acf - vortrag "herstellungsverfahren von dünnen schichten" von sven wiegand von sven...
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ACF - VortragACF - Vortrag
"Herstellungsverfahren "Herstellungsverfahren von dünnen Schichten"von dünnen Schichten"
von Sven Wiegandvon Sven Wiegand
Verfahren zur Herstellung dünner OberflächenVerfahren zur Herstellung dünner Oberflächen
Gliederung:Gliederung:
1. Übersicht über Beschichtungsverfahren1. Übersicht über Beschichtungsverfahren
2. PVD - Verfahren2. PVD - Verfahren
3. CVD - Verfahren3. CVD - Verfahren
4. Fazit: Vor- und Nachteile der Verfahren4. Fazit: Vor- und Nachteile der Verfahren
Verfahren zur OberflächenbeschichtungVerfahren zur Oberflächenbeschichtung
Physical Vapor Deposition, K. Bobzin, E. Lugscheider, A. Krämer, RWTH Aachen
Beispiele für SchichtenBeispiele für Schichten
[www.fgb.mw.tum.de/Lehre/Mikrotechnische_ Sensorik+Aktorik/WS05/05_Vorlesung_MSA.pdf ]
PVD - VerfahrenPVD - Verfahren
PVD-VariantenPVD-Varianten
Delmdahl, Physik Journal 4 (2005), Nr. 11
Physical Vapor Deposition, K. Bobzin, E. Lugscheider, A. Krämer, RWTH Aachen
Molekularstrahlepitaxie (MBE)Molekularstrahlepitaxie (MBE)
[Dissertation Sven Beyer "Herstellung und Charakterisierung niedrigdimensionaler Elektronensysteme mit Hilfe von in situ Ätzen und Molekularstrahl Epitaxie", Hamburg]
T = 580 °C
p = 10-11 Torr
PVDPVD
[Dünnschichttechnologie 1, http://www.iws.fhg.de]
Thornton-ZonenThornton-Zonen
Dissertation Yvette Dietzel, "Beschichtung von textilen Flächen mit den PVD-Technologien reaktives Vakuumbogen-Verdampfen und reaktives Magnetron-Sputtern", TU-Dresden
PVD-Anwendung: UhrenbeschichtungPVD-Anwendung: Uhrenbeschichtung
1 - Ein Uhrgehäuse aus rostfreiem Stahl kommt in die PVD-Kammer
2 - Die Kammer wird auf 10 bis 6 mbar evakuiert
3 - Argon wird in die Kammer eingelassen und mit einer elektrischen Entladung von
mehreren tausend Volt ionisiert
4 - Die positiv geladenen Argonionen beschießen eine negativ geladene Titanplatte
5 - Die durch den Beschuss freigesetzten Ti-Atome werden durch das polarisierte Gehäuse
angezogen
6 - Stickstoff wird zusätzlich in die Kammer geführt und verbindet sich mit den Titanatomen;
das entstehende TiN überzieht das Gehäuse mit einer 0,7 bis 1,0 Mikrometer starken Schicht
7 - Ebenfalls unter Vakuum wird eine 0,15 bis 0,3 Mikrometer starke Goldschicht
aufgedampft
8 - Das beschichtete Uhrengehäuße verläßt die Kammer [www.longines.com]
TiN-beschichtete WerkstückeTiN-beschichtete Werkstücke
Chemical vapour deposition CVDChemical vapour deposition CVD
CVD - ReaktionenCVD - Reaktionen
Chemical vapour deposition CVDChemical vapour deposition CVD
Chemical vapour deposition CVDChemical vapour deposition CVD
[Dünnschichttechnologie 1, http://www.iws.fhg.de
LPCVDLPCVD
www.fgb.mw.tum.de/Lehre/Mikrotechnische_ Sensorik+Aktorik/WS05/05_Vorlesung_MSA.pdf ]
CVDCVD
PECVD (Plasma enhanced chemical vapor deposition):PECVD (Plasma enhanced chemical vapor deposition):
mittels eines Plasmas werden die chemischen Reaktionen initiiertmittels eines Plasmas werden die chemischen Reaktionen initiiert
Vorteil: geringere Temperaturen als bei einer normalen CVD Vorteil: geringere Temperaturen als bei einer normalen CVD (ca. 400 - 500 °C)(ca. 400 - 500 °C)
Epitaktisches WachstumEpitaktisches Wachstum
www.fgb.mw.tum.de/Lehre/Mikrotechnische_ Sensorik+Aktorik/WS05/05_Vorlesung_MSA.pdf
CVD - AnwendungCVD - Anwendung
[Dünnschichttechnologie 1, http://www.iws.fhg.de]
Unterschiede zwischen PVD und CVDUnterschiede zwischen PVD und CVD
CVD-Schichten bedecken die Oberfläche gleichmäßig, bei PVD-Beschichtungsverfahren kommt es wegen der gerichteten Flugbahn der Teilchen bei dreidimensionalen Oberflächen zu ungleichmäßiger Beschichtung ("Sichtlinien-Problem")
CVD PVD
Physical Vapor Deposition, K. Bobzin, E. Lugscheider, A. Krämer, RWTH Aachen
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