6 . transistor jfet

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Características de construcción de FETCircuitos de polarización con FET

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  • TRANSISTOR FET

    TRANSISTOR DE EFECTO DE CAMPO

    ANALGICA I

  • TRANSISTORES DE EFECTO DE CAMPO

    ANALGICA I

    EFECTO DE

    CAMPO

    UNIN

    METAL-OXIDO-

    SEMICONDUCTOR

    CANAL N (JFET-N)

    CANAL P (JFET-P)

    CANAL N (MOSFET-N)

    CANAL P (MOSFET-P)

    Dr Julius Lilienfield (Alemania) en 1926 patent el

    concepto de "Field Effect Transistor".

    20 aos antes que en los laboratorio Bell fabricaran

    el primer transistor bipolar.

  • TRANSISTORES DE EFECTO DE CAMPO

    ANALGICA I

  • TRANSISTORES DE EFECTO DE CAMPO

    INTRODUCCIN:

    Son dispositivos de estado slido

    Tienen tres o cuatro terminales

    Es el campo elctrico el que controla el flujo de cargas

    El flujo de portadores es de un nico tipo ( o electrones huecos)

    Pueden funcionar en diferentes regiones de polarizacin

    Segn en que regin de polarizacin se encuentren, funcionan como:

    Resistencias controladas por tensin

    Amplificadores de corriente tensin

    Fuentes de corriente

    Interruptores lgicos y de potencia

    ANALGICA I

  • TRANSISTORES DE EFECTO DE CAMPO

    La corriente de puerta es prcticamente nula (func. Normal) es decir una ALTA IMPEDANCIA DE ENTRADA. 1M

    Tienen tres terminales denominados:Drenador

    Puerta

    Fuente surtidor

    Hay de bastantes tipos, pero los mas importantes son los:

    MOSFET (Metal-xido semiconductor)

    ANALGICA I

  • FET VS BJT

    Los FETs necesitan menos rea en un CI, y menos pasos de fabricacin

    Los BJTs pueden generar corrientes de salida mas elevadas para conmutacin rpida con cargas

    capacitivas.

    Los FETs tiene una impedancia de entrada muy alta

    En los FETs el parmetro de transconductancia (gm) es menor que en los BJTs, y por lo tanto tienen menor

    ganancia.

    LOS BJT SON CONTROLADOS POR CORRIENTE MIENTRAS QUE LOS JFET SON CONTROLADOS POR

    VOLTAJE

    ANALGICA I

  • FET VS BJT

    Para el FET las cargas presentes establecen un campo elctrico que controla la conduccin del circuito de salida.

    Las ganancias de voltaje en CA son mayores para el FET

    Los FET son ms estables ante los cambios de temperatura que los BJT.

    Los FET son ms sensibles a la manipulacin.

    Inconvenientes

    Los FET exhiben una pobre respuesta en frecuencia, debido a la alta capacidad de entrada.

    Algunos FET tienen una pobre linealidad.

    Los FET se daan con el manejo debido a la electricidad esttica.

    ANALGICA I

  • TRANSISTORES DE EFECTO DE CAMPO DE

    JUNTURA - JFET

    Consiste en un canal de semiconductor tipo N o P dependiendo del tipo de JFET, con contactos

    hmicos (no rectificadores) en cada extremo,

    llamados FUENTE y DRENADOR.

    A los lados del canal existen

    dos regiones de material

    semiconductor de diferente

    tipo al canal, conectados entre

    s, formando el terminal de

    PUERTA.

    Los JFET se utilizan

    preferiblemente a los MOSFET

    en circuitos discretos.

    ANALGICA I

  • TRANSISTORES DE EFECTO DE CAMPO DE

    JUNTURA - JFET

    En el JFET de canal N, la unin puerta canal, se encuentra polarizada en

    inversa, por lo que

    prcticamente no entra

    ninguna corriente a travs

    del terminal de la puerta.

    El JFET tienes dos uniones n-p sin polarizacin,

    obtenindose una regin de

    empobrecimiento en cada

    unin similar al diodo

    ANALGICA I

  • JFET DE CANAL N

    En la unin p-n, al polarizar en inversa la puerta y el canal, una capadel canal adyacente a la puerta se convierte en no conductora.

    Cuanto mayor es la polarizacin inversa, ms gruesa se hace la zonade deplexin; cuando la zona no conductora ocupa toda la anchura

    del canal, se llega al corte del canal. A la tensin necesaria para que

    la zona de deplexin ocupe todo el canal se le llama tensin puerta-

    fuente de corte (VGSoff Vto). Esta tensin es negativa en los JFET

    de canal n.

    ANALGICA I

  • JFET DE CANAL N

    VGS=0V y variando VDS:

    Para valores pequeos de VDS, ID es proporcional a

    VDS (zona hmica).

    se obtiene una regin deempobrecimiento en el

    extremo de cada material p.

    Cuando se aplica VDD, loselectrones son atrados hacia

    el drenaje y se genera una

    ID, teniendo que ID =IS

    ANALGICA I

  • JFET DE CANAL N

    VGS=0V y variando VDS:

    Suponiendo que la resistenciadel canal es uniforme, segn

    como avance la corriente

    (sentido real) mayor oposicin

    encontrara, y debido a que el

    extremo del canal prximo D

    se halla polarizado en inversa,

    al aumentar VDS, la zona de

    deplexin se hace ms ancha.

    El paso entre las dos zonas seproduce en el valor de tensin

    de estrangulamiento Vp, para

    Vgs=0.

    ANALGICA I

  • JFET DE CANAL N

    El paso entre las dos zonas se produce en el valor de tensin de estrangulamiento VP, para VGS=0.

    Para valores de VDS pequeos, Id es proporcional a VDS (zona hmica)

    Al variar VGS. Si VGS

  • JFET DE CANAL N

    En cuyo caso el JFET se comporta como

    una fuente de corriente en el caso de que

    VDS>VP IDSS corriente de drenaje

    maxima del JFET Para VGS=0V

    ANALGICA I

  • JFET DE CANAL N

    ANALGICA I

  • JFET DE CANAL N

    Al variar VGS

    La resistencia del canal es elevada. Esta es evidente paravalores de Vgs prximos a VGSoff. Si (tensin de

    corte), la resistencia se convierte en un circuito abierto y el

    dispositivo est en CORTE.

    La zona donde Id depende de VDS se llama REGIN LINEALU HMICA, y el dispositivo funciona como una resistencia. El

    valor de esta resistencia (pendiente de recta) vara con Vgs.

    La zona donde Id se hace constante (fuente de Intensidad cte)es la REGIN DE SATURACIN. Id es mxima para Vgs = 0

    (Idss), y es menor cuanto ms negativa es Vgs. Para Vgs=0 la

    regin comienza a partir de Vp.

    Siempre se cumple que Vgsoff = -Vp. Idss y Vp ( Vgsoff)sondatos dados por el fabricante.

    Vgsoff = Vgs de corte = Voltaje de estrangulamiento

    ANALGICA I

  • JFET DE CANAL N

    ANALGICA I

  • CURVA DE TRANSCONDUCTANCIA

    ANALGICA I

  • RESISTOR CONTROLADO POR VOLTAJE

    Cuando |VDS| < |VP|, son una

    funcin del voltaje aplicado VGS,

    si VGS se hace ms negativo, la

    pendiente de la curva se hace ms

    horizontal, lo que significa una

    resistencia mayor

    ro = Resistencia con VGS =0V

    rd = Para un valor en particular de

    VGS

    |VGSoff|=|VP|

    ANALGICA I

  • RUPTURA DEL JFET

    Cuando la polarizacin inversa entre puerta y canal se hace

    demasiado grande, la unin sufre una ruptura inversa, y la

    corriente de drenador aumenta rpidamente.

    ro = Resistencia con VGS =0V

    rd = Para un valor en particular de VGS

    La polarizacin inversa de mayor magnitud tiene lugar en el

    extremo correspondiente al drenador.

    La ruptura se producir cuando VDG exceda de la tensin de

    ruptura. Como VDG= VDS VGS, la ruptura tendr lugar a valores ms pequeos de VDS a medida que VGS se

    aproxime a VP.

    ANALGICA I

  • RUPTURA DEL JFET

    ANALGICA I

  • DISPOSITIVOS DE CANAL P

    El JFET de canal p, tiene una estructura inversa a la de

    canal n; siendo por tanto necesaria su polarizacin de

    puerta tambin inversa respecto al de canal n.

    ANALGICA I

  • VALORES MXIMOS Y NOMINALES

    Los valores mximos especificados para VDS y VDG nodeben ser excedidos en cualquier punto de operacin.

    VDD puede exceder los valores marcados en las hojas deespecificaciones, pero en los terminales del circuito no.

    La disipacin total de potencia a temperatura ambienteser: = VDS .

    Caractersticas comerciales:

    IDSS y VP

    ANALGICA I

  • POLARIZACIN DEL JFET

    La variable de control de entrada es un voltaje(VGS) y de salida ser una corriente (ID).

    Parmetros importantes: 0 =

    = 1

    2

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN DE POLARIZACIN FIJA

    Analizando en CC

    = 0 + = 0= = +

    = 1

    2

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN DE POLARIZACIN FIJA

    EJERCICIO

    VDD=12V, IDSS = 10mA, Vp=-4V

    = +

    =12

    0,0025 1200= 9

    = 10 1 2

    4

    2

    = 2,5

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN DE POLARIZACIN FIJA

    EJERCICIO

    Con VDD=12V, Vp=-2,5V, calcular VGS y RD tomando , IDSS = 7mA, ID = 3,5mA, VD = 6

    = +

    =12 6

    0,0035 = 1,714 1,8 = 1

    = 1

    2

    = 2,5 1 0,0035

    0,007= 0,732

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN DE AUTOPOLARIZACIN

    Analizando en CC

    =0V = = = + +

    = 1

    2

    Donde la Rs puede o no existir lo que reducira la ecuacin

    previa a la misma de la configuracin anterior.

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN DE AUTOPOLARIZACIN

    Analizando en CC

    = = = = + + = + = = = 0 =

    = 1

    2

    =

    =

    + ANALGICA I

  • CONFIGURACIN DE AUTOPOLARIZACIN

    EJERCICIO10

    4

    100

    IDSS mA

    VP

    VGS ID RS

    VGS ID

    2100

    10 14

    6.8

    ( )

    12

    6.8 100 1.2

    3.16

    max 9.2

    max

    IDID mA

    ID mA

    VDD VDS ID RD RS

    VDSmA k

    VDS V

    VDDID mA

    RS RD

    VDS VDD

    Si RS aumenta, el punto de carga Q baja, es decir

    ID disminuye

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN DE AUTOPOLARIZACIN

    EJERCICIO

    Con VDD=12V, Vp=-4V, calcular VGS, RD Y RS tomando , IDSS = 7mA, ID = 4mA, VD = 6

    VGS = VG VS-0,976V= 0 VS VS=0,976VVS= RS ID RS = 0,976 0,004RS = 250 = 1

    = 1

    2

    = 4 1 0,004

    0,007= 0,976

    = + +

    =12 6

    0,004

    = 1,25

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN CON PARTIDOR DE TENSIN

    Analizando en CC

    = = = + +

    =2

    1 + 2

    Cuando = 0 entonces

    =

    = 1

    2

    =

    =

    +

    =

    1 = 2 =

    +

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN CON PARTIDOR DE TENSIN

    Analizando en CC

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN CON PARTIDOR DE TENSIN

    Analizando en CC

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN CON PARTIDOR DE TENSIN

    EJERCICIO CONOCIENDO VALORES DE CADA RESISTENCIA

    12

    10

    4

    VDD V

    IDSS mA

    VP

    VGS VG ID RS

    26 1100

    10 14

    6.22

    ( )

    12 6.22 1100 150

    4.225

    max 9.6

    max

    IDID mA

    ID mA

    VDD VDS ID RD RS

    VDS mA

    VDS V

    VDDID mA

    RS RD

    VDS VDD

    1*12 6

    1 1

    6 100

    MVG V

    M M

    VGS ID

    Para efectos de diseo se puede asumir RS = RD, R1=R2 lo que

    significa que VG=VDD/2

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN CON PARTIDOR DE TENSIN

    EJERCICIO - DISEO

    12

    4

    10

    4

    3

    1 2 1

    VDD V

    VDS V

    IDSS mA

    VP V

    ID mA

    R R M

    26 0.003

    0.003 10 14

    1 2603.0366 , 2 4063.63

    RSmA

    RS RS

    1*12 6

    1 1

    6 0.003

    MVG V

    M M

    VGS RS

    ( )

    12 4 0.003*2603.0366

    0.003

    63.603

    VDD VDS ID RD RS

    RD

    RD

    CON RS1

    CON RS2( )

    12 4 0.003*4063.63

    0.003

    1396.963

    VDD VDS ID RD RS

    RD

    RD

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN COMPUERTA COMN

    = 1

    2

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN COMPUERTA COMN

    = = Si ID=0mA

    = + =

    = = +

    = 1

    2

    =

    si = 0

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN COMPUERTA COMN

    = = Si ID=0mA

    = + =

    = = +

    =

    si = 0

    ANALGICA I

  • CONFIGURACIN COMPUERTA COMN

    = = Si ID=0mA

    = + =

    = = + ANALGICA I

  • CASO VGS=0V

    = = 0

    =

    =

    = 1

    2

    ANALGICA I

  • N N

    P

    Substrato(Substrate)

    Canal(Channel)

    Puerta(Gate)Drenador

    (Drain)

    Fuente(Source)

    VISTA SUPERIOR

    SECCIN

    TRANSISTOR MOSFET - canal NAislante (Si O2)

    ANALGICA I

  • MOSFET de empobrecimiento

    ANALGICA I

  • MOSFET: transistor de efecto de campo

    semiconductor de xido metlico

    Se forma una placa de material tipo p a partir de una base de silicio y se conoce como substrato.

    En algunos casos, el

    sustrato se conecta

    internamente a la terminal

    de fuente.

    Muchos dispositivos

    individuales cuentan con

    una terminal adicional

    etiquetada SS

    ANALGICA I

  • MOSFET: transistor de efecto de campo

    semiconductor de xido metlico

    La fuente y el drenaje estn conectados mediante contactos metlicos a regiones tipo n dopadas vinculadas a un canal n

    La compuerta est

    conectada a una

    superficie de contacto

    metlica aunque

    permanece aislada del

    canal n por una capa

    de bixido de silicio

    (SiO2) muy delgada

    ANALGICA I

  • MOSFET: transistor de efecto de campo

    semiconductor de xido metlico

    El(SiO2) es un tipo de aislante conocido como dielctrico, el cual establece campos elctricos opuestos

    No hay una conexin elctrica entre la terminal de compuerta y el canal de un MOSFET.

    La capa aislante de SiO2 en la construccin de un MOSFET es la responsable de la muydeseable alta impedancia de entrada del dispositivo.

    ANALGICA I

  • MOSFET: transistor de efecto de campo

    semiconductor de xido metlico

    Si el voltaje de la compuerta a la fuente se ajusta a 0 V por

    la conexin directa de una

    terminal a la otra y se aplica

    un voltaje VDS del drenaje a

    la fuente

    resultado es la atraccin del

    potencial positivo en el

    drenaje por los electrones

    libres del canal n y la

    corriente semejante a la

    que se establece a travs

    del canal del JFET

    ANALGICA I

  • MOSFET: transistor de efecto de campo

    semiconductor de xido metlico

    Si VGS =-1 V.

    El potencial negativo en la

    compuerta tender a ejercer

    presin en los electrones

    hacia el sustrato tipo p (las

    cargas semejantes se

    repelen) y a atraer los huecos

    del sustrato tipo p (las cargas

    opuestas se atraen)

    ANALGICA I

  • MOSFET: transistor de efecto de campo

    semiconductor de xido metlico

    Dependiendo de la magnitud de la polarizacin negativa

    establecida por VGS, ocurrir

    un nivel de recombinacin

    entre los electrones y huecos

    que reducir el nmero de

    electrones libres en el canal n

    disponibles para conduccin.

    Por consiguiente, el nivel de la corriente de drenaje

    resultante se reduce con la

    polarizacin cada vez ms

    negativa de VGS

    ANALGICA I

  • MOSFET: transistor de efecto de campo

    semiconductor de xido metlico

    Para valores positivos de VGS, la compuerta positiva

    atraer ms electrones

    (portadores libres) del

    sustrato tipo p debido a la

    corriente de fuga inversa y

    establecer nuevos

    portadores a causa de las

    colisiones que ocurren entre

    las partculas de aceleracin.

    Su aumenta el voltaje positivo en la compuerta, la corriente

    de drenaje

    ANALGICA I

  • MOSFET de empobrecimiento de canal p

    ANALGICA I

  • MOSFET de empobrecimiento de canal p

    ANALGICA I

  • Polarizacin fija de MOSFET tipo

    empobrecimiento (y MESFET)

    ANALGICA I

  • Polarizacin por medio del divisor de voltaje del

    MOSFET tipo empobrecimiento (y MESFET)

    ANALGICA I

  • MOSFET: de Enriquecimiento

    La curva de transferencia no est definida por la ecuacin de Shockley. La corriente de drenaje ahora es la de corte hasta

    que el voltaje de la compuerta a la fuente alcance una

    magnitud especfica.

    El control de corriente en un

    dispositivo de canal n ahora

    se ve afectado por un voltaje

    positivo de la compuerta a la

    fuente

    ANALGICA I

  • MOSFET: de Enriquecimiento

    Si VGS se ajusta a 0 V y se aplica un voltaje entre el drenaje y la fuente del dispositivo la ausencia de un canal n producir

    una corriente de 0 A

    Con un cierto voltaje positivo

    de VDS, VGS de 0 V y la

    terminal SS directamente

    conectada a la fuente, hay

    dos uniones p-n polarizadas

    en inversa entre las regiones

    tipo n dopadas

    el sustrato que se oponen a

    cualquier flujo entre el

    drenaje y la fuente.

    ANALGICA I

  • MOSFET: de Enriquecimiento

    Si tanto VDS como VGS se ajustaron a un determinado voltaje positivo de ms de 0 V, para establecer el drenaje y la

    compuerta a un potencial positivo con respecto a la fuente.

    El potencial positivo en la

    compuerta ejercer presin en los

    huecos en el sustrato p a lo largo

    del borde de la capa de SiO3 para

    que abandonen el rea y lleguen

    a regiones ms profundas del

    sustrato p,

    ANALGICA I

  • MOSFET: de Enriquecimiento

    Para valores de VGS menores que el nivel de umbral, la corriente de drenaje de un MOSFET tipo

    enriquecimiento es de 0 mA.

    El trmino k es una constante

    que es una funcin de la

    construccin del dispositivo

    ANALGICA I

  • MOSFET: de Enriquecimiento

    ANALGICA I

  • Polarizacin por medio del divisor de voltaje del

    MOSFET tipo enriquecimiento (y MESFET)

    ANALGICA I

  • Polarizacin por medio del divisor de voltaje del

    MOSFET tipo enriquecimiento (y MESFET)

    ANALGICA I

  • IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor)

    Inventado por H.W. Becke y C.F. Wheatley en 1982

    Combinacin de MOSFET y transistor

    Bipolar que ana las ventajas de los

    dos:

    La facilidad de gobierno del MOSFET

    El buen comportamiento como interruptor de BIPOLAR

    Dispositivo reciente muy importante en

    Electrnica de Potencia

    C

    E

    G

    ANALGICA I

  • Con los MOSFET e IGBT para manejar corrientes elevadas se

    produce un cambio de tendencia importante.

    Un Transistor Bipolar de potencia es un solo dispositivo de

    dimensiones (Seccin) suficiente para manejar la corriente

    elevada.

    Un Transistor MOSFET o un IGBT de potencia, pensado para

    manejar corrientes elevadas, est formado por muchos

    transistores integrados colocados en paralelo

    ANALGICA I

  • N+P

    N-

    C

    EB

    BIPOLAR DE POTENCIA

    MOSFET DE POTENCIA

    (Muchos pequeos MOSFET en paralelo, realmente es un "Circuito Integrado")

    Cada punto representa un MOSFET

    ANALGICA I

  • BIBLIOGRAFA

    ROBERT BOYLESTAD. Electrnica: Teora de Circuitos y dispositivos; Editorial, Prentice Hall Hispanoamericana

    S.A, Dcima Edicin.

    FLOYD T, Electronics device, E. Prentice Hall, 2011