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PLASMAS producidos por un láserpara la formación de películas delgadas
Por Luis Escobar Alarcón([email protected]),
Enrique Camps Carvajal ([email protected]),
Saúl Romero Hernández, Departamento de Física
IntroducciónIntroducciónIntroducciónIntroducciónIntroducción
Estamos acostumbrados a clasificar la ma-
teria que nos rodea en tres estados: sólido,
líquido y gaseoso. En los sólidos los áto-
mos que los constituyen se encuentran en
posiciones bien definidas formando estruc-
turas rígidas y con cierto orden. En los lí-
quidos parte de la rigidez se pierde y los
átomos o moléculas que constituyen al lí-
quido son libres de moverse de manera li-
mitada lo cual confiere a los líquidos su
propiedad de fluir. En los gases las molécu-
las o los átomos pueden moverse libremen-
te, pero dentro de los átomos los electro-
nes se mantienen girando en sus orbitas.
Adicionalmente a estos tres estados, existe
un cuarto estado en que la materia puede
presentarse: cuando en un gas los electro-
nes se separan de los átomos y consiguen
ser libres y moverse de manera indepen-
diente. Al perder parte de sus electrones,
los átomos o las moléculas adquieren car-
ga eléctrica positiva y son llamados iones.
Este estado de la materia es conocido como
plasma. Entonces, el plasma es un gas for-
mado por partículas cargadas positiva o ne-
gativamente, que se encuentra en una con-
dición tal que la carga total es igual a cero,
por lo que se dice que es eléctricamente
neutro. Vale la pena mencionar que en las
condiciones terrestres el estado de plasma
es poco frecuente, pero en el universo gran
parte de la materia se encuentra en estado
de plasma. Todos hemos visto de una u otra
manera plasmas, en los relámpagos, en las
auroras boreales. En algún momento, todos
(o casi todos) hemos tenido el placer de pro-
ducir un cortocircuito y en este caso la chis-
pa que salta entre dos conductores está
formada por plasma. Los anuncios lumino-
sos que atraen nuestra atención en las
noches deben su brillo a los plasmas confi-
nados dentro de tubos de vidrio, como el
caso de las lámparas de Neón. Pero, ¿cómo
se obtiene un plasma? Cualquier sustancia
al ser calentada hasta una temperatura su-
ficientemente alta pasará al estado de plas-
ma; entonces todo lo que se necesita hacer
para obtener un plasma es elevar la tempe-
ratura de alguna sustancia.
Actualmente hay gran interés en el estudio
de los plasmas debido, entre otras cosas, a
las aplicaciones que éstos tienen tanto en
el ámbito de la energía, como en el de la
ciencia de materiales. Dichas aplicaciones
han promovido el estudio detallado de los
El ININ hoy
5Contacto NuclearContacto NuclearContacto NuclearContacto NuclearContacto Nuclear
procesos físicos y químicos que ocurren en
el plasma. En el estudio de las característi-
cas del plasma o diagnóstico del plasma,
como es conocido entre los especialistas
del área, resulta indispensable tener un
control estricto sobre el proceso de forma-
ción de materiales, cuando los plasmas son
utilizados para el tratamiento o formación
de materiales. Además, el diagnóstico re-
presenta una fuente importante de datos
para la comprensión de los procesos físicos
involucrados en la generación de nuevos
materiales.
Algunos años después de la puesta en
marcha del primer láser de rubí, se estuvo
en posibilidad de tener láseres de alta po-
tencia y pulsos cortos (duraciones del or-
den de 10-9 segundos), lo que permitió al-
canzar densidades de potencia de hasta
1012 W/cm2, suficientes para elevar la tem-
peratura de un material en varios miles de
grados centígrados de manera local, de tal
manera que se podía producir un plasma.
Experimentalmente lo que se hace es inci-
dir radiación láser de alta potencia y pulsos
cortos sobre un blanco sólido, donde pri-
meramente éste se funde, luego se vapori-
za y finalmente el gas se ioniza para pro-
ducir una mezcla de iones y electrones, re-
sultando un plasma que puede estar par-
cial o completamente ionizado. En la figura
1 se muestra un plasma producido en
nuestro laboratorio por la interacción de
radiación láser de 1064 nm de longitud de
onda y una energía por pulso de aproxima-
damente 200 mJ, con un blanco de carbo-
no.
Es importante señalar que la interacción
entre radiación láser y superficies sólidas
ha recibido mucha atención en los últimos
años, no sólo por el interés de realizar la
fusión termonuclear, sino también por el
hecho de que los plasmas formados me-
diante esta interacción encuentran diversas
aplicaciones en otras áreas de la ciencia y
tecnología. Se pueden citar, por ejemplo, la
producción de fuentes de iones para inves-
tigaciones espectroscópicas, de interés
astrofísico, o para la tecnología de
aceleradores, en el estudio de la formación
de nuevos elementos superpesados, o bien
para la formación de materiales en forma
de película delgada, que es la aplicación en
que se centrará el presente artículo.
Una película delgada puede definirse de
manera general como aquella estructura
material que tiene una de sus dimensio-
nes muy pequeña en comparación con las
otras dos. En la práctica se consideran pelí-
culas delgadas aquellos materiales que tie-
nen espesores desde unos cuantos
nanómetros hasta algunos miles de
nanómetros, aunque esto no es muy espe-
cifico. Se suele también utilizar en la prácti-
ca el nombre de capa delgada, como sinó-
Figura 1. Plasma producido por ablación láser a partir de unblanco de carbono para formar películas delgadas depara formar películas delgadas depara formar películas delgadas depara formar películas delgadas depara formar películas delgadas de
carbono amorfo tipo diamante.carbono amorfo tipo diamante.carbono amorfo tipo diamante.carbono amorfo tipo diamante.carbono amorfo tipo diamante.
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nimo de película delgada, o simplemente
capa o película. Es importante señalar que
en general, las propiedades de los materia-
les en forma de película delgada pueden
ser significativamente diferentes de sus
atributos en bulto, resultando algunas de
sus propiedades con órdenes de magnitud
mejores en película delgada.
Los materiales en forma de película delga-
da han sido objeto de intensa investiga-
ción en los últimos años, debido a la am-
plia variedad de aplicaciones que tienen
en diversos campos de la ciencia y la tec-
nología. A continuación se enlistan algu-
nas de éstas:
1. En el campo de la óptica se utili-
zan como recubrimientos
antirreflejantes o protectores de
espejos, divisores de haz, filtros, etc.
En forma de estructura multicapa
se utilizan en la fabricación de es-
pejos altamente reflectores para
longitudes de onda específicas en
resonadores láser.
2. En el área de la electrónica su im-
pacto más importante ha sido en
la miniaturización de los circuitos
integrados, lo que de hecho ha re-
volucionado esta tecnología. Se uti-
lizan también como capas aislantes,
en la fabricación de micro-
condensadores y micro-baterías,
entre otros.
3. En el área metal-mecánica se usan
como recubrimientos ultra-duros
en herramientas de corte. Sus pro-
piedades tribológicas (ver p. 13) se
aprovechan para obtener
recubrimientos sin fricción y resis-
tentes al desgaste; también son
ampliamente usadas como
recubrimientos anticorrosivos.
4. El campo de la optoelectrónica uti-
liza las películas delgadas en diver-
sos dispositivos electroópticos, como
guías de onda, como medios de re-
gistro de información, etc.
5. Entre sus usos generales encontra-
mos que se utilizan como sensores
de gas, de humedad, de humo,
como soportes catalíticos, en celdas
solares y como recubrimientos
biocompatibles, por mencionar al-
gunos ejemplos.
A pesar de haber métodos bien estableci-
dos para la producción de películas delga-
das de alta calidad, existe considerable in-
terés en métodos alternos que puedan ser
menos caros, más confiables, eficientes y
capaces de producir películas delgadas con
propiedades nuevas o mejoradas. La abla-
ción láser es una técnica que ha dado res-
puesta a algunas de las necesidades cita-
das y se ha convertido en los últimos años
en una alternativa para la obtención de pe-
lículas delgadas, teniendo algunas venta-
jas respecto a otras técnicas. Es convenien-
te mencionar también que cualquiera que
sea la ruta de síntesis utilizada para obte-
ner la película delgada, sus propiedades
pueden variarse mediante una selección
apropiada de los parámetros de depósito
involucrados, así como de tratamientos post-
depósito adecuados, lo que permite crear
materiales con propiedades especificas para
aplicaciones concretas.
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Depósito de películas delgadas porDepósito de películas delgadas porDepósito de películas delgadas porDepósito de películas delgadas porDepósito de películas delgadas por
ablación láserablación láserablación láserablación láserablación láser
El primer experimento de ablación láser para
el depósito de películas delgadas utilizan-
do láseres pulsados de alta potencia, se lle-
vó a cabo hace ya más de 35 años por
Smith y Turner, poco después de la inven-
ción del láser de rubí pulsado. En su artícu-
lo, los autores describen los primeros expe-
rimentos para el depósito de películas del-
gadas de diferentes materiales, e incluso
vislumbran algunas ventajas de la técnica.
Sin embargo, fue sólo a partir de la década
pasada que la técnica de ablación láser re-
cibió un fuerte impulso experimental y am-
plió su uso para la investigación del creci-
miento de películas delgadas. El ímpetu lo
recibió a raíz del descubrimiento de la posi-
bilidad de crecer películas delgadas de bue-
na calidad de superconductores de alta tem-
peratura crítica en una atmósfera de oxí-
geno a baja presión sin necesidad de pro-
cesado posterior. Ese descubrimiento abrió
el campo de investigación en el crecimien-
to de películas delgadas de óxidos cerámicos
utilizando ablación láser. Sin embargo, el pro-
greso subsiguiente buscando el estableci-
miento definitivo de la técnica para la pro-
ducción de películas delgadas de calidad
óptima fue lento, debido por un lado a que
competía con técnicas bien establecidas y
por el otro, a que el conocimiento sobre los
procesos físicos fundamentales involucrados
en esta técnica era insuficiente. Actualmen-
te, a pesar de que se han superado mu-
chos de sus problemas, aún puede consi-
derarse una técnica relativamente novedosa
para el depósito de películas delgadas y, si
se le compara con otras técnicas de depósi-
to como por ejemplo la pulverización
catódica o la epitaxia de haces moleculares,
aún permanece inexplorada en gran parte.
A pesar de lo anterior, la tecnología emer-
gente para el depósito de películas delga-
das utilizando la técnica de ablación láser
Figura 2. Esquema de un arreglo experimental típico, parael depósito de películas delgadas por ablación láser.
LASER DE
Nd:YAG
Camára de vacío
espejo
lente
plasma
substrato
blanco
Haz láser
Película delgada
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ha resultado ser una herramienta podero-
sa y versatil para preparar películas delga-
das de materiales difíciles o imposibles de
producir por las técnicas convencionales de
depósito físico en fase vapor.
Un esquema experimental para depositar
películas delgadas por ablación láser se
muestra en la figura 2. El blanco y el
substrato se colocan dentro de una cáma-
ra de alto vacío en un arreglo geométrico
adecuado; eventualmente es posible llenar
la cámara con algún tipo de gas ya sea
reactivo o inerte durante el depósito. El haz
láser se enfoca sobre el blanco mediante
una lente, haciéndolo pasar por una ven-
tana transparente a la longitud de onda
del láser utilizado montada en la cámara.
Así se producirá un plasma que se propa-
ga perpendicular a la superficie del blanco
y que posteriormente se condensa sobre
el substrato para formar la película delga-
da.
Como puede apreciarse, el experimento es
conceptualmente muy simple y es análogo
al experimento que hicimos en la secun-
daria de concentrar la luz del sol utilizando
una lupa para quemar algo, por ejemplo
un trozo de papel o madera e incluso la
mano de un compañero.
Debido a su naturaleza, la técnica de abla-
ción láser posee características intrínsecas
que la distinguen de las demás, en la ob-
tención de películas delgadas. Las princi-
pales ventajas de esta técnica son, entre
otras:
1. Transferencia congruente (conser-
vación de la composición); esto
quiere decir que bajo ciertas con-
diciones experimentales, se puede
conseguir que la película deposita-
da tenga la misma composición
que el blanco.
2. Depósito a partir de un plasma al-
tamente energético; las energías
cinéticas y de excitación interna de
las especies que experimentan
ablación pueden usarse para favo-
recer la formación de la película y
promover reacciones químicas, tan-
to en la fase gaseosa, como en la
superficie de la película en creci-
miento, en forma simultánea o no.
3. Posibilidad de realizar depósitos en
atmósfera reactiva o inerte; debido
a que no se requieren haces de
electrones o filamentos calientes
dentro de la cámara de depósito.
Las especies energéticas en el plas-
ma reaccionan fácilmente con las
moléculas del gas para formar com-
puestos simples (óxidos, nitruros e
hidruros), de tal manera que el de-
pósito reactivo en atmósferas
oxidantes a baja presión, como por
ejemplo O2, O3, NO2, N2O, o vapor de
agua, combinado con la propiedad
de transferencia congruente, permi-
te crecer películas delgadas de alta
calidad de sistemas
multicomponentes difíciles de fabri-
car mediante otras técnicas. Como
ejemplo, es posible citar fe-
rroeléctricos, ferritas biocompatibles,
materiales cerámicos, entre otros.
4. Prácticamente se puede depositar
cualquier material, desde elemen-
tos puros hasta compuestos de ele-
vada complejidad, incluyendo aque-
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llos con alta temperatura de eva-
poración.
5. Es un proceso muy limpio debido
a que la fuente de energía utiliza-
da para vaporizar se localiza fuera
de la cámara de evaporación.
6. La técnica ofrece la posibilidad de
controlar el espesor de la película
con buena precisión, lo que per-
mite trabajar en sistemas de baja
dimensionalidad donde se requie-
ren espesores de unas cuantas
monocapas.
7. Puede combinarse con otras téc-
nicas de depósito para obtener
configuraciones híbridas que per-
mitan optimizar los procesos de cre-
cimiento y mejorar las propiedades
de las películas.
Las características anteriores facilitan la ob-
tención de películas con las propiedades
deseadas de composición, estructura, eléc-
tricas, ópticas, etc., sin necesidad de reali-
zar tratamientos posteriores al depósito,
como por ejemplo tratamientos térmicos en
atmósfera controlada.
En la actualidad hay una amplia gama de
materiales depositados por esta técnica, la
lista incluye: superconductores de alta tem-
peratura critica (BiSrCaCuO e YBaCuO), ma-
teriales magnéticos (BaFeO, g-FeO, ZnFeO),
ferroeléctricos (PbZrxTi(1-x), BaTiO3, PbTiO3,
LiNbO3), materiales ópticos (KTiOPO, LiNbO,
LiTaO), semiconductores (GaAs), metales
(Au, Al, Cu, Co, Pt, Ti), polímeros (PMMA, PPS),
recubrimientos de materiales
biocompatibles (Ca10(PO4)6(OH)2, TiO2), car-
bono con estructura tipo diamante, mate-
riales tribologicos (MoS2, WS
2, TiO
2, PbO, TiC)
y materiales nanocristalinos, entre otros.
Plasmas por ablación láser en el ININPlasmas por ablación láser en el ININPlasmas por ablación láser en el ININPlasmas por ablación láser en el ININPlasmas por ablación láser en el ININ
En el laboratorio de plasmas de microondas
y ablación láser del departamento de física,
hemos desarrollado una instalación expe-
rimental para la formación de plasmas por
ablación láser y para el depósito de pelícu-
las delgadas utilizando el plasma así for-
mado. Nuestro trabajo de investigación tie-
ne dos vertientes; por un lado trabajamos
en el diagnóstico de plasmas formados por
esta técnica con el propósito de contribuir
al esclarecimiento de los mecanismos físi-
cos y químicos involucrados en la técnica;
por el otro, tratamos de establecer la forma
en que estos mecanismos afectan las pro-
piedades físicas de los materiales deposi-
tados, de modo que el material pueda ser
optimizado y formado con un buen grado
de reproducibilidad. En nuestro laboratorio
se trabaja en la síntesis de materiales, ta-
les como carbono amorfo tipo diamante,
óxido de aluminio, óxido de titanio, nitruro
de titanio y nitruro de carbono, materiales
con aplicaciones tecnológicas potenciales.
Algunos de los materiales (como el óxido
de aluminio y el nitruro de carbono) permi-
ten realizar investigación en la formación
de películas delgadas de materiales que
pueden ser utilizados para medir radiación
ionizante (rayos X) y radiación no-ionizante
(ultravioleta) con alta resolución espacial.
Este tipo de estudio ha sido motivado por
un lado, debido a que actualmente las téc-
nicas radioterapéuticas, como por ejemplo
la radioterapia conformal, la radiocirugía
esterotáxica, la sinovectomía por radiación,
entre otras, requieren de una dosimetría
con alta resolución espacial, de manera que
1 01 01 01 01 0 Contacto NuclearContacto NuclearContacto NuclearContacto NuclearContacto Nuclear
Bibl iograf íaBibl iograf íaBibl iograf íaBibl iograf íaBibl iograf ía
[1] Chrisey, D.B., Hubler, G.K. (Eds.), Pulsed Laser Deposi-tion of Thin Films, John Wiley & Sons, New York (1994).
[2] J. C. Miller, R.F. Haglund (Eds.), Laser Ablation: Mecha-nisms and Applications, Springer Verlag, USA (1991)
[3] L. Escobar-Alarcón, Ablación láser de óxidos: Síntesis ycaracterización de películas delgadas, Tesis de Doctorado,UAEM (1999).
[4] L. Escobar-Alarcón, J. E. Villarreal Barajas, E. Camps, S.Muhl, E. Haro-Poniatowski, S. Romero, B. Salinas; MaterialsScience and Engineering B, 90, 81-85 (2001).
se puedan realizar medidas exactas en re-
giones con gradientes de dosis altas; por
otro lado en los últimos años ha sido de
mucho interés el desarrollo de materiales
dosimétricos para usarse en la región
ultravioleta (UV), debido a los efectos que
tiene sobre la salud humana la componen-
te UV de la luz solar, asociada al cáncer de
piel y a la eritema.
La importancia de desarrollar este tipo de
materiales, radica en el hecho de que se
podrían fabricar dosímetros ultra-delgados,
con espesores del orden de decenas a cen-
tenas de nanómetros; estos dosímetros ten-
drían una alta resolución espacial, limitada
solamente por el espesor de la capa delga-
da, lo que permitiría realizar mediciones de
distribución de dosis absorbida con una
mayor exactitud. Otra ventaja importante de
estos dosímetros sería la posibilidad de rea-
lizar mediciones de dosis absorbida en cual-
quier medio en condiciones ideales, lo que
permitiría la estimación de dosis absorbida
en el medio sin necesidad de realizar co-
rrecciones debidas a la perturbación cau-
sada por el dosímetro. Particularmente, las
películas delgadas de carbono amorfo
nitrurado presentan algunas ventajas im-
portantes para usarse como dosímetros,
entre las que cabe destacar las siguientes:
no es tóxico, es inerte químicamente, es
insensible al daño inducido por radiación y
es muy estable, de tal manera que puede
usarse para realizar dosimetría “in vivo”. Su
ventaja más importante radica en el hecho
de que por tener un número atómico igual
a 6, puede considerarse como un material
equivalente a tejido biológico, ya que el
número atómico efectivo del tejido es de
aproximadamente 7.4. Es importante seña-
lar que este material puede sintetizarse a
bajas temperaturas de substrato, pudién-
dose obtener capas delgadas con espeso-
res del orden de 100 nm y morfología su-
perficial suave, lo que las hace promisorias
como dosímetros ultra-delgados.
ConclusionesConclusionesConclusionesConclusionesConclusiones
Las perspectivas que ofrece la técnica de
ablación láser son múltiples. El espectro de
trabajo que comprende el depósito de pelí-
culas delgadas por ablación láser va desde
estudiar los efectos de los parámetros del
láser sobre el proceso de ablación y la pro-
pagación del plasma, hasta la optimización
de las superficies de los substratos para
obtener diferentes modos de crecimiento
de la película delgada.
En particular, uno de los trabajos que he-
mos desarrollado demuestra que es posi-
ble obtener materiales en forma de pelícu-
la delgada con espesores de centenas de
nanómetros, que pueden ser utilizados
como detectores de radiación ionizante (ra-
yos X) y radiación no-ionizante (UV). Esta
propiedad hace a estos materiales atracti-
vos para ser utilizados como dosímetros
ultra-delgados.