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SR− − Causes/processes involved/keys to judgmentThe uneven plated surface is not completely flattened by the abrasion prior to dry film lamination, which causes poor phototool contact to the panel at the opaque area of a negative pattern phototool. The lifted phototool leads to photographic fogging. (Panel plating process - etching process) 【特徴】比較的広い範囲の複数箇所が露光被り状に 繋がっている状態の短絡 【特征】在较大范围出现多个部位有曝光灰雾状相连 的短路。 CharacteristicsMultiple conductors in relatively wide area are connected, a defect caused by photographic fogging. 【原因・判断ポイント・発生工程】ネガタイプAW Fの不透明部の密着不良部が浮き上がった為露光被 りして出来たもの(AWF作製後~ET工程) 【原因、判断要点、发生工序】在负性 AWF 的不透 明区因为压合不紧而鼓起,妨碍曝光所引起的(AWF 制作后〜ET工序)。 Causes/processes involved/keys to judgmentPoor contact and lifting of a phototool at the opaque area of a negative pattern causes a photographic fogging. (Preparation of phototool - etching process) 【特徴】傷状の導体で串刺し状に繋がっている短絡。 同一個所同一形状の短絡として発見される迄ロット 全数不良となることが多い 【特征】在划伤的导线上有签子形状相连接的短路, 当发现同一部位有同一形状的短路时,多数的情况是 整个批号都不良。 Characteristics Multiple conductors are skewered by a scratch-like conductor.All the products of a lot are frequently rejected until the defect is found as shorts at the same place in the same shape. 1-8-3-4 AWF 密着不良短絡/AWF 压合不紧的短路/ Short by poor phototool contact 【コメント】 顕微鏡倍率× 50 【注释】 显微镜倍率 ×50 ComentsMagnification: ×50 【コメント】 顕微鏡倍率× 【注释】 显微镜倍率 × ComentsMagnification: × 1-8-3-5 AWF 傷短絡/AWF 划伤的短路/ Short by scratch on phototool 【コメント】 顕微鏡倍率× 【注释】 显微镜倍率 × ComentsMagnification: × 【コメント】 顕微鏡倍率× 【注释】 显微镜倍率 × ComentsMagnification: ×

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SR欠陥

シンボルマーク欠陥

めっき欠陥

スルーホール欠陥

機械加工欠陥

その他欠陥

信頼性不足

はんだ上がり欠陥

電子部品実装はんだ周り欠陥

回路欠陥

− �� −

【Causes/processes involved/keys to judgment】The uneven plated surface is not completely flattened by the abrasion prior to dry film lamination, which causes poor phototool contact to the panel at the opaque area of a negative pattern phototool. The lifted phototool leads to photographic fogging. (Panel plating process - etching process)

【特徴】比較的広い範囲の複数箇所が露光被り状に繋がっている状態の短絡

【特征】在较大范围出现多个部位有曝光灰雾状相连的短路。

【Characteristics】Multiple conductors in relatively wide area are connected, a defect caused by photographic fogging.

【原因・判断ポイント・発生工程】ネガタイプAWFの不透明部の密着不良部が浮き上がった為露光被りして出来たもの(AWF作製後~ET工程)

【原因、判断要点、发生工序】在负性 AWF 的不透明区因为压合不紧而鼓起,妨碍曝光所引起的(AWF制作后〜 ET工序)。

【Causes/processes involved/keys to judgment】Poor contact and lifting of a phototool at the opaque area of a negative pattern causes a photographic fogging. (Preparation of phototool - etching process)

【特徴】傷状の導体で串刺し状に繋がっている短絡。同一個所同一形状の短絡として発見される迄ロット全数不良となることが多い

【特征】在划伤的导线上有签子形状相连接的短路,当发现同一部位有同一形状的短路时,多数的情况是整个批号都不良。

【Characteristics】Multiple conductors are skewered by a scratch-like conductor.All the products of a lot are frequently rejected until the defect is found as shorts at the same place in the same shape.

1-8-3-4 AWF 密着不良短絡/AWF 压合不紧的短路/Short by poor phototool contact

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1-8-3-5 AWF 傷短絡/AWF 划伤的短路/Short by scratch on phototool

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