2017年度版

ミクロ光学系 A13097-11、-12（オフライン用）ミクロ光学系 A13097-01、-02

■ ミクロ光学系 A13097-01、-02

■ ミクロ光学系 A13097-11、-12

外形寸法図仕様

7040

12

2.5

57.52

30.5

150

10

8

280130

17

7.5

※1 ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。　※2 400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。

※3 使用する光学系または対物レンズの倍率による

型名測定膜厚範囲(ガラス）※1

測定再現性(ガラス）※2※3

測定精度※3

光源測定波長範囲スポットサイズ※3

ワーキングディスタンス※3

高度変動最大繰り返し周波数計測時間ライトガイドコネクタ形状

0.2 nm±0.4 ％

ハロゲン光源

φ100 μm32 mm±2 mm200 Hz

3 ms/pointFC

■ C13027とA13097を組み合わせた場合の仕様

Ａ13097-01、-11100 ｎm～100 μm

700 nm～1100 nm

Ａ13097-02、-1210 ｎm～50 μm

400 nm～800 nm

（単位：mm)

☆Windowsは米国Microsoft Corporationの米国、日本およびその他の国における登録商標または商標です。

Optical Gauge

Optical NanoGauge 膜厚計 / Optical MicroGauge 厚み計オプティカルナノゲージ

オプティカル ゲージ

オプティカルマイクロゲージ

シリーズ

※記載商品名、ソフト名等は該当商品製造会社の商標または登録商標です。※本カタログの記載内容は2017年3月現在のものです。本内容は改良のため予告なく変更する場合があります。

Cat. No. SSMS0043J13MAR/2017 CR(3000)

□ システム営業推進部 　〒431-3196　浜松市東区常光町812　TEL (053)431-0150 FAX (053)433-8031

□□□□□□

TEL (022)267-0121 FAX (022)267-0135TEL (029)848-5080 FAX (029)855-1135TEL (03)3436-0491 FAX (03)3433-6997TEL (053)459-1112 FAX (053)459-1114TEL (06)6271-0441 FAX (06)6271-0450TEL (092)482-0390 FAX (092)482-0550

〒980-0021　仙台市青葉区中央3-2-1（青葉通プラザ 11階）〒305-0817　つくば市研究学園5-12-10（研究学園スクウェアビル7階）〒105-0001　東京都港区虎ノ門3-8-21（虎ノ門33森ビル5階）〒430-8587　浜松市中区砂山町325-6（日本生命浜松駅前ビル）〒541-0052　大阪市中央区安土町2-3-13（大阪国際ビル10階）〒812-0013　福岡市博多区博多駅東1-13-6（竹山博多ビル5階）

仙 台 営 業 所筑 波 営 業 所東 京 営 業 所中 部 営 業 所大 阪 営 業 所西日本営業所

www.hamamatsu.com

スポットサイズを絞り、界面粗さや散乱サンプル、膜厚ムラに対応

ミクロ光学系 A13097

ミクロ光学系 A13097は、広い視野域では測

定が困難なサンプルに対応する光学系です。

Optical NanoGauge 膜厚計 C13027や

C12562と組み合わせることにより、スポット

径をφ100 μmに絞ることができ、測定が困難で

あった界面粗さや散乱の大きなサンプル、パ

ターン上の微小エリア測定などが可能になりま

す。高さ変動にも強い光学系のため、様々な製造

現場での測定を実現しました。オフライン用のサ

ンプルステージタイプも用意しています。

オプション 製品

Optical NanoGauge 膜厚計Ｃ13027 対応　 Optical NanoGauge 膜厚計Ｃ12562 対応　

C10323

Optical NanoGauge

Optical Gauge

C12562

Optical MicroGauge

C13027

C11011

C10178C11295

3

● 基準点に対して0° ～5° の角度依存性、 基準点のWD 10 mm

角度0°3°5°

Optical NanoGauge702.23 nm702.29 nm702.62 nm

標準的な膜厚測定器702.47 nm703.70 nm709.38 nm

8

6

4

2

0

-20° 3° 5°

変動量(nm)

入射角度Optical NanoGauge標準的な膜厚測定器

変動値 : 0.39 nm

角度依存性

計測システム設計が簡単

0°～5°までの角度変動量において

700 nm ガラス測定例

浜松ホトニクスは、

最先端の分光技術を礎に

独自の高精度厚み測定装置の

開発を進めています。

● 基準点に対して±3 mm（1 mmピッチ）の デフォ－カス依存性、基準点のWD 10 mm

デフォ－カス依存性位置

-3 mm-2 mm-1 mm基準点

+1 mm+2 mm+3 mm

Optical NanoGauge701.59 nm701.63 nm701.66 nm701.65 nm701.66 nm701.67 nm701.65 nm

標準的な膜厚測定器698.39 nm699.92 nm701.13 nm702.37 nm703.51 nm704.74 nm705.91 nm

3

3

2

2

1

10

-1-1

-2

-2

-3

-3

Optical NanoGauge標準的な膜厚測定器

0

変動量（nm)

高さ移動量（mm)

±3 mmのデフォーカス（高さ移動）において

変動値 : 0.1 nm以下（標準的な膜厚測定器では、8 nm程度の変動）

700 nm ガラス測定例

ナノオーダの薄膜測定を対象にしたOptical

NanoGaugeとマイクロオーダでの厚み測定を対象

にしたOptical MicroGaugeをラインアップして

います。インライン装置組み込みを重視したOEM

向けの一体型モデルをはじめ、多点同時測定が可能

なモデルや顕微領域を対象にしたモデルなど、様々

な装置を取り揃え、コーティングフィルムの極薄

膜・多層膜測定から半導体ウェーハのシリコン基板

厚の測定まで、お客様の幅広い要求に応えます。

(0.047 ％）

（標準的な膜厚測定器では、5 nm以上の変動）

メリット Optical Gauge シリーズはデフォーカス依存性・角度依存性に優れています。設置時に以下のようなメリットがあります。

0.5 μm 300 μmガラス

25 μm

2900 μm

ガラス

20 nm

20 nm

50 μmガラス

50 μmガラス20 nm

100 μmガラス

10 nm 100 μmガラス

※本カタログでは、ガラスの屈折率を1.5、シリコンの屈折率を3.67としています。100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

メンテナンス後の復帰時間が短い

調整治具が不要

コスト低減

ラインアップ

ミクロ計測顕微タイプ基礎研究用機能拡張タイプ多点測定対応極薄膜測定高速測定対応 装置組み込み1Boxタイプ

厚膜対応高速測定

2

測定原理 両面解析

Optical Gauge シリーズ

Q&A

Optical NanoGauge 膜厚計　

C12562

Optical NanoGauge 膜厚計

C10178

Multipoint NanoGauge 膜厚計

C11295

Optical NanoGauge 膜厚計

C10323

Optical MicroGauge 厚み計

C11011

ミクロ光学系

A13097

Optical NanoGauge 膜厚計

C13027

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ13027 対応Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ12562 対応

トラバースユニット

C13800-011505

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ13027 対応　

ロール to ロール工程での設置例各製造現場での設置紹介 04

オプション製 品

ラインアップ・メリット 03

06

08

10

12

14

16

18

20

22

24

マッピングステージ

C8126 シリーズ

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ13027 対応Optical MicroGauge 厚み計 C11011 対応　

オプション製 品

オプション製 品

23

Optical Gauge

サンプル厚さ

C10323

Optical NanoGauge

Optical Gauge

C12562

Optical MicroGauge

C13027

C11011

C10178C11295

3

● 基準点に対して0° ～5° の角度依存性、 基準点のWD 10 mm

角度0°3°5°

Optical NanoGauge702.23 nm702.29 nm702.62 nm

標準的な膜厚測定器702.47 nm703.70 nm709.38 nm

8

6

4

2

0

-20° 3° 5°

変動量(nm)

入射角度Optical NanoGauge標準的な膜厚測定器

変動値 : 0.39 nm

角度依存性

計測システム設計が簡単

0°～5°までの角度変動量において

700 nm ガラス測定例

浜松ホトニクスは、

最先端の分光技術を礎に

独自の高精度厚み測定装置の

開発を進めています。

● 基準点に対して±3 mm（1 mmピッチ）の デフォ－カス依存性、基準点のWD 10 mm

デフォ－カス依存性位置

-3 mm-2 mm-1 mm基準点

+1 mm+2 mm+3 mm

Optical NanoGauge701.59 nm701.63 nm701.66 nm701.65 nm701.66 nm701.67 nm701.65 nm

標準的な膜厚測定器698.39 nm699.92 nm701.13 nm702.37 nm703.51 nm704.74 nm705.91 nm

3

3

2

2

1

10

-1-1

-2

-2

-3

-3

Optical NanoGauge標準的な膜厚測定器

0

変動量（nm)

高さ移動量（mm)

±3 mmのデフォーカス（高さ移動）において

変動値 : 0.1 nm以下（標準的な膜厚測定器では、8 nm程度の変動）

700 nm ガラス測定例

ナノオーダの薄膜測定を対象にしたOptical

NanoGaugeとマイクロオーダでの厚み測定を対象

にしたOptical MicroGaugeをラインアップして

います。インライン装置組み込みを重視したOEM

向けの一体型モデルをはじめ、多点同時測定が可能

なモデルや顕微領域を対象にしたモデルなど、様々

な装置を取り揃え、コーティングフィルムの極薄

膜・多層膜測定から半導体ウェーハのシリコン基板

厚の測定まで、お客様の幅広い要求に応えます。

(0.047 ％）

（標準的な膜厚測定器では、5 nm以上の変動）

メリット Optical Gauge シリーズはデフォーカス依存性・角度依存性に優れています。設置時に以下のようなメリットがあります。

0.5 μm 300 μmガラス

25 μm

2900 μm

ガラス

20 nm

20 nm

50 μmガラス

50 μmガラス20 nm

100 μmガラス

10 nm 100 μmガラス

※本カタログでは、ガラスの屈折率を1.5、シリコンの屈折率を3.67としています。100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

メンテナンス後の復帰時間が短い

調整治具が不要

コスト低減

ラインアップ

ミクロ計測顕微タイプ基礎研究用機能拡張タイプ多点測定対応極薄膜測定高速測定対応 装置組み込み1Boxタイプ

厚膜対応高速測定

2

測定原理 両面解析

Optical Gauge シリーズ

Q&A

Optical NanoGauge 膜厚計　

C12562

Optical NanoGauge 膜厚計

C10178

Multipoint NanoGauge 膜厚計

C11295

Optical NanoGauge 膜厚計

C10323

Optical MicroGauge 厚み計

C11011

ミクロ光学系

A13097

Optical NanoGauge 膜厚計

C13027

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ13027 対応Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ12562 対応

トラバースユニット

C13800-011505

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ13027 対応　

ロール to ロール工程での設置例各製造現場での設置紹介 04

オプション製 品

ラインアップ・メリット 03

06

08

10

12

14

16

18

20

22

24

マッピングステージ

C8126 シリーズ

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ13027 対応Optical MicroGauge 厚み計 C11011 対応　

オプション製 品

オプション製 品

23

Optical Gauge

サンプル厚さ

塗 布 装 置 向 けインライン 計 測Multipoint NanoGauge 膜厚計

C11295

巻出し

断裁 巻取り

乾燥・硬化

Multipoint NanoGauge 膜厚計C11295 Optical NanoGauge 膜厚計

C12562/C13027Optical MicroGauge厚み計

C11011

塗布・成膜（PVD/CVD)

樹脂、接着層、ITO、ウェット膜

塗布膜測定

真 空 成 膜 装 置 向 けインライン 計 測

フランジ

真空チャンバ最大15ポイント

透過測定も可能フィルム厚、中間膜、総厚

乾燥・貼り合わせ後の測定

ロール to ロール工程での設置例

ITO、SiOx、NbO

フィルム厚管理 蒸着膜(PVD/CVD)

両面測定

反射率・透過率測定 色度測定

4

タッチパネル

スマートフォンをはじめ、タブレット型端末・デジタルカメラ

の背面液晶・先端ゲーム機など最近注目を集めるデジタル

製品は、タッチパネルへの対応がキーとなっています。タッ

チパネルの検出方式は様々ですが、ここでは投影型静電容

量方式での製造工程を紹介し、その工程で使用されている

Optical Gaugeシリーズをご案内します。

原版受入 エッチング

ガラ ス 製 造 工 程 ( 静 電 容 量 方 式 )

周辺回路作成

裏面ITOパターニングITOパターニング

FPD（有機EL）

Optical Gaugeシリーズは、液晶・LED・有機EL・など

FPD（フラットパネルディスプレイ)の製造過程の多岐に

わたる工程で使用することが可能です。

フィルム

高機能フィルムは、液晶ディスプレイや二次電池、ソーラ

ーパネルなど、先端工業において必要不可欠になってい

ます。その性能と生産性を向上させるために、各種検査

工程でOptical Gaugeシリーズが用いられています。

原材料溶解 縦延伸

フィル ム 製 造 前 工 程

横延伸

熱処理・巻取り

流延

C11011

半導体

■ 半導体ウェーハ上膜■ 薄膜測定

・SiO2・SiC膜 ・Si膜 ・TiO2 等金属酸化膜・窒化膜 ・ウェット状態の膜 ・レジスト膜　・シリコン残膜厚・光ディスク・DLC・カーボン

フィルム

■ コーティングフィルム■ プラスチックフィルム■ 物体色測定

・AR膜 ・PET ・コーティング層・PE・PMMA・塗布膜 ・蒸着膜 ・機能性フィルム・Agナノワイヤー・アクリル樹脂 ・ビデオヘッド

FPD

■ FPDパネルの膜厚/色測定

・セルギャップ ・有機EL膜・配向膜・TFT・Agナノワイヤー・ガラス基板のITO、 MgO、レジスト膜・ポリイミド

・FPD用高機能フィルム・カラーフィルム

In-situ測定

■ 成膜プロセスモニタ■ ドライ/ウエットエッチング測定

プロセス供給ガス

プロセス排ガス

成膜プロセス

・SiO2・Si膜 等金属酸化膜

5

製 品 製 造 工 程 ( 静 電 容 量 方 式 )

周辺回路作成 検査

カバーガラス貼り合わせエッチング

ヒートシール

ガラ ス 製 造 工 程

フレキシブルプリント基板

C13027/C11295C13027/C11295C13027/C11295

C13027/C11295 C13027/C11295 C13027/C11295 C13027/C11295 C13027/C11295

C13027/C11295 C11011

C12562

C11011

C12562

C11011C11011C11011C11011C11011

C12562

C11011

C12562C12562

フィル ム 製 造 前 工 程

C13027/C12562/C11295

巻出し

塗布 乾燥・硬化

裁断・巻取り

塗布前処理

ライトガイドの途中にフランジを設けて、チャンバ内と接続します。チャンバ内に設置できるライトガイドは、最大15本で長さは3 m以下になります。※詳細はお問い合わせください。

真空条件

・真空度 ： 10 -5 Pa・環境温度 ： +80 ℃以下

※真空中のファイバの曲げ半径は、R100 mm以上になります。

Optical Gaugeシリーズは、多種多彩な製造現場の各工程で使用することができます。各製造現場での設置紹介

前 工 程半導体デバイス

Optical Gaugeシリーズは、多層化するメタル配線やプ

ロセスの微細化・低電圧化が進む半導体デバイス製造工

程の様々な製造工程で使用され、歩留り向上やプロセス

立ち上げ期間の短縮に貢献しています。

ウェー ハ 製 造 工 程

ウェーハ研磨インゴット引き上げ

インゴット切断

フォトレジスト塗布

露光パターニング エッチング

イオン注入

ウェーハ平坦化 洗浄酸化・拡散・成膜

ウェーハ表面を酸化

繰り返し

繰り返し

C11011 C13027/C11295

C13027/C11295

C13027/C11295

後 工 程

後 工 程

ウェーハ検査

ウェーハ薄片化

ウェーハダイシング

ワイヤーボンディング

テスター モールド

製品検査

ステルスダイシング

電極形成

C11011 C11011

C12562

カソードの形成 成膜（CVD）封止層の形成 切り分け

回路のはめ込み

点灯検査フィルタの貼りあわせシール材硬化促進

熱硬化シール材硬化促進

ＵＶ硬化基板ガラスと前工程基盤

の張り合わせ基板ガラスへ

シール材の塗布蒸着・有機層の形成カソードセパレータ

の形成

前工程

C11011 C11011

アノード形成アクティブ素子の形成 絶縁層の形成

塗 布 装 置 向 けインライン 計 測Multipoint NanoGauge 膜厚計

C11295

巻出し

断裁 巻取り

乾燥・硬化

Multipoint NanoGauge 膜厚計C11295 Optical NanoGauge 膜厚計

C12562/C13027Optical MicroGauge厚み計

C11011

塗布・成膜（PVD/CVD)

樹脂、接着層、ITO、ウェット膜

塗布膜測定

真 空 成 膜 装 置 向 けインライン 計 測

フランジ

真空チャンバ最大15ポイント

透過測定も可能フィルム厚、中間膜、総厚

乾燥・貼り合わせ後の測定

ロール to ロール工程での設置例

ITO、SiOx、NbO

フィルム厚管理 蒸着膜(PVD/CVD)

両面測定

反射率・透過率測定 色度測定

4

タッチパネル

スマートフォンをはじめ、タブレット型端末・デジタルカメラ

の背面液晶・先端ゲーム機など最近注目を集めるデジタル

製品は、タッチパネルへの対応がキーとなっています。タッ

チパネルの検出方式は様々ですが、ここでは投影型静電容

量方式での製造工程を紹介し、その工程で使用されている

Optical Gaugeシリーズをご案内します。

原版受入 エッチング

ガラ ス 製 造 工 程 ( 静 電 容 量 方 式 )

周辺回路作成

裏面ITOパターニングITOパターニング

FPD（有機EL）

Optical Gaugeシリーズは、液晶・LED・有機EL・など

FPD（フラットパネルディスプレイ)の製造過程の多岐に

わたる工程で使用することが可能です。

フィルム

高機能フィルムは、液晶ディスプレイや二次電池、ソーラ

ーパネルなど、先端工業において必要不可欠になってい

ます。その性能と生産性を向上させるために、各種検査

工程でOptical Gaugeシリーズが用いられています。

原材料溶解 縦延伸

フィル ム 製 造 前 工 程

横延伸

熱処理・巻取り

流延

C11011

半導体

■ 半導体ウェーハ上膜■ 薄膜測定

・SiO2・SiC膜 ・Si膜 ・TiO2 等金属酸化膜・窒化膜 ・ウェット状態の膜 ・レジスト膜　・シリコン残膜厚・光ディスク・DLC・カーボン

フィルム

■ コーティングフィルム■ プラスチックフィルム■ 物体色測定

・AR膜 ・PET ・コーティング層・PE・PMMA・塗布膜 ・蒸着膜 ・機能性フィルム・Agナノワイヤー・アクリル樹脂 ・ビデオヘッド

FPD

■ FPDパネルの膜厚/色測定

・セルギャップ ・有機EL膜・配向膜・TFT・Agナノワイヤー・ガラス基板のITO、 MgO、レジスト膜・ポリイミド

・FPD用高機能フィルム・カラーフィルム

In-situ測定

■ 成膜プロセスモニタ■ ドライ/ウエットエッチング測定

プロセス供給ガス

プロセス排ガス

成膜プロセス

・SiO2・Si膜 等金属酸化膜

5

製 品 製 造 工 程 ( 静 電 容 量 方 式 )

周辺回路作成 検査

カバーガラス貼り合わせエッチング

ヒートシール

ガラ ス 製 造 工 程

フレキシブルプリント基板

C13027/C11295C13027/C11295C13027/C11295

C13027/C11295 C13027/C11295 C13027/C11295 C13027/C11295 C13027/C11295

C13027/C11295 C11011

C12562

C11011

C12562

C11011C11011C11011C11011C11011

C12562

C11011

C12562C12562

フィル ム 製 造 前 工 程

C13027/C12562/C11295

巻出し

塗布 乾燥・硬化

裁断・巻取り

塗布前処理

ライトガイドの途中にフランジを設けて、チャンバ内と接続します。チャンバ内に設置できるライトガイドは、最大15本で長さは3 m以下になります。※詳細はお問い合わせください。

真空条件

・真空度 ： 10 -5 Pa・環境温度 ： +80 ℃以下

※真空中のファイバの曲げ半径は、R100 mm以上になります。

Optical Gaugeシリーズは、多種多彩な製造現場の各工程で使用することができます。各製造現場での設置紹介

前 工 程半導体デバイス

Optical Gaugeシリーズは、多層化するメタル配線やプ

ロセスの微細化・低電圧化が進む半導体デバイス製造工

程の様々な製造工程で使用され、歩留り向上やプロセス

立ち上げ期間の短縮に貢献しています。

ウェー ハ 製 造 工 程

ウェーハ研磨インゴット引き上げ

インゴット切断

フォトレジスト塗布

露光パターニング エッチング

イオン注入

ウェーハ平坦化 洗浄酸化・拡散・成膜

ウェーハ表面を酸化

繰り返し

繰り返し

C11011 C13027/C11295

C13027/C11295

C13027/C11295

後 工 程

後 工 程

ウェーハ検査

ウェーハ薄片化

ウェーハダイシング

ワイヤーボンディング

テスター モールド

製品検査

ステルスダイシング

電極形成

C11011 C11011

C12562

カソードの形成 成膜（CVD）封止層の形成 切り分け

回路のはめ込み

点灯検査フィルタの貼りあわせシール材硬化促進

熱硬化シール材硬化促進

ＵＶ硬化基板ガラスと前工程基盤

の張り合わせ基板ガラスへ

シール材の塗布蒸着・有機層の形成カソードセパレータ

の形成

前工程

C11011 C11011

アノード形成アクティブ素子の形成 絶縁層の形成

6

膜

基板

入射光

反射光

強度

波長

強度

波長

強度

波長

膜厚小位相差

山谷の数が増加

膜厚大

厚みがあると、山谷の数が増加します。また、横軸を波長とした場合は、短波長側の間隔は長波長側の間隔よりも短くなります。

フーリエ変換

■ 透明電極 ITO膜 （350 nm）の干渉スペクトル測定例

■ エタロン（30 μm) 測定例

カーブフィッテイング法による解析

測定された反射率と理論値の反射率の差の二乗が最も小さくなる膜厚値を求めます。

25

22.5

20

17.5

15

12.5

波長（nm)500 600 800 1000

反射

率（%

)

700 900

強度

6.00

4.00

2.00

0.00

光学的膜厚（μm)0.1 1.0 10

30 μm

100

FFT（高速フーリエ変換）による解析

波長（nm)400 600 800

80

60

40

20

反射

率（%

)

500 700

分光反射率(測定値)

理論波形

膜厚が1 μm以下の膜厚測定に有効

膜厚が1 μm以上の膜厚測定に有効

測 定原 理

7

表面コーティング膜：1層目

基板

表面コーティング膜：2層目

裏面コーティング膜

150 nm（n=2.0）

100 nm（n=1.5）

1000 nm（n=1.5）

　100 μm（n=1.7）

膜 厚両面コーティングサンプル

1

2

3

裏面コーティング膜の厚さを100 nm厚くした場合

反射率

波長（nm)400 600 800 1000

反射率

波長（nm)400 600 800 1000

通常測定

膜厚解析結果1

2

3

143.69 nm119.25 nm

1120.00 nm

膜厚解析結果

147.28 nm120.06 nm960.00 nm

1

2

3

測定値の誤差が大きい

測定誤差が大きいと同時に裏面コーティング膜の変化に追従できず

正確な数値が求められない

反射率

波長（nm)400 600 800 1000

反射率

波長（nm)400 600 800 1000

両面解析

膜厚解析結果

150 nm100 nm

1000 nm

膜厚解析結果

150 nm100 nm

1100 nm

1

2

3

1

2

3

表面はもとより裏面のコーティング膜の厚さも

高い精度で測定

高い精度で測定さらに裏面コーティング膜の

変化にも追従

※解析モデルを使用したシミュレーション結果です。

※解析モデルを使用したシミュレーション結果です。

両 面解 析 膜厚計測ソフトウエア 両面解析 U12708-01を使用した解析です。(特許出願中）

赤線：測定値（シミュレーション）青線：理論波形

(Optical NanoGauge 膜厚計 C13027とC12562に対応)

両面コーティングサンプルに対応する両面解析。薄膜サンプルには、裏面にもコーティング膜を施す場合があります。この両面コーティングサンプルに通常の計測をした場合、裏面膜からの影響を考慮していないので、フィッテイングが一致せず、正確な測定値を求めることができません。また、裏面の膜厚が変化すると測定が追従できなくなり、測定値に大きな影響がでてしまいます。Optical Gauge では、オプションの両面解析機能を搭載することで、裏面のコーティング膜からの影響を考慮したフィッティング解析が可能になり、両面コーティングサンプルでも正確な測定が可能です。

膜厚測定には、分光干渉法を採用。薄膜サンプルに白色光を入射すると、膜内部で多重反射が起こります。この多重反射光は、互いの位相差に応じて強めあったり弱めあったりします。各多重反射光の位相差は、光の波長と光路長（＝薄膜内で光が往復する距離×膜の屈折率）によって決まります。このため、サンプルからの反射または透過スペクトルは、膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。分光干渉式膜厚測定装置では、カーブフィッティング法とFFT(高速フーリエ変換）をアプリケーションにより使い分けて解析することができます。

6

膜

基板

入射光

反射光

強度

波長

強度

波長

強度

波長

膜厚小位相差

山谷の数が増加

膜厚大

厚みがあると、山谷の数が増加します。また、横軸を波長とした場合は、短波長側の間隔は長波長側の間隔よりも短くなります。

フーリエ変換

■ 透明電極 ITO膜 （350 nm）の干渉スペクトル測定例

■ エタロン（30 μm) 測定例

カーブフィッテイング法による解析

測定された反射率と理論値の反射率の差の二乗が最も小さくなる膜厚値を求めます。

25

22.5

20

17.5

15

12.5

波長（nm)500 600 800 1000

反射

率（%

)

700 900

強度

6.00

4.00

2.00

0.00

光学的膜厚（μm)0.1 1.0 10

30 μm

100

FFT（高速フーリエ変換）による解析

波長（nm)400 600 800

80

60

40

20

反射

率（%

)

500 700

分光反射率(測定値)

理論波形

膜厚が1 μm以下の膜厚測定に有効

膜厚が1 μm以上の膜厚測定に有効

測 定原 理

7

表面コーティング膜：1層目

基板

表面コーティング膜：2層目

裏面コーティング膜

150 nm（n=2.0）

100 nm（n=1.5）

1000 nm（n=1.5）

　100 μm（n=1.7）

膜 厚両面コーティングサンプル

1

2

3

裏面コーティング膜の厚さを100 nm厚くした場合

反射率

波長（nm)400 600 800 1000

反射率

波長（nm)400 600 800 1000

通常測定

膜厚解析結果1

2

3

143.69 nm119.25 nm

1120.00 nm

膜厚解析結果

147.28 nm120.06 nm960.00 nm

1

2

3

測定値の誤差が大きい

測定誤差が大きいと同時に裏面コーティング膜の変化に追従できず

正確な数値が求められない

反射率

波長（nm)400 600 800 1000

反射率

波長（nm)400 600 800 1000

両面解析

膜厚解析結果

150 nm100 nm

1000 nm

膜厚解析結果

150 nm100 nm

1100 nm

1

2

3

1

2

3

表面はもとより裏面のコーティング膜の厚さも

高い精度で測定

高い精度で測定さらに裏面コーティング膜の

変化にも追従

※解析モデルを使用したシミュレーション結果です。

※解析モデルを使用したシミュレーション結果です。

両 面解 析 膜厚計測ソフトウエア 両面解析 U12708-01を使用した解析です。(特許出願中）

赤線：測定値（シミュレーション）青線：理論波形

(Optical NanoGauge 膜厚計 C13027とC12562に対応)

両面コーティングサンプルに対応する両面解析。薄膜サンプルには、裏面にもコーティング膜を施す場合があります。この両面コーティングサンプルに通常の計測をした場合、裏面膜からの影響を考慮していないので、フィッテイングが一致せず、正確な測定値を求めることができません。また、裏面の膜厚が変化すると測定が追従できなくなり、測定値に大きな影響がでてしまいます。Optical Gauge では、オプションの両面解析機能を搭載することで、裏面のコーティング膜からの影響を考慮したフィッティング解析が可能になり、両面コーティングサンプルでも正確な測定が可能です。

膜厚測定には、分光干渉法を採用。薄膜サンプルに白色光を入射すると、膜内部で多重反射が起こります。この多重反射光は、互いの位相差に応じて強めあったり弱めあったりします。各多重反射光の位相差は、光の波長と光路長（＝薄膜内で光が往復する距離×膜の屈折率）によって決まります。このため、サンプルからの反射または透過スペクトルは、膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。分光干渉式膜厚測定装置では、カーブフィッティング法とFFT(高速フーリエ変換）をアプリケーションにより使い分けて解析することができます。

10 nm～100 μmの薄膜を高速測定

8

Optical NanoGauge 膜厚計C13027シーケンサ接続に対応し、製造装置組み込みを容易にしたモデル

10 nm 100 μm

100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

ガラス対応測定範囲

特長

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ13027は、分光干渉法を利用した非接触の膜厚測定装置です。シーケンサ接続や膜厚と色の

同時計測機能に加え、装置組み込みを容易にするために、従来製品に比べ小型化を実現しました。Optical Gaugeシリーズでは最

も薄い10 nmの極薄膜測定に対応することができます。また、10 nm～100 μmと幅広い膜厚測定範囲の対象に適応します。

さらに、最速200 Hzの高速測定も可能なため、高速ラインでの測定にも対応することができます。

シーケンサ接続に対応タクトタイムを短縮10 nmの薄膜測定に対応膜厚と色の同時計測可能小型化広波長対応

※1　ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。　※2　400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。

型名測定膜厚範囲(ガラス）※1

測定再現性(ガラス）※2※3

測定精度※3※4

光源測定波長範囲スポットサイズ※3

ワーキングディスタンス※3

測定可能層数解析計測時間※5

外部通信インターフェース出力信号

入力信号電源電圧消費電力ライトガイドコネクタ形状

C13027-1110 nm～100 μm

0.02 nm±0.4 ％

ハロゲン光源400 nm～1100 nm

約φ1 mm10 mm

最大10層FFT解析、フィッティング解析、光学定数解析、色解析

3 ms/pointRS-232C、 Ethernet

0 V～10 V／ハイインピーダンス　3チャンネル（最大3層）TTL／ハイインピーダンス　1チャンネルTTL／ハイインピーダンス　1チャンネルTTL／ハイインピーダンス　1チャンネル

AC100 V～240 V、50 Hz/60 Hz約80 VA

FC

ソフトウエアに簡易計測を搭載両面解析が可能高さ変動に強い光学定数　　解析マッピングに対応

9

C13027 システム構成例 （オフライン）

Optical NanoGauge 膜厚計C13027

膜厚計測ソフトウエア

標準構成オプション

RS-232C/Ethernet

C13027 システム構成例 （インライン）

標準構成オプション

データ解析モジュールM11698

エッチング装置成膜装置などの製造装置

対象物

装置制御PC

Optical NanoGauge 膜厚計C13027

サンプルステージ

サンプル

（単位：mm)

D95PコネクタFCコネクタ

SUS可とう管

■ 本体（約4.7 kg)

φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。集光機能はありません。従来品のA10192-04をペンタイプにして、サンプルを見やすくしたモデルです。WD：約10 mm　測定スポット径：φ1 mm従来品のA10192-04も用意しています。（P11参照）

φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。色収差補正済み可視用集光レンズ付きです。WD：約35 mm　測定スポット径：φ1.5 mm

A10192-05の集光レンズ部のみのユニットです。WD：約35 mm　測定スポット径：φ1.5 mm

外形寸法図

■ サンプルステージ Optical NanoGauge用　A10192-10 ■ 2分岐ライトガイド

φ1

0

5000200

φ1

2

φ2

0

150

75

14

8

10

8

130

280

333

12

3.5

6

202

膜厚計測ソフトウエア

サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。

膜

基板

入射光

反射光

位相差

【原理図】強度

波長強度

波長

強度

波長

膜厚小

山谷の数が増加

膜厚大

□ 集光光学系 FC型 可視用　 A10191-03

□ サンプルステージ Optical NanoGauge用 　 A10192-10

□ サンプルステージ FC型 可視用集光レンズタイプ　 A10192-05

モニタ、マウス、キーボードのみのユニットです。

□ データ解析モジュール　 M11698

□ FCレセプタクル　A12187-02 架台設置時にライトガイドコネクタを取り付ける治具です。

□ ランプユニット　L12839-01 C13027及びC12562用の交換用ランプユニットです。

□ 膜厚計測ソフトウエア 両面解析　U12708-01 両面解析に対応したソフトウエアです。

● 計測時間：2 s/point ● 測定エリア ：最大140 mm角（C8126-31)　　　　　　　　＜4インチ～8インチ＞　　　　　　 ：最大200 mm角（C8126-32)　　　　　　　　＜4インチ～12インチ＞● ステージ移動分解能 : 0.1 mm● ステージ繰り返し位置決め精度：±0.01 mm

□ マッピングステージ φ200 mm　C8126-31　 マッピングステージ φ300 mm　C8126-32

※ファイバの曲げ半径は、R75 mm以上になります。

アナログ出力アラーム出力ワーニング出力計測開始信号

ノート型のデータ解析装置です。

□ データ解析装置 ノート型　C10471-21

□ トラバースユニット C13800-011505Ｃ13027と組み合わせることで容易にインライン膜厚測定システムの構築が可能です。（詳細は、Ｐ２２参照）

（最速200 Hz）

（設置面積30 ％減 ： C12562と比較）

（400 nm～1100 nm）

（n、k）

構成例

オプション

仕様 原理

膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。

※3　使用する光学系または対物レンズの倍率による。※4　VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。　　※5　最短露光時間。

極薄膜測定高速測定対応

10 nm～100 μmの薄膜を高速測定

8

Optical NanoGauge 膜厚計C13027シーケンサ接続に対応し、製造装置組み込みを容易にしたモデル

10 nm 100 μm

100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

ガラス対応測定範囲

特長

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ13027は、分光干渉法を利用した非接触の膜厚測定装置です。シーケンサ接続や膜厚と色の

同時計測機能に加え、装置組み込みを容易にするために、従来製品に比べ小型化を実現しました。Optical Gaugeシリーズでは最

も薄い10 nmの極薄膜測定に対応することができます。また、10 nm～100 μmと幅広い膜厚測定範囲の対象に適応します。

さらに、最速200 Hzの高速測定も可能なため、高速ラインでの測定にも対応することができます。

シーケンサ接続に対応タクトタイムを短縮10 nmの薄膜測定に対応膜厚と色の同時計測可能小型化広波長対応

※1　ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。　※2　400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。

型名測定膜厚範囲(ガラス）※1

測定再現性(ガラス）※2※3

測定精度※3※4

光源測定波長範囲スポットサイズ※3

ワーキングディスタンス※3

測定可能層数解析計測時間※5

外部通信インターフェース出力信号

入力信号電源電圧消費電力ライトガイドコネクタ形状

C13027-1110 nm～100 μm

0.02 nm±0.4 ％

ハロゲン光源400 nm～1100 nm

約φ1 mm10 mm

最大10層FFT解析、フィッティング解析、光学定数解析、色解析

3 ms/pointRS-232C、 Ethernet

0 V～10 V／ハイインピーダンス　3チャンネル（最大3層）TTL／ハイインピーダンス　1チャンネルTTL／ハイインピーダンス　1チャンネルTTL／ハイインピーダンス　1チャンネル

AC100 V～240 V、50 Hz/60 Hz約80 VA

FC

ソフトウエアに簡易計測を搭載両面解析が可能高さ変動に強い光学定数　　解析マッピングに対応

9

C13027 システム構成例 （オフライン）

Optical NanoGauge 膜厚計C13027

膜厚計測ソフトウエア

標準構成オプション

RS-232C/Ethernet

C13027 システム構成例 （インライン）

標準構成オプション

データ解析モジュールM11698

エッチング装置成膜装置などの製造装置

対象物

装置制御PC

Optical NanoGauge 膜厚計C13027

サンプルステージ

サンプル

（単位：mm)

D95PコネクタFCコネクタ

SUS可とう管

■ 本体（約4.7 kg)

φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。集光機能はありません。従来品のA10192-04をペンタイプにして、サンプルを見やすくしたモデルです。WD：約10 mm　測定スポット径：φ1 mm従来品のA10192-04も用意しています。（P11参照）

φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。色収差補正済み可視用集光レンズ付きです。WD：約35 mm　測定スポット径：φ1.5 mm

A10192-05の集光レンズ部のみのユニットです。WD：約35 mm　測定スポット径：φ1.5 mm

外形寸法図

■ サンプルステージ Optical NanoGauge用　A10192-10 ■ 2分岐ライトガイド

φ1

0

5000200

φ1

2

φ2

0

150

75

14

8

10

8

130

280

333

12

3.5

6

202

膜厚計測ソフトウエア

サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。

膜

基板

入射光

反射光

位相差

【原理図】強度

波長強度

波長

強度

波長

膜厚小

山谷の数が増加

膜厚大

□ 集光光学系 FC型 可視用　 A10191-03

□ サンプルステージ Optical NanoGauge用 　 A10192-10

□ サンプルステージ FC型 可視用集光レンズタイプ　 A10192-05

モニタ、マウス、キーボードのみのユニットです。

□ データ解析モジュール　 M11698

□ FCレセプタクル　A12187-02 架台設置時にライトガイドコネクタを取り付ける治具です。

□ ランプユニット　L12839-01 C13027及びC12562用の交換用ランプユニットです。

□ 膜厚計測ソフトウエア 両面解析　U12708-01 両面解析に対応したソフトウエアです。

● 計測時間：2 s/point ● 測定エリア ：最大140 mm角（C8126-31)　　　　　　　　＜4インチ～8インチ＞　　　　　　 ：最大200 mm角（C8126-32)　　　　　　　　＜4インチ～12インチ＞● ステージ移動分解能 : 0.1 mm● ステージ繰り返し位置決め精度：±0.01 mm

□ マッピングステージ φ200 mm　C8126-31　 マッピングステージ φ300 mm　C8126-32

※ファイバの曲げ半径は、R75 mm以上になります。

アナログ出力アラーム出力ワーニング出力計測開始信号

ノート型のデータ解析装置です。

□ データ解析装置 ノート型　C10471-21

□ トラバースユニット C13800-011505Ｃ13027と組み合わせることで容易にインライン膜厚測定システムの構築が可能です。（詳細は、Ｐ２２参照）

（最速200 Hz）

（設置面積30 ％減 ： C12562と比較）

（400 nm～1100 nm）

（n、k）

構成例

オプション

仕様 原理

膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。

※3　使用する光学系または対物レンズの倍率による。※4　VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。　　※5　最短露光時間。

極薄膜測定高速測定対応

※1　ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。　※2　1 μm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。※3　使用する光学系または対物レンズの倍率による。※4　VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。　　※5　最短露光時間。

型名測定膜厚範囲(ガラス）※1

測定再現性(ガラス）※2※3

測定精度※3※4

光源スポットサイズ※3

ワーキングディスタンス※3

測定可能層数解析計測時間※5

外部通信インターフェース電源電圧消費電力ライトガイドコネクタ形状

C12562-03500 nm～300 μm

0.2 nm±0.4 ％

ハロゲン光源約φ1 mm10 mm

最大10層FFT解析、フィッティング解析、光学定数解析

3 ms/pointRS-232C、Ethernet

AC100 V～240 V、50 Hz/60 Hz約80 VA

FC

C12562 システム構成例 （オフライン）

Optical NanoGauge 膜厚計C12562

標準構成オプション

RS-232C/Ethernet

C12562 システム構成例 （インライン）

標準構成オプション

エッチング装置成膜装置などの製造装置

対象物

装置制御PC

Optical NanoGauge 膜厚計C12562

サンプルステージ

サンプル

D95Pコネクタ

FCコネクタSUS可とう管

■ 本体（約7.0 kg)

98

.56

408

150

75

53

(M

IN)

18

3

52

2 (M

IN)

27

10

8

130

280

■ サンプルステージ FC型　 A10192-04

OPTICAL NANO GAUGE C12562-01

POWER

LINE

USB3.0 USB2.0 LAN1 LAN2 MONITOR AUDIO

LIGHT

SENSOR

TRIG. IN

292

■ 2分岐ライトガイド

φ1

0

OPTICAL NANO GAUGE C12562-01

POWER

LINE

USB3.0 USB2.0 LAN1 LAN2 MONITOR AUDIO

LIGHT

SENSOR

TRIG. IN

OPTICAL NANO GAUGE C12562-01

POWER

LINE

USB3.0 USB2.0 LAN1 LAN2 MONITOR AUDIO

LIGHT

SENSOR

TRIG. IN

5000200

φ1

2

φ2

0

データ解析モジュールM11698

φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。集光機能はありません。WD：約10 mm　測定スポット径：φ1 mmペンタイプのA10192-10も用意しています。（P9参照）

φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。色収差補正済み可視用集光レンズ付きです。WD：約35 mm　測定スポット径：φ1.5 mm

A10192-05の集光レンズ部のみのユニットです。WD：約35 mm　測定スポット径：φ1.5 mm

モニタ、マウス、キーボードのみのユニットです。

膜厚計測ソフトウエア

膜厚計測ソフトウエア

□ サンプルステージ FC型　 A10192-04

□ 集光光学系 FC型 可視用　 A10191-03

□ サンプルステージ FC型 可視用集光レンズタイプ　 A10192-05

□ データ解析モジュール　 M11698

□ FCレセプタクル　A12187-02 架台設置時にライトガイドコネクタを取り付ける治具です。

□ ランプユニット　L12839-01 C13027及びC12562用の交換用ランプユニットです。

□ 膜厚計測ソフトウエア 両面解析　U12708-01 両面解析に対応したソフトウエアです。

※ファイバの曲げ半径は、R７５ mm以上になります。

0.5 μm～300 μmの薄膜からシリコン基板厚まで幅広い対象に1台で対応可能

10

Optical NanoGauge 膜厚計C12562薄膜から基板まで幅広い対象に対応

0.5 μm 300 μm

100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

ガラス対応測定範囲

特長

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ12562は、関連装置への組み込みを前提に設計された非接触の膜厚測定装置です。半導体市場では

貫通電極技術の採用によりシリコン厚の測定が重要視され、フィルム市場では接着層の薄膜化が進み、共に1 μm～300 μmの範囲での

高精度な厚み測定が必要とされています。C12562の測定範囲は、0.5 μm～300 μmと幅広く、薄膜塗工厚からフィルム基板厚、さらに

は総厚まで測定可能です。また、最高100 Hzの高速測定も可能なため、高速ラインでの測定にも対応します。

薄膜から総厚までの測定に対応タクトタイムを短縮外部トリガを充実（高速測定に対応）

ソフトウエアに簡易計測を追加両面解析が可能高さ変動に強い

光学定数 解析外部機器から制御

11

（単位：mm)外形寸法図

サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。

膜

基板

入射光

反射光

位相差

【原理図】強度

波長強度

波長

強度

波長

膜厚小

山谷の数が増加

膜厚大

（最速100 Hz）

（n、k）

構成例

オプション

仕様 原理

膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。

装置組み込み1Boxタイプ

※1　ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。　※2　1 μm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。※3　使用する光学系または対物レンズの倍率による。※4　VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。　　※5　最短露光時間。

型名測定膜厚範囲(ガラス）※1

測定再現性(ガラス）※2※3

測定精度※3※4

光源スポットサイズ※3

ワーキングディスタンス※3

測定可能層数解析計測時間※5

外部通信インターフェース電源電圧消費電力ライトガイドコネクタ形状

C12562-03500 nm～300 μm

0.2 nm±0.4 ％

ハロゲン光源約φ1 mm10 mm

最大10層FFT解析、フィッティング解析、光学定数解析

3 ms/pointRS-232C、Ethernet

AC100 V～240 V、50 Hz/60 Hz約80 VA

FC

C12562 システム構成例 （オフライン）

Optical NanoGauge 膜厚計C12562

標準構成オプション

RS-232C/Ethernet

C12562 システム構成例 （インライン）

標準構成オプション

エッチング装置成膜装置などの製造装置

対象物

装置制御PC

Optical NanoGauge 膜厚計C12562

サンプルステージ

サンプル

D95Pコネクタ

FCコネクタSUS可とう管

■ 本体（約7.0 kg)

98

.56

408

150

75

53

(M

IN)

18

3

52

2 (M

IN)

27

10

8

130

280

■ サンプルステージ FC型　 A10192-04

OPTICAL NANO GAUGE C12562-01

POWER

LINE

USB3.0 USB2.0 LAN1 LAN2 MONITOR AUDIO

LIGHT

SENSOR

TRIG. IN

292

■ 2分岐ライトガイド

φ1

0

OPTICAL NANO GAUGE C12562-01

POWER

LINE

USB3.0 USB2.0 LAN1 LAN2 MONITOR AUDIO

LIGHT

SENSOR

TRIG. IN

OPTICAL NANO GAUGE C12562-01

POWER

LINE

USB3.0 USB2.0 LAN1 LAN2 MONITOR AUDIO

LIGHT

SENSOR

TRIG. IN

5000200

φ1

2

φ2

0

データ解析モジュールM11698

φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。集光機能はありません。WD：約10 mm　測定スポット径：φ1 mmペンタイプのA10192-10も用意しています。（P9参照）

φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。色収差補正済み可視用集光レンズ付きです。WD：約35 mm　測定スポット径：φ1.5 mm

A10192-05の集光レンズ部のみのユニットです。WD：約35 mm　測定スポット径：φ1.5 mm

モニタ、マウス、キーボードのみのユニットです。

膜厚計測ソフトウエア

膜厚計測ソフトウエア

□ サンプルステージ FC型　 A10192-04

□ 集光光学系 FC型 可視用　 A10191-03

□ サンプルステージ FC型 可視用集光レンズタイプ　 A10192-05

□ データ解析モジュール　 M11698

□ FCレセプタクル　A12187-02 架台設置時にライトガイドコネクタを取り付ける治具です。

□ ランプユニット　L12839-01 C13027及びC12562用の交換用ランプユニットです。

□ 膜厚計測ソフトウエア 両面解析　U12708-01 両面解析に対応したソフトウエアです。

※ファイバの曲げ半径は、R７５ mm以上になります。

0.5 μm～300 μmの薄膜からシリコン基板厚まで幅広い対象に1台で対応可能

10

Optical NanoGauge 膜厚計C12562薄膜から基板まで幅広い対象に対応

0.5 μm 300 μm

100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

ガラス対応測定範囲

特長

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ12562は、関連装置への組み込みを前提に設計された非接触の膜厚測定装置です。半導体市場では

貫通電極技術の採用によりシリコン厚の測定が重要視され、フィルム市場では接着層の薄膜化が進み、共に1 μm～300 μmの範囲での

高精度な厚み測定が必要とされています。C12562の測定範囲は、0.5 μm～300 μmと幅広く、薄膜塗工厚からフィルム基板厚、さらに

は総厚まで測定可能です。また、最高100 Hzの高速測定も可能なため、高速ラインでの測定にも対応します。

薄膜から総厚までの測定に対応タクトタイムを短縮外部トリガを充実（高速測定に対応）

ソフトウエアに簡易計測を追加両面解析が可能高さ変動に強い

光学定数 解析外部機器から制御

11

（単位：mm)外形寸法図

サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。

膜

基板

入射光

反射光

位相差

【原理図】強度

波長強度

波長

強度

波長

膜厚小

山谷の数が増加

膜厚大

（最速100 Hz）

（n、k）

構成例

オプション

仕様 原理

膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。

装置組み込み1Boxタイプ

基礎研究用機能拡張タイプ

※1　ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。 ※2　400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。 ※3　使用する光学系または対物レンズの倍率による。 ※4　VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。 ※5　最短露光時間。

測定膜厚範囲(ガラス）※1 測定再現性(ガラス）※2※3 測定精度※3※4 光源 測定波長範囲 スポットサイズ※3 ワーキングディスタンス※3 測定可能層数 解析 計測時間※5 外部通信機能外部通信インターフェースインターフェース 電源電圧 消費電力 ライトガイドコネクタ形状

C10178-03J （NIR ： 可視吸収サンプル対応）150 nm～50 μm

0.05 nm

ハロゲン光源900 nm～1650 nm

AC100 V～120 V、50 Hz/60 Hz約230 VA

型名

量子収率や反射、透過・吸収の計測が可能

SIGNAL INPUT

PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER C10027

C10178 システム構成例

ハロゲン光源L6758-11J

データ解析装置 ノート型C10471-01

膜厚計測ソフトウエアU10339-01

サンプル

標準構成オプション

サンプルステージ

□ サンプルステージ スリーブ型　A10192-01φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。集光機能はありません。

□ 集光光学系

φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。紫外から近赤外まで対応可能な集光レンズ付きです。WD：約35 mm　測定スポット径：φ1.5 mm

スリーブ型 近赤外用　A10191-02A10192-03の集光レンズ部のみのユニットです。

ノート型のデータ解析装置です。

□ データ解析装置 ノート型　C10471-01

■ Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ10178-03Ｊ本体 （約5 kg) ■ ハロゲン光源　L6758-11J （約2.6 kg)

85

57.5

15

8013

0

20188

115 231

■ 2分岐ライトガイド 可視～近赤外 2 m　A10193-02

50

50

80 50

2000

φ1

2

φ9

.2 φ7

φ1

8

0.05

φ1

0φ

10

0.05 0.05

0.05

0.05

262

12

4

433

SIGNAL INPUT

PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER C10028

9.7

300

2分岐ライトガイド可視～近赤外 2 mA10193-02

□ サンプルステージ 近赤外用集光レンズタイプ　A10192-03

※ファイバの曲げ半径は、R150 mm以上になります。■ サンプルステージ Optical NanoGauge用　A10192-01

■ Optical NanoGauge 膜厚計 C10178-02本体 （約5 kg)

150

75

14

8

10

8

130

280

12

Optical NanoGauge 膜厚計C10178

Optical NanoGauge 膜厚計 C10178

基礎研究用に機能拡張性を有するスタンダードタイプ

150 nm20 nm 50 μm30 μm

100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

対応測定範囲

特長

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ10178は、分光干渉法を利用した非接触の膜厚測定装置です。分光干渉法により短時間で高

感度・高精度に膜厚を測定します。また、弊社製品のマルチチャンネル分光器PMAを検出器として採用していますので、各種光学

フィルタやコーティング膜などの膜厚測定と同時に、量子収率計測や反射計測、透過・吸収測定など多彩な測定項目を計測するこ

とが可能です。

高速・高精度解析リアルタイム測定高さ変動に強い光学定数 解析外部機器から制御

13

（単位：mm)外形寸法図

サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。

膜

基板

入射光

反射光

位相差

【原理図】強度

波長強度

波長

強度

波長

膜厚小

山谷の数が増加

膜厚大

20 nm～50 μmの薄膜を高精度リアルタイム測定

（n、k）

構成例

オプション

仕様

原理

膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。

C10178-02 （UV対応）20 nm～30 μm

0.02 nm

D2-ハロゲン光源200 nm～950 nm

AC100 V～240 V、50 Hz/60 Hz約210 VA

±0.4 ％

約φ1 mm10 mm

最大10層FFT解析、フィッティング解析、光学定数解析

19 ms/point有（オプション）

RS-232C、PIPE、EthernetUSB 2.0

φ12スリーブ形状

99

9.7

262 383

SIGNAL INPUT

PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER C10027

ガラス

基礎研究用機能拡張タイプ

※1　ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。 ※2　400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。 ※3　使用する光学系または対物レンズの倍率による。 ※4　VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。 ※5　最短露光時間。

測定膜厚範囲(ガラス）※1 測定再現性(ガラス）※2※3 測定精度※3※4 光源 測定波長範囲 スポットサイズ※3 ワーキングディスタンス※3 測定可能層数 解析 計測時間※5 外部通信機能外部通信インターフェースインターフェース 電源電圧 消費電力 ライトガイドコネクタ形状

C10178-03J （NIR ： 可視吸収サンプル対応）150 nm～50 μm

0.05 nm

ハロゲン光源900 nm～1650 nm

AC100 V～120 V、50 Hz/60 Hz約230 VA

型名

量子収率や反射、透過・吸収の計測が可能

SIGNAL INPUT

PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER C10027

C10178 システム構成例

ハロゲン光源L6758-11J

データ解析装置 ノート型C10471-01

膜厚計測ソフトウエアU10339-01

サンプル

標準構成オプション

サンプルステージ

□ サンプルステージ スリーブ型　A10192-01φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。集光機能はありません。

□ 集光光学系

φ200 mm程度のサンプルまで対応可能なステージです。紫外から近赤外まで対応可能な集光レンズ付きです。WD：約35 mm　測定スポット径：φ1.5 mm

スリーブ型 近赤外用　A10191-02A10192-03の集光レンズ部のみのユニットです。

ノート型のデータ解析装置です。

□ データ解析装置 ノート型　C10471-01

■ Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ10178-03Ｊ本体 （約5 kg) ■ ハロゲン光源　L6758-11J （約2.6 kg)

85

57.5

15

8013

0

20188

115 231

■ 2分岐ライトガイド 可視～近赤外 2 m　A10193-02

50

50

80 50

2000

φ1

2

φ9

.2 φ7

φ1

8

0.05

φ1

0φ

10

0.05 0.05

0.05

0.05

262

12

4

433

SIGNAL INPUT

PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER C10028

9.7

300

2分岐ライトガイド可視～近赤外 2 mA10193-02

□ サンプルステージ 近赤外用集光レンズタイプ　A10192-03

※ファイバの曲げ半径は、R150 mm以上になります。■ サンプルステージ Optical NanoGauge用　A10192-01

■ Optical NanoGauge 膜厚計 C10178-02本体 （約5 kg)

150

75

14

8

10

8

130

280

12

Optical NanoGauge 膜厚計C10178

Optical NanoGauge 膜厚計 C10178

基礎研究用に機能拡張性を有するスタンダードタイプ

150 nm20 nm 50 μm30 μm

100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

対応測定範囲

特長

Optical NanoGauge 膜厚計 Ｃ10178は、分光干渉法を利用した非接触の膜厚測定装置です。分光干渉法により短時間で高

感度・高精度に膜厚を測定します。また、弊社製品のマルチチャンネル分光器PMAを検出器として採用していますので、各種光学

フィルタやコーティング膜などの膜厚測定と同時に、量子収率計測や反射計測、透過・吸収測定など多彩な測定項目を計測するこ

とが可能です。

高速・高精度解析リアルタイム測定高さ変動に強い光学定数 解析外部機器から制御

13

（単位：mm)外形寸法図

サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。

膜

基板

入射光

反射光

位相差

【原理図】強度

波長強度

波長

強度

波長

膜厚小

山谷の数が増加

膜厚大

20 nm～50 μmの薄膜を高精度リアルタイム測定

（n、k）

構成例

オプション

仕様

原理

膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。

C10178-02 （UV対応）20 nm～30 μm

0.02 nm

D2-ハロゲン光源200 nm～950 nm

AC100 V～240 V、50 Hz/60 Hz約210 VA

±0.4 ％

約φ1 mm10 mm

最大10層FFT解析、フィッティング解析、光学定数解析

19 ms/point有（オプション）

RS-232C、PIPE、EthernetUSB 2.0

φ12スリーブ形状

99

9.7

262 383

SIGNAL INPUT

PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER C10027

ガラス

※1　-XXは、計測ポイント数を示す。　※2　ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。※3　400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。※4　使用する光学系または対物レンズの倍率による。

型名測定膜厚範囲(ガラス）※2

測定再現性(ガラス）※3※4

測定精度※4※5

光源※6

測定波長範囲スポットサイズ※4

ワーキングディスタンス※4

測定可能層数解析計測時間※7

外部インターフェースインターフェース電源電圧消費電力ライトガイドコネクタ形状計測ポイント

C11295-XX※1

20 nm～100 μm0.02 nm±0.4 ％Xe光源

320 nm～1000 nm約φ1 mm10 mm

最大10層FFT解析、フィッティング解析

19 ms/pointEthernet

USB 2.0（本体-PC間）、RS-232C（ランプ-PC間）AC100 V～240 V、50 Hz/60 Hz

2ch時 ： 約330 VA、15ch時 ： 約450 VASMA

2点～15点

フィルムの膜厚モニタ カラーフィルムの物体色モニタ

各検出器の測定データ

モニタ画面

計測モードの選択膜厚 / 反射率 / 物体色

測定値のトレンドデータ 警告画面

■ 多検出器方式とファイバ分岐方式との比較イメージ図

Multipoint Optical NanoGauge 標準的な膜厚測定器

■ 多検出器方式 ■ ファイバ分岐方式光源

検出器

光源

検出器

Y型分岐ファイバ

多分岐ファイバ

同時計測が可能 計測に時間差が生じる

■ 本体 （約6 kg)

12

3.5

442 308

16 16110142

12.736

39.5 39.5311232

158

522

7■ Xe光源 （約6.4 kg)

■ 光源ライトガイド

30

15

4

20.3 30

φ2

6

φ6

（50.3） 500 100050

φ8

φ4.

8

SMAコネクタ

φ5.

6 φ5.

6

φ20

1001000 10 000

■ 計測ライトガイドSMAコネクタSMAコネクタ

ノート型のデータ解析装置です。□ データ解析装置 ノート型　C10471-21

モニタ中のアラームやワーニング設定が可能

□ SMAレセプタクル　A12187-01

C11295-03　システム構成例

Xe光源※

Multipoint NanoGauge 膜厚計C11295

膜厚計測ソフトウエア

標準構成オプション

POWER

データ解析装置 ノート型C10471-21

サンプル

※ハロゲン光源モデルも用意しています。

架台設置時にライトガイドコネクタを取り付ける治具です。

※ファイバの曲げ半径は、R100 mm以上になります。

※ファイバの曲げ半径は、R100 mm以上になります。

薄膜製造ラインでの多チャンバ同時計測やフィルム製造ラインでの多点測定が可能

14

Multipoint NanoGauge 膜厚計C11295リアルタイム同時測定を実現したマルチポイント計測モデル

20 nm 100 μm

100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

ガラス対応測定範囲

特長

Multipoint NanoGauge 膜厚計 C11295は、分光干渉法を利用した膜厚測定装置です。半導体製造工程における膜厚測定を

はじめ、半導体製造装置へ搭載するAPCやフィルムの品質管理のために膜厚の測定をする装置です。リアルタイムでのマルチポ

イント計測が可能で、多チャンバ同時計測やフィルム面上の多点計測を実現します。また、膜厚と同時に反射率(透過率)・物体

色、それらの経時変化も測定することができます。

最大15ポイントを同時計測リファレンスフリー光量変動補正による長時間安定測定アラーム・ワーニング機能（合否判定）

反射（透過）・スペクトル測定

高速・高精度解析リアルタイム測定高さ変動に強い光学定数 解析外部機器から制御

15

（単位：mm)外形寸法図サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。

膜

基板

入射光

反射光

位相差

【原理図】強度

波長強度

波長

強度

波長

膜厚小

山谷の数が増加

膜厚大

（n、k）

多点計測方式

測定画面

構成例 オプション

仕様 原理

膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。

※5　VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。※6　ハロゲン光源モデルは、C11295-XXHとなります。※7　最短露光時間。

多点測定対応

※1　-XXは、計測ポイント数を示す。　※2　ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。※3　400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。※4　使用する光学系または対物レンズの倍率による。

型名測定膜厚範囲(ガラス）※2

測定再現性(ガラス）※3※4

測定精度※4※5

光源※6

測定波長範囲スポットサイズ※4

ワーキングディスタンス※4

測定可能層数解析計測時間※7

外部インターフェースインターフェース電源電圧消費電力ライトガイドコネクタ形状計測ポイント

C11295-XX※1

20 nm～100 μm0.02 nm±0.4 ％Xe光源

320 nm～1000 nm約φ1 mm10 mm

最大10層FFT解析、フィッティング解析

19 ms/pointEthernet

USB 2.0（本体-PC間）、RS-232C（ランプ-PC間）AC100 V～240 V、50 Hz/60 Hz

2ch時 ： 約330 VA、15ch時 ： 約450 VASMA

2点～15点

フィルムの膜厚モニタ カラーフィルムの物体色モニタ

各検出器の測定データ

モニタ画面

計測モードの選択膜厚 / 反射率 / 物体色

測定値のトレンドデータ 警告画面

■ 多検出器方式とファイバ分岐方式との比較イメージ図

Multipoint Optical NanoGauge 標準的な膜厚測定器

■ 多検出器方式 ■ ファイバ分岐方式光源

検出器

光源

検出器

Y型分岐ファイバ

多分岐ファイバ

同時計測が可能 計測に時間差が生じる

■ 本体 （約6 kg)

12

3.5

442 308

16 16110142

12.736

39.5 39.5311232

158

522

7

■ Xe光源 （約6.4 kg)

■ 光源ライトガイド

30

15

4

20.3 30

φ2

6

φ6

（50.3） 500 100050

φ8

φ4.

8

SMAコネクタ

φ5.

6 φ5.

6

φ20

1001000 10 000

■ 計測ライトガイドSMAコネクタSMAコネクタ

ノート型のデータ解析装置です。□ データ解析装置 ノート型　C10471-21

モニタ中のアラームやワーニング設定が可能

□ SMAレセプタクル　A12187-01

C11295-03　システム構成例

Xe光源※

Multipoint NanoGauge 膜厚計C11295

膜厚計測ソフトウエア

標準構成オプション

POWER

データ解析装置 ノート型C10471-21

サンプル

※ハロゲン光源モデルも用意しています。

架台設置時にライトガイドコネクタを取り付ける治具です。

※ファイバの曲げ半径は、R100 mm以上になります。

※ファイバの曲げ半径は、R100 mm以上になります。

薄膜製造ラインでの多チャンバ同時計測やフィルム製造ラインでの多点測定が可能

14

Multipoint NanoGauge 膜厚計C11295リアルタイム同時測定を実現したマルチポイント計測モデル

20 nm 100 μm

100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

ガラス対応測定範囲

特長

Multipoint NanoGauge 膜厚計 C11295は、分光干渉法を利用した膜厚測定装置です。半導体製造工程における膜厚測定を

はじめ、半導体製造装置へ搭載するAPCやフィルムの品質管理のために膜厚の測定をする装置です。リアルタイムでのマルチポ

イント計測が可能で、多チャンバ同時計測やフィルム面上の多点計測を実現します。また、膜厚と同時に反射率(透過率)・物体

色、それらの経時変化も測定することができます。

最大15ポイントを同時計測リファレンスフリー光量変動補正による長時間安定測定アラーム・ワーニング機能（合否判定）

反射（透過）・スペクトル測定

高速・高精度解析リアルタイム測定高さ変動に強い光学定数 解析外部機器から制御

15

（単位：mm)外形寸法図サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。

膜

基板

入射光

反射光

位相差

【原理図】強度

波長強度

波長

強度

波長

膜厚小

山谷の数が増加

膜厚大

（n、k）

多点計測方式

測定画面

構成例 オプション

仕様 原理

膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。

※5　VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。※6　ハロゲン光源モデルは、C11295-XXHとなります。※7　最短露光時間。

多点測定対応

C10323-02 システム構成例

ハロゲン光源L6758-11J

Optical NanoGauge 膜厚計C10323

データ解析装置 ノート型C10471-01

膜厚計測ソフトウエア

POWER

SIGNAL INPUT

PMA-11PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER

対物レンズ5×～50×

顕微光学系ステージ

A10407-01

標準構成オプション

ノート型のデータ解析装置です。

□ データ解析装置 ノート型　C10471-01

（ステージ移動範囲：75 mm × 50 mm)

レンズ倍率5倍

10倍20倍50倍

測定スポットサイズφ80 μmφ40 μmφ20 μmφ8 μm

NA0.140.260.400.42

WD37.5 mm30.5 mm20.0 mm17.0 mm

□ 対物レンズ

□ 顕微光学系ステージ　A10407-01

（ステージ移動範囲：150 mm × 150 mm)□ 顕微光学系ステージ 6インチウェーハ用　A10407-02

■ 顕微光学系　A10406-02 （約15 kg)

11

1 17

4

205

317

129

φ3

4

4540

17

41

86

13

4

13

4

84

181227

140.5

25.5

φ3

4

■ 顕微光学系ステージ　A10407-01

■ 顕微光学系ステージ 6インチウェーハ用　A10407-02

※ハロゲン光源 L6758-11Jの外形寸法は、P13を参照ください。

40

362 251

114

63

0

262

99

9.7

262 383

SIGNAL INPUT

PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER C10027

■ Optical Gauge 膜厚計 C10323 本体 （約5 kg)

微小領域の薄膜を顕微鏡を用いて高精度リアルタイム測定

16

Optical NanoGauge 膜厚計C10323微小領域での薄膜測定を行う顕微タイプ

20 nm 50 μm

100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

ガラス対応測定範囲

特長

Optical NanoGauge 膜厚計 C10323は、分光干渉法を利用した顕微タイプの膜厚測定装置です。顕微鏡を用いて微小領域での測定

を行うことができます。マクロ計測では、散乱光が多くて受光しにくい凸凹表面の対象も、微小エリアを計測することで散乱光を減らし測定

することが可能です。

ミクロ計測高速・高精度解析

17

（単位：mm)外形寸法図

構成例

オプション

従来のマクロ計測では計測が困難であった凹凸のあるパターン付ウェーハ

やMEMSなどのサンプルも、顕微システムでは測定することができます。凹

凸のあるサンプルの場合、マクロ計測では散乱光が多く、受光できない場合

もあります。顕微システムによるミクロ計測では、測定箇所を散乱光の少な

い平坦な領域に絞り込み、測定することができます。

マクロ計測 顕微によるミクロ計測

顕微鏡対物レンズ

散乱光 散乱光

散乱光

顕微システムの測定原理とメリット

サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。

膜

基板

入射光

反射光

位相差

【原理図】強度

波長強度

波長

強度

波長

膜厚小

山谷の数が増加

膜厚大

原理

膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。

（n、k）光学定数　　解析外部機器から制御

仕様

型名測定膜厚範囲(ガラス）※1

測定再現性(ガラス）※2※3

測定精度※3※4

光源測定波長範囲スポットサイズ※3

ワーキングディスタンス測定可能層数解析外部通信機能外部通信インターフェースインターフェース電源電圧消費電力

C10323-0220 nm～50 μm

0.02 nm±0.4 ％

ハロゲン光源400 nm～1100 nmφ8 μm～φ80 μm対物レンズ表参照

最大10層FFT解析、フィッティング解析、光学定数解析

有（オプション）RS-232C、PIPE 及び Ethernet

USB 2.0AC100 V～120 V、50 Hz/60 Hz

約250 VA

※1　ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。　※2　400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。※3　使用する光学系または対象レンズの倍率による。※4　VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。

ミクロ計測顕微タイプ

C10323-02 システム構成例

ハロゲン光源L6758-11J

Optical NanoGauge 膜厚計C10323

データ解析装置 ノート型C10471-01

膜厚計測ソフトウエア

POWER

SIGNAL INPUT

PMA-11PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER

対物レンズ5×～50×

顕微光学系ステージ

A10407-01

標準構成オプション

ノート型のデータ解析装置です。

□ データ解析装置 ノート型　C10471-01

（ステージ移動範囲：75 mm × 50 mm)

レンズ倍率5倍

10倍20倍50倍

測定スポットサイズφ80 μmφ40 μmφ20 μmφ8 μm

NA0.140.260.400.42

WD37.5 mm30.5 mm20.0 mm17.0 mm

□ 対物レンズ

□ 顕微光学系ステージ　A10407-01

（ステージ移動範囲：150 mm × 150 mm)□ 顕微光学系ステージ 6インチウェーハ用　A10407-02

■ 顕微光学系　A10406-02 （約15 kg)

11

1 17

4

205

317

129

φ3

4

4540

17

41

86

13

4

13

4

84

181227

140.5

25.5

φ3

4

■ 顕微光学系ステージ　A10407-01

■ 顕微光学系ステージ 6インチウェーハ用　A10407-02

※ハロゲン光源 L6758-11Jの外形寸法は、P13を参照ください。

40

362 251

114

63

0

262

99

9.7

262 383

SIGNAL INPUT

PHOTONIC MULTI-CHANNEL ANALYZER C10027

■ Optical Gauge 膜厚計 C10323 本体 （約5 kg)

微小領域の薄膜を顕微鏡を用いて高精度リアルタイム測定

16

Optical NanoGauge 膜厚計C10323微小領域での薄膜測定を行う顕微タイプ

20 nm 50 μm

100 nm 1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

ガラス対応測定範囲

特長

Optical NanoGauge 膜厚計 C10323は、分光干渉法を利用した顕微タイプの膜厚測定装置です。顕微鏡を用いて微小領域での測定

を行うことができます。マクロ計測では、散乱光が多くて受光しにくい凸凹表面の対象も、微小エリアを計測することで散乱光を減らし測定

することが可能です。

ミクロ計測高速・高精度解析

17

（単位：mm)外形寸法図

構成例

オプション

従来のマクロ計測では計測が困難であった凹凸のあるパターン付ウェーハ

やMEMSなどのサンプルも、顕微システムでは測定することができます。凹

凸のあるサンプルの場合、マクロ計測では散乱光が多く、受光できない場合

もあります。顕微システムによるミクロ計測では、測定箇所を散乱光の少な

い平坦な領域に絞り込み、測定することができます。

マクロ計測 顕微によるミクロ計測

顕微鏡対物レンズ

散乱光 散乱光

散乱光

顕微システムの測定原理とメリット

サンプルに白色光を入射すると膜厚に依存した特有のスペクトルを示します。分光干渉法は、このスペクトルを解析することにより膜厚を測定する方法です。

膜

基板

入射光

反射光

位相差

【原理図】強度

波長強度

波長

強度

波長

膜厚小

山谷の数が増加

膜厚大

原理

膜厚測定には、分光干渉法を採用しています。

（n、k）光学定数　　解析外部機器から制御

仕様

型名測定膜厚範囲(ガラス）※1

測定再現性(ガラス）※2※3

測定精度※3※4

光源測定波長範囲スポットサイズ※3

ワーキングディスタンス測定可能層数解析外部通信機能外部通信インターフェースインターフェース電源電圧消費電力

C10323-0220 nm～50 μm

0.02 nm±0.4 ％

ハロゲン光源400 nm～1100 nmφ8 μm～φ80 μm対物レンズ表参照

最大10層FFT解析、フィッティング解析、光学定数解析

有（オプション）RS-232C、PIPE 及び Ethernet

USB 2.0AC100 V～120 V、50 Hz/60 Hz

約250 VA

※1　ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。　※2　400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。※3　使用する光学系または対象レンズの倍率による。※4　VLSI Standards 測定保証書記載の測定保証範囲。

ミクロ計測顕微タイプ

C11011-2125 μm～2200 μm10 μm～900 μm

16.7 ms/point

C11011-21W25 μm～2900 μm10 μm～1200 μm

22.2 ms/point

最大10層

RS-232C、 Ethernet

■ FPD

■ フィルム■ 半導体ウェーハ厚測定PVパネル用シリコン厚測定・SiC膜 ・Si膜・ウェット状態の膜 ・シリコン残膜厚・光ディスク

・セルギャップ ・ガラス総厚・DLC ・FPD用高機能フィルム

・AR膜 ・PET ・コーティング層・塗布膜 ・蒸着膜 ・機能性フィルム

・アクリル樹脂 ・ビデオヘッド

光学フィルムの厚み測定

パネル厚測定

ウェーハ

※1　ガラスの屈折率に相当。※2　シリコンの屈折率に相当。

型名測定膜厚範囲(ガラス）※1

測定膜厚範囲(シリコン）※2

測定再現性(シリコン）※3

測定精度※3

光源スポットサイズワーキングディスタンス※4

測定可能層数解析計測時間※5

外部通信インターフェースインターフェース電源電圧消費電力

C11011-0125 μm～2200 μm10 μm～900 μm

16.7 ms/point

C11011-01W25 μm～2900 μm10 μm～1200 μm

22.2 ms/point

□ 水平設置用光学系　A9925-01プローブヘッドに接続させて使用します。ワーキングディスタンスがとれない狭い箇所にヘッドを設置したい時に有効です。

□ プローブヘッド（耐酸性）　A8653-02耐酸性用に表面処理されたプローブヘッドです。ウエットエッチング装置搭載用に推奨しています。

In-situモニタリング例 (ウェットエッチング下） 張り合わせウェーハ測定例

▲ 厚さ70 μm～76 μmの分布を表示サンプル： 8型 シリコンベアウェーハ保護フィルム付/グラインディング処理後

ウェーハ厚み分布測定例

データ解析装置C9025-02

プローブヘッド（標準）

USB 2.0

RS-232C / PIPE

計測用光ファイバ 標準構成オプション

エッチング装置グラインディング装置

対象物USB 2.0

USB 2.0

計測用光ファイバ 標準構成オプション

C11011-01、-01Ｗ 厚み分布測定用マッピングシステム システム構成例

データ解析装置マッピング計測用C9025-11

プローブヘッド（標準）

C11011-01、-01Ｗ システム構成例

マッピングステージC8126-21、-22

Optical MicroGauge 厚み計C11011-01、-01Ｗ

Optical MicroGauge 厚み計C11011-01、-01Ｗ

計測データ

200

200

400

400100 3000

300

100

Time (second)

Thic

knes

s (μ

m)

0

厚み計測データ

膜厚測定には、レーザ干渉法を採用。プローブヘッドから照射された近赤外光は、まず膜表面で反射されます。光の一部は膜を透過し反対側の界面で反射します。各反射光がコントローラ内部で処理され、反射が生じた位置、すなわち膜の界面が検出されます。それらのピーク間距離から厚みが計算されます。 膜

基板

入射光界面からの反射

■ C11011-01、-01Ｗ（約8.5 kg) ■ プローブヘッド（標準）　A8653-01

412

12

3.5

5.9

383 計測用光ファイバ（4 m)

φ3

4φ1

9

φ1

5

WD=155 95.8

13.9

ピーク間距離

＝

膜厚

プローブヘッド

500

● 計測時間：1 s/point ● 測定エリア ：最大140 mm角（C8126-21)　　　　　　　 4型（インチ）ウェーハ～8型（インチ）ウェーハ　　　　　　 ：最大200 mm角（C8126-22)　　　　　　　 4型（インチ）ウェーハ～12型（インチ）ウェーハ● ステージ移動分解能 : 0.1 mm● ステージ繰り返し位置決め精度：±0.01 mm

□ マッピングステージ φ200 mm　C8126-21　 マッピングステージ φ300 mm　C8126-22

ウェーハマッピングソフトウエア

ウェーハマッピングソフトウエア

1層

RS-232C、 PIPE

100 nm ±0.5 μm(≦500 μm）、±0.1 ％(>500 μm）

赤外LD（1300 nm）約φ60 μｍ155 mm

ピーク検出

USB 2.0（本体-ＰＣ間）AC100 V～AC240 V、50 Hz/60 Hz

約50 VA

□ データ解析装置 C9O25-01 デスクトップ型のデータ解析装置です。

□ データ解析装置 マッピング計測用 C9O25-11 ウェーハマッピング計測用のデスクトップ型のデータ解析装置です。

※ファイバの曲げ半径は、R30 mm以上になります。

60 Hzの高速測定

ウェーハ・ガラス・フィルムを高速測定ウェーハ・ガラス・フィルムを高速測定ウェーハ・ガラス・フィルムを高速測定

18

Optical MicroGauge 厚み計C110112.9 mmまで測定できるインライン対応の高速測定モデル

2900 μm2200 μm25 μm

1200 μm900 μm10 μm

1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

対応測定範囲

特長

Optical MicroGauge 厚み計 C11011

シリーズは、レーザ干渉法を利用した厚み測

定装置です。 60 Hzの高速測定が可能で、

生産現場でのインライン測定にも対応しま

す。また、オプションのマッピングシステムと

組み合わせ試料の厚み分布を測定すること

も可能です。製造工程モニタから品質管理

まで、幅広い用途にご利用頂けます。

19

（単位：mm)外形寸法図

仕様

オプション

測定原理

構成例

各製造現場での設置紹介

ガラス

シリコン

赤外光計測により、非透明（白色）サンプルに対応

ロングワーキングディスタンスマッピングに対応外部機器から制御

パターン付/保護フィルム付ウェーハの測定可能

※3　シリコン測定時の標準偏差※4　ワーキングディスタンスが1000 mmのタイプも用意しています。（型名　C11011-01WL)　

※5　最短露光時間

厚膜対応高速測定

□ データ解析装置 C9O25-02 ノート型のデータ解析装置です。

C11011-2125 μm～2200 μm10 μm～900 μm

16.7 ms/point

C11011-21W25 μm～2900 μm10 μm～1200 μm

22.2 ms/point

最大10層

RS-232C、 Ethernet

■ FPD

■ フィルム■ 半導体ウェーハ厚測定PVパネル用シリコン厚測定・SiC膜 ・Si膜・ウェット状態の膜 ・シリコン残膜厚・光ディスク

・セルギャップ ・ガラス総厚・DLC ・FPD用高機能フィルム

・AR膜 ・PET ・コーティング層・塗布膜 ・蒸着膜 ・機能性フィルム

・アクリル樹脂 ・ビデオヘッド

光学フィルムの厚み測定

パネル厚測定

ウェーハ

※1　ガラスの屈折率に相当。※2　シリコンの屈折率に相当。

型名測定膜厚範囲(ガラス）※1

測定膜厚範囲(シリコン）※2

測定再現性(シリコン）※3

測定精度※3

光源スポットサイズワーキングディスタンス※4

測定可能層数解析計測時間※5

外部通信インターフェースインターフェース電源電圧消費電力

C11011-0125 μm～2200 μm10 μm～900 μm

16.7 ms/point

C11011-01W25 μm～2900 μm10 μm～1200 μm

22.2 ms/point

□ 水平設置用光学系　A9925-01プローブヘッドに接続させて使用します。ワーキングディスタンスがとれない狭い箇所にヘッドを設置したい時に有効です。

□ プローブヘッド（耐酸性）　A8653-02耐酸性用に表面処理されたプローブヘッドです。ウエットエッチング装置搭載用に推奨しています。

In-situモニタリング例 (ウェットエッチング下） 張り合わせウェーハ測定例

▲ 厚さ70 μm～76 μmの分布を表示サンプル： 8型 シリコンベアウェーハ保護フィルム付/グラインディング処理後

ウェーハ厚み分布測定例

データ解析装置C9025-02

プローブヘッド（標準）

USB 2.0

RS-232C / PIPE

計測用光ファイバ 標準構成オプション

エッチング装置グラインディング装置

対象物USB 2.0

USB 2.0

計測用光ファイバ 標準構成オプション

C11011-01、-01Ｗ 厚み分布測定用マッピングシステム システム構成例

データ解析装置マッピング計測用C9025-11

プローブヘッド（標準）

C11011-01、-01Ｗ システム構成例

マッピングステージC8126-21、-22

Optical MicroGauge 厚み計C11011-01、-01Ｗ

Optical MicroGauge 厚み計C11011-01、-01Ｗ

計測データ

200

200

400

400100 3000

300

100

Time (second)

Thic

knes

s (μ

m)

0

厚み計測データ

膜厚測定には、レーザ干渉法を採用。プローブヘッドから照射された近赤外光は、まず膜表面で反射されます。光の一部は膜を透過し反対側の界面で反射します。各反射光がコントローラ内部で処理され、反射が生じた位置、すなわち膜の界面が検出されます。それらのピーク間距離から厚みが計算されます。 膜

基板

入射光界面からの反射

■ C11011-01、-01Ｗ（約8.5 kg) ■ プローブヘッド（標準）　A8653-01

412

12

3.5

5.9

383 計測用光ファイバ（4 m)

φ3

4φ1

9

φ1

5

WD=155 95.8

13.9

ピーク間距離

＝

膜厚

プローブヘッド

500

● 計測時間：1 s/point ● 測定エリア ：最大140 mm角（C8126-21)　　　　　　　 4型（インチ）ウェーハ～8型（インチ）ウェーハ　　　　　　 ：最大200 mm角（C8126-22)　　　　　　　 4型（インチ）ウェーハ～12型（インチ）ウェーハ● ステージ移動分解能 : 0.1 mm● ステージ繰り返し位置決め精度：±0.01 mm

□ マッピングステージ φ200 mm　C8126-21　 マッピングステージ φ300 mm　C8126-22

ウェーハマッピングソフトウエア

ウェーハマッピングソフトウエア

1層

RS-232C、 PIPE

100 nm ±0.5 μm(≦500 μm）、±0.1 ％(>500 μm）

赤外LD（1300 nm）約φ60 μｍ155 mm

ピーク検出

USB 2.0（本体-ＰＣ間）AC100 V～AC240 V、50 Hz/60 Hz

約50 VA

□ データ解析装置 C9O25-01 デスクトップ型のデータ解析装置です。

□ データ解析装置 マッピング計測用 C9O25-11 ウェーハマッピング計測用のデスクトップ型のデータ解析装置です。

※ファイバの曲げ半径は、R30 mm以上になります。

60 Hzの高速測定

ウェーハ・ガラス・フィルムを高速測定ウェーハ・ガラス・フィルムを高速測定ウェーハ・ガラス・フィルムを高速測定

18

Optical MicroGauge 厚み計C110112.9 mmまで測定できるインライン対応の高速測定モデル

2900 μm2200 μm25 μm

1200 μm900 μm10 μm

1 μm 10 μm 100 μm 1 mm

対応測定範囲

特長

Optical MicroGauge 厚み計 C11011

シリーズは、レーザ干渉法を利用した厚み測

定装置です。 60 Hzの高速測定が可能で、

生産現場でのインライン測定にも対応しま

す。また、オプションのマッピングシステムと

組み合わせ試料の厚み分布を測定すること

も可能です。製造工程モニタから品質管理

まで、幅広い用途にご利用頂けます。

19

（単位：mm)外形寸法図

仕様

オプション

測定原理

構成例

各製造現場での設置紹介

ガラス

シリコン

赤外光計測により、非透明（白色）サンプルに対応

ロングワーキングディスタンスマッピングに対応外部機器から制御

パターン付/保護フィルム付ウェーハの測定可能

※3　シリコン測定時の標準偏差※4　ワーキングディスタンスが1000 mmのタイプも用意しています。（型名　C11011-01WL)　

※5　最短露光時間

厚膜対応高速測定

□ データ解析装置 C9O25-02 ノート型のデータ解析装置です。

光を通す材料であれば、基本的に測定可能です。100 nm以上の金属膜など光を通さないサンプルの測定は困難です。（50 nm以下の測定は、実績あり）また、白色材料についても、光が散乱してしまうため、測定が困難です。ヘイズ率等の詳細スペックについては、弊社担当者へご相談ください。

測定に適した材料、測定できない材料について教えてください。

絶対精度には、材料の光学定数（屈折率と吸収係数）が関わってきます。

この光学定数が正しければ、絶対厚の精度が高まります。弊社では、第3者機関であるVLSI Standardsの

測定保証書記載の保証範囲を測定精度としています。

また、再現性に関しては、石英ガラス 400 nmのサンプルで標準偏差が0.02 nmとなります。

どのくらいの精度で測定が可能でしょうか？

お客様のサンプルを用いたデモ測定に対応しています。Gaugeシリーズのデモ機を用意いたしますので、各営業所へご相談ください。

測定可否の確認のため、デモ測定を行いたいのですが、可能でしょうか？

半導体、FPD、フィルムなどの製造工程の検査（膜厚管理）を主として、インライン・オフラインで採用されています。

どのような用途に使用されていますか？

数mmの変動に対応することが可能です。詳細は、P3のデフォーカス依存性をご参考ください。

高さ変動に強いとありますが、どのくらいでしょうか？

ハードウェアの修理相談は比較的少なく、ソフトウェアを含めた解析部分、特にレシピ設定についての相談が多いです。この点は、簡易レシピ設定の機能があり、お客様でも設定することが可能です。

納品後の相談・連絡はどのような内容が多いですか？

通常測定では、サンプルとセンサの距離は10 mm以下となりますが、35 mmのワーキングディスタンスに

対応した光学系も準備しています。

サンプルとセンサの距離を長くした測定は可能でしょうか？

Optical Gaugeシリーズの製品は、外部通信機能により自動測定に対応しています。

C13027では、電気的な入力・出力信号による測定制御が可能ですので、シーケンサ接続も容易に行えます。

自動測定は可能でしょうか？

弊社では、第３者機関が厚みを保証するサンプルを測定し、その基準値と測定結果を判断し厚み確認を行っています。なお、申し訳ございませんが弊社で管理と値の確認ができないサンプルにつきましては、保証は致しかねます。

Optical Gaugeの厚み測定の確認は、どのように実施していますか？

Optical Gaugeシリーズ Q&AOptical Gaugeシリーズについて、よくあるご質問をまとめました。

装置導入のご検討にお役立てください。

20 21

光を通す材料であれば、基本的に測定可能です。100 nm以上の金属膜など光を通さないサンプルの測定は困難です。（50 nm以下の測定は、実績あり）また、白色材料についても、光が散乱してしまうため、測定が困難です。ヘイズ率等の詳細スペックについては、弊社担当者へご相談ください。

測定に適した材料、測定できない材料について教えてください。

絶対精度には、材料の光学定数（屈折率と吸収係数）が関わってきます。

この光学定数が正しければ、絶対厚の精度が高まります。弊社では、第3者機関であるVLSI Standardsの

測定保証書記載の保証範囲を測定精度としています。

また、再現性に関しては、石英ガラス 400 nmのサンプルで標準偏差が0.02 nmとなります。

どのくらいの精度で測定が可能でしょうか？

お客様のサンプルを用いたデモ測定に対応しています。Gaugeシリーズのデモ機を用意いたしますので、各営業所へご相談ください。

測定可否の確認のため、デモ測定を行いたいのですが、可能でしょうか？

半導体、FPD、フィルムなどの製造工程の検査（膜厚管理）を主として、インライン・オフラインで採用されています。

どのような用途に使用されていますか？

数mmの変動に対応することが可能です。詳細は、P3のデフォーカス依存性をご参考ください。

高さ変動に強いとありますが、どのくらいでしょうか？

ハードウェアの修理相談は比較的少なく、ソフトウェアを含めた解析部分、特にレシピ設定についての相談が多いです。この点は、簡易レシピ設定の機能があり、お客様でも設定することが可能です。

納品後の相談・連絡はどのような内容が多いですか？

通常測定では、サンプルとセンサの距離は10 mm以下となりますが、35 mmのワーキングディスタンスに

対応した光学系も準備しています。

サンプルとセンサの距離を長くした測定は可能でしょうか？

Optical Gaugeシリーズの製品は、外部通信機能により自動測定に対応しています。

C13027では、電気的な入力・出力信号による測定制御が可能ですので、シーケンサ接続も容易に行えます。

自動測定は可能でしょうか？

弊社では、第３者機関が厚みを保証するサンプルを測定し、その基準値と測定結果を判断し厚み確認を行っています。なお、申し訳ございませんが弊社で管理と値の確認ができないサンプルにつきましては、保証は致しかねます。

Optical Gaugeの厚み測定の確認は、どのように実施していますか？

Optical Gaugeシリーズ Q&AOptical Gaugeシリーズについて、よくあるご質問をまとめました。

装置導入のご検討にお役立てください。

20 21

型名ステージ移動分解能ステージ繰り返し位置決め精度電源電圧消費電力外形寸法/質量※ステージユニットの詳細仕様については、弊社までご相談ください。※1 100 V系統と200 V系統のどちらかを選択することができます。

厚み分布測定が可能パターン付きウェーハ対応保護フィルム付きウェーハ対応

C8126-31、-32 システム構成例 （C13027対応）

標準構成オプション

ステージユニット

USB 2.0

インターフェース(USB 2.0)

測定用光ファイバ

ウェーハ

Optical MicroGauge 厚み計　C11011-01、-01Ｗ

プローブヘッド（標準）A8653-01

C8126-21、-22 システム構成例 （C11011シリーズ対応）

標準構成オプション

ステージユニット

型名ウェーハ（型 ： インチ） フィルム※

C11011-01C11011-01W

C13027-11

4～8

4 ～12

4～8

4～12

～140 mm 角

～200 mm 角

～140 mm 角

～200 mm 角

測定対象（測定範囲） 組み合わせ対応厚み計・膜厚計

マッピングステージ φ200 mm

C8126-21マッピングステージ φ300 mm

C8126-22マッピングステージ φ200 mm

C8126-31マッピングステージ φ300 mm

C8126-32※フィルム測定時のステージユニットの仕様については、弊社までお問い合わせください。※16型（インチ）ウェーハ対応については、弊社までお問い合わせください。

C8126-21、-31

820 mm(W)×550 mm(H)×600 mm(D) 約67 kg

C8126-22、-32

940 mm(W)×595 mm(H)×750 mm(D) 約82 kg

ウェーハマッピングソフトウエア

Ethernet

Optical NanoGauge 膜厚計C13027-11

0.1 mm±0.01 mm

AC100 V～AC117 V、AC220 V～AC240 V、50 Hz/60 Hz120 VA(100 V時)、160 ＶＡ（200 Ｖ時）

ウェーハマッピングソフトウエア

データ解析装置 ノート型C10471-21

データ解析装置マッピング計測用C9025-11

特長

特長

仕様

USB 2.0

※1

22 23

トラバースユニットは、Optical NanoGauge 膜厚計C13027と組み合わせることでフィルムの膜厚プロファイルをインラインで測定することができます。

サンプル幅方向の膜厚分布やラインの流れ方向における経時的な膜厚変化を監視できます。また、製造装置に組み込むことにより、膜厚監視モニタ

として使用することが可能です。

C13800-011505Optical NanoGauge 膜厚計Ｃ13027と組み合わせることで容易にインライン膜厚測定システムの構築が可能です。

※1　標準以外の長さはご相談ください。※2　フォトカプラ入力方式※3　オープンコレクタ※4　対応OS : Windows７　６４ bit※5　搬送速度や測定時間間隔により変わります。

製造装置へ容易に組み込み可能幅方向のプロファイルや流れ方向のトレンドのインライン計測が可能I/O制御が可能

標準構成

データ解析装置C13348-02

Optical NanoGauge 膜厚計C13027

膜厚計測ソフトウエア

インライン膜厚計測ソフトウエア

U13810

LANケーブルBNCケーブルUSBケーブル

膜厚計制御用キーボード、マウス

ステージユニットステージ

コントロールユニット

トラバースユニット

トラバースユニット C13800-011505

オプション 製品オプション 製品

C8126シリーズOptical Gaugeと組み合わせウェーハ・フィルムの厚み分布をマッピング

マッピングステージ

Optical NanoGauge 膜厚計

C13027

トラバースユニット

Ｃ13800-011505

Optical Micro Gauge 厚み計Ｃ11011 対応

マッピングステージ C8126シリーズは、各種Optical Gaugeシリーズと組み合わせることにより、ウェーハやフィルムの厚み分布測定を行うマッピングシステムです。エッチング・グラインディング特性の面内均一性確認や品質管理にご利用いただけます。

Optical NanoGauge 膜厚計Ｃ13027 対応　 Optical NanoGauge 膜厚計Ｃ13027 対応　

型名ステージユニット

I/O

ソフトウエア※4

フィルム測定幅※1

移動速度

位置精度

ケーブル長※1

入力※2

出力※3

幅方向トレンドグラフ

流れ方向トレンドグラフ

C13800-0115051500 mm

150 mm/ 秒、300 mm/ 秒

±0.5 mm 以下：連続測定時、±0.1 mm 以下：ステップ測定時

5 m、10 m

検査開始、検査停止、巻き替え、緊急遮断

膜厚計制御信号・アラーム

選択層のトレンドグラフ（現在＋過去データ）

選択データの最大値、最小値、平均値、標準偏差

測定ライン数：1ライン ～ 1000 ライン

選択層、選択位置のトレンドグラフ（現在＋過去データ）

選択データの最大値、最小値、平均値、標準偏差

測定時間※5 ：0 分 ～ 9999 分

測定巻き取り長※5：0 m ～ 9999 m

断裁 巻取り

乾燥・硬化

塗布・成膜（PVD/CVD)

樹脂、接着層、ITOウェット膜

フィルム厚、中間膜厚、総厚

塗布膜測定

巻出し

乾燥・貼り合わせ後の測定

型名ステージ移動分解能ステージ繰り返し位置決め精度電源電圧消費電力外形寸法/質量※ステージユニットの詳細仕様については、弊社までご相談ください。※1 100 V系統と200 V系統のどちらかを選択することができます。

厚み分布測定が可能パターン付きウェーハ対応保護フィルム付きウェーハ対応

C8126-31、-32 システム構成例 （C13027対応）

標準構成オプション

ステージユニット

USB 2.0

インターフェース(USB 2.0)

測定用光ファイバ

ウェーハ

Optical MicroGauge 厚み計　C11011-01、-01Ｗ

プローブヘッド（標準）A8653-01

C8126-21、-22 システム構成例 （C11011シリーズ対応）

標準構成オプション

ステージユニット

型名ウェーハ（型 ： インチ） フィルム※

C11011-01C11011-01W

C13027-11

4～8

4 ～12

4～8

4～12

～140 mm 角

～200 mm 角

～140 mm 角

～200 mm 角

測定対象（測定範囲） 組み合わせ対応厚み計・膜厚計

マッピングステージ φ200 mm

C8126-21マッピングステージ φ300 mm

C8126-22マッピングステージ φ200 mm

C8126-31マッピングステージ φ300 mm

C8126-32※フィルム測定時のステージユニットの仕様については、弊社までお問い合わせください。※16型（インチ）ウェーハ対応については、弊社までお問い合わせください。

C8126-21、-31

820 mm(W)×550 mm(H)×600 mm(D) 約67 kg

C8126-22、-32

940 mm(W)×595 mm(H)×750 mm(D) 約82 kg

ウェーハマッピングソフトウエア

Ethernet

Optical NanoGauge 膜厚計C13027-11

0.1 mm±0.01 mm

AC100 V～AC117 V、AC220 V～AC240 V、50 Hz/60 Hz120 VA(100 V時)、160 ＶＡ（200 Ｖ時）

ウェーハマッピングソフトウエア

データ解析装置 ノート型C10471-21

データ解析装置マッピング計測用C9025-11

特長

特長

仕様

USB 2.0

※1

22 23

トラバースユニットは、Optical NanoGauge 膜厚計C13027と組み合わせることでフィルムの膜厚プロファイルをインラインで測定することができます。

サンプル幅方向の膜厚分布やラインの流れ方向における経時的な膜厚変化を監視できます。また、製造装置に組み込むことにより、膜厚監視モニタ

として使用することが可能です。

C13800-011505Optical NanoGauge 膜厚計Ｃ13027と組み合わせることで容易にインライン膜厚測定システムの構築が可能です。

※1　標準以外の長さはご相談ください。※2　フォトカプラ入力方式※3　オープンコレクタ※4　対応OS : Windows７　６４ bit※5　搬送速度や測定時間間隔により変わります。

製造装置へ容易に組み込み可能幅方向のプロファイルや流れ方向のトレンドのインライン計測が可能I/O制御が可能

標準構成

データ解析装置C13348-02

Optical NanoGauge 膜厚計C13027

膜厚計測ソフトウエア

インライン膜厚計測ソフトウエア

U13810

LANケーブルBNCケーブルUSBケーブル

膜厚計制御用キーボード、マウス

ステージユニットステージ

コントロールユニット

トラバースユニット

トラバースユニット C13800-011505

オプション 製品オプション 製品

C8126シリーズOptical Gaugeと組み合わせウェーハ・フィルムの厚み分布をマッピング

マッピングステージ

Optical NanoGauge 膜厚計

C13027

トラバースユニット

Ｃ13800-011505

Optical Micro Gauge 厚み計Ｃ11011 対応

マッピングステージ C8126シリーズは、各種Optical Gaugeシリーズと組み合わせることにより、ウェーハやフィルムの厚み分布測定を行うマッピングシステムです。エッチング・グラインディング特性の面内均一性確認や品質管理にご利用いただけます。

Optical NanoGauge 膜厚計Ｃ13027 対応　 Optical NanoGauge 膜厚計Ｃ13027 対応　

型名ステージユニット

I/O

ソフトウエア※4

フィルム測定幅※1

移動速度

位置精度

ケーブル長※1

入力※2

出力※3

幅方向トレンドグラフ

流れ方向トレンドグラフ

C13800-0115051500 mm

150 mm/ 秒、300 mm/ 秒

±0.5 mm 以下：連続測定時、±0.1 mm 以下：ステップ測定時

5 m、10 m

検査開始、検査停止、巻き替え、緊急遮断

膜厚計制御信号・アラーム

選択層のトレンドグラフ（現在＋過去データ）

選択データの最大値、最小値、平均値、標準偏差

測定ライン数：1ライン ～ 1000 ライン

選択層、選択位置のトレンドグラフ（現在＋過去データ）

選択データの最大値、最小値、平均値、標準偏差

測定時間※5 ：0 分 ～ 9999 分

測定巻き取り長※5：0 m ～ 9999 m

断裁 巻取り

乾燥・硬化

塗布・成膜（PVD/CVD)

樹脂、接着層、ITOウェット膜

フィルム厚、中間膜厚、総厚

塗布膜測定

巻出し

乾燥・貼り合わせ後の測定

2017年度版

ミクロ光学系 A13097-11、-12（オフライン用）ミクロ光学系 A13097-01、-02

■ ミクロ光学系 A13097-01、-02

■ ミクロ光学系 A13097-11、-12

外形寸法図仕様

7040

12

2.5

57.52

30.5

150

10

8

280130

17

7.5

※1 ガラスの屈折率を1.5で換算した場合。　※2 400 nm厚さのガラス膜測定時の標準偏差。

※3 使用する光学系または対物レンズの倍率による

型名測定膜厚範囲(ガラス）※1

測定再現性(ガラス）※2※3

測定精度※3

光源測定波長範囲スポットサイズ※3

ワーキングディスタンス※3

高度変動最大繰り返し周波数計測時間ライトガイドコネクタ形状

0.2 nm±0.4 ％

ハロゲン光源

φ100 μm32 mm±2 mm200 Hz

3 ms/pointFC

■ C13027とA13097を組み合わせた場合の仕様

Ａ13097-01、-11100 ｎm～100 μm

700 nm～1100 nm

Ａ13097-02、-1210 ｎm～50 μm

400 nm～800 nm

（単位：mm)

☆Windowsは米国Microsoft Corporationの米国、日本およびその他の国における登録商標または商標です。

Optical Gauge

Optical NanoGauge 膜厚計 / Optical MicroGauge 厚み計オプティカルナノゲージ

オプティカル ゲージ

オプティカルマイクロゲージ

シリーズ

※記載商品名、ソフト名等は該当商品製造会社の商標または登録商標です。※本カタログの記載内容は2017年3月現在のものです。本内容は改良のため予告なく変更する場合があります。

Cat. No. SSMS0043J13MAR/2017 CR(3000)

□ システム営業推進部 　〒431-3196　浜松市東区常光町812　TEL (053)431-0150 FAX (053)433-8031

□□□□□□

TEL (022)267-0121 FAX (022)267-0135TEL (029)848-5080 FAX (029)855-1135TEL (03)3436-0491 FAX (03)3433-6997TEL (053)459-1112 FAX (053)459-1114TEL (06)6271-0441 FAX (06)6271-0450TEL (092)482-0390 FAX (092)482-0550

〒980-0021　仙台市青葉区中央3-2-1（青葉通プラザ 11階）〒305-0817　つくば市研究学園5-12-10（研究学園スクウェアビル7階）〒105-0001　東京都港区虎ノ門3-8-21（虎ノ門33森ビル5階）〒430-8587　浜松市中区砂山町325-6（日本生命浜松駅前ビル）〒541-0052　大阪市中央区安土町2-3-13（大阪国際ビル10階）〒812-0013　福岡市博多区博多駅東1-13-6（竹山博多ビル5階）

仙 台 営 業 所筑 波 営 業 所東 京 営 業 所中 部 営 業 所大 阪 営 業 所西日本営業所

www.hamamatsu.com

スポットサイズを絞り、界面粗さや散乱サンプル、膜厚ムラに対応

ミクロ光学系 A13097

ミクロ光学系 A13097は、広い視野域では測

定が困難なサンプルに対応する光学系です。

Optical NanoGauge 膜厚計 C13027や

C12562と組み合わせることにより、スポット

径をφ100 μmに絞ることができ、測定が困難で

あった界面粗さや散乱の大きなサンプル、パ

ターン上の微小エリア測定などが可能になりま

す。高さ変動にも強い光学系のため、様々な製造

現場での測定を実現しました。オフライン用のサ

ンプルステージタイプも用意しています。

オプション 製品

Optical NanoGauge 膜厚計Ｃ13027 対応　 Optical NanoGauge 膜厚計Ｃ12562 対応