TANG MINH QUANG 11T1121Y

応用物理学会レポートテーマ：Ultra-low reflectivity poly-crystalline Si surfaces fabricated by surface structure chemical transfer method Osaka University （30日）

内容：

For achievement of high efficiency solar cells, formation of ultra-low reflectivity surfaces is indispensable. Polycrystalline Si can provide a low cost starting material as compared to crystalline Si, however, low reflectivity surfaces cannot be produced by isotropic alkaline etching Therefore, acid etching is usually employed to produce rough surfaces, but the reflectivity is still higher (~ 20%) than that of mat-textured surfaces (~ 10%) by alkaline etching.

They have developed a method for producing ultra-low reflectivity Si surfaces using the “surface structure chemical transfer” (SSCT) method. A Nano crystalline Si layer can be produced on the polycrystalline Si surface simply by contacting with a catalyst in an HF-H2O2 solution. The reflectivity of the polycrystalline surface with a Si Nano crystalline layer was observed to be as low as 2% in the 300 – 800 nm wavelength region.

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太陽電池の高効率化において、基板の超低表面反射を抑える事は必要不可欠で

ある。多血症シリコンは単結晶シリコンと比べて、値段が安くなる事ができる

が、低表面反射率が isotropic alkaline etching 法より作成できない。従って、普

通に粗面を製造するため acid etching を利用される。しかし、反射率はマット組

織と比べ、まだまだ高い。表面構造化学的転移法を利用して、彼たちは超低表

面反射率のシリコンを製造することが出来た。300~800nm 波長領域、多結晶シ

リコンの表面反射率は 2％に達成出来る事が分かった。

テーマ：ナノインプリントによる表面テクスチャ構造を有した Si 太陽電池の光散乱シミュレーション（30日）

内容：

太陽電池の高効率化において、基板の表面反射を抑えることは必要不可欠である。 研究者は、ゲル溶液を用いた Gel-Nanoimprint 技術による無機材料

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(例:ZnO)のナノ構造形成技術を開発し、作製したパターンのサイ ズエラーを 3%以下にする技術開発に成功している。本研究では、シミュレーションによる構造比較・最適化を行った。

2 次元デバイスシミュレーター を使用し、wet etching により 出来る etched-texture 構造と、ZnO 膜で同様のマイクロピラミッド構造を平坦な基板上に作製した Nanoimprinted-texture 構造の比較を行った。 。従来の構造と本研究の構造を比較し、電流電圧特性、反射率、分光感度特性、光生成キャリ ア密度分布を評価し検証した。

テーマ：MBE 法によるダイヤモンド上への Al スタート AlN 成長 Al-first AlN Growth on Diamond by Molecular Beam Epitaxy 早稲田大学理工学術院（27日）

内容：

ダイヤモンドは、高耐圧・高速動作・高熱伝導率といった特性より低損失パワーデバイスとし て期待されている。研究者は MBE 法により Al から交互供給を始めることで ダイヤモンド表面に Al を結合させ、AlN を成長させることが可能か検討した。