要超過

30μm ，不然會造成探針斷裂2. 放置試片到磁力吸附台上時記得要確定有無

粉末灰塵在試片上面

工作原理 AFM 則是利用探針尖端與試片表面的作用力，

即凡得瓦力相吸或相斥的作用力，使得探針懸臂產生彎曲偏移。藉由掃描過程中即時量測懸臂偏移量，進而產生樣品微小區域表面形貌的影像。

試片結果分析

mm μm

試片表面粗超度比較 ( 平面 )

處理前 處理後

3-D Mesh 比較

處理前 處理後

Rmax

3-D Height 比較

處理前 處理後

3-D solid 比較

處理前 處理後

2-D 量測

3-D 量測

一般表面量測 A.B 表面各別量測

應用半導體製程量測、光碟儲存媒體量測 、奈米材

料或元件檢測

D.I Water 製造機簡介

使用方法1. 使用前請按 ON2. 電阻值需要在 17.4MΩ 以上3. 將閥門拉下4. 若上述情形無法運行請勿使用5. 使用完畢，拉起閥門6. 將 DI 機維持在 satndby 的狀態 ( 不是 OFF)

主要按鍵配置簡介圖

曝光顯影機簡介

一般曝光電路板流程準備材料

( )電路圖原稿、器材

原稿、感光版、燈光

曝光 原稿至於感光板上30-90秒

顯影劑塑膠容器

顯影(1 10)顯影劑加水調和 ：

輕搖容器，靜置30-60秒

氧化鐵溶液塑膠容器

蝕刻加入氧化鐵溶液

20沒加熱時 分鐘10加熱時 分鐘

檢查成品

光學顯微鏡 OM 簡介 光學顯微鏡的儀器裝置簡便，其成像原理是利用可

見光照射在試片表面造成局部散射或反射來形成不同的對比，然而因為可見光的波長高達 4000-7000埃，在解析度 ( 或謂鑑別率、解像能，係指兩點能被分辨的最近距離 ) 的考量上自然是最差的。在一般的操作下，由於肉眼的鑑別率僅有 0.2 mm ，當光學顯微鏡的最佳解析度只有 0.2 um 時，理論上的最高放大倍率只有 1000 X，放大倍率有限，但視野卻反而是各種成像系統中最大的，這說明了光學顯微鏡的觀察事實上仍能提供許多初步的結構資料。

光學顯微鏡設備圖