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Post on 19-Mar-2021

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結果 & 考察

石塚尚吾産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター 化合物薄膜チーム

実験研究の目的

結論

ワイドギャップCIGS太陽電池の高効率化に向けた界面制御技術

CuGaSe2 (CGS)の研究意義

1. ワイドギャップ(~1.4 eV) CIGSの出発材料

2. タンデム型太陽電池のトップセル材料としての可能性

3. 水素エネルギー分野への展開(水分解による水素生成用材料)

Fig. Theoretical efficiency vs Eg

S. Siebentritt, Sol. Energy Mater. Sol. Cells95, 1471 (2011).

CuIn0.7Ga0.3Se2

CuIn0.35Ga0.65Se2

CuGaSe2

CuInSe2

ワイドギャップCIGSで更なる高効率化を目指す

Current best

Ideal

BottomMiddle

TopCuGaSe2

Eg~1.7 eV

一般的なスパッタ装置

Sputtering gas

Ar+

Sputtering target

Substrate Substrate

Sputtering target

NS

NS

NS

NS

Ar plasma

P-Sp MT-Sp

低温製膜、低ダメージ化が可能

Planar Magnetron Sputtering(P-Sp)平板型マグネトロンスパッタ装置

MirrorTron Sputtering (MT-Sp)ミラートロン(対向ターゲット型)スパッタ装置

CIGS CGS

Identical conditions

Identical conditions

CdS CdS

ZnO:Al300nm i-ZnO

50nm基板温度 (Tsub)

P-Sp: ~150(plasma exposure)MT-Sp: 180(controlled)

酸素導入P-Sp: なしMT-Sp: あり (Ar:O2~100:1 [i-ZnO])

(Ar:O2~100:0.4 [ZnO:Al])

TCO製膜条件

同等の光学&電気特性

ZnO:Al

SLG

i-ZnO

SLG/TCO

Rsheet ~ 30 Ω/, ZnO:Al ρ ~ 1.0×103 Ω・cm, μ ~ 15-20 cm2/Vs, N ~ 3.5-4.0×1020 cm-3

Mo Mo

SLG SLG

・ソーダライムガラス→CdSまでを同一条件で作製・透明電極層(TCO)i-ZnO/ZnO:Alを異なる条件で製膜

または

二種類のTCO製膜装置(P-Sp、MT-Sp)を用いて、CGSとCu(In,Ga)Se2デバイスのポストp-n接合形成プロセスの影響を評価

P-Sp MT-Sp

TCO

P-SpおよびMT-Spで製膜したTCOの透過・反射スペクトル

ZnO:Al

SLG

i-ZnO

MT-Sp 180without O2

MT-Sp 180with O2

(Standard条件)

MT-Spで製膜したTCO(O2導入あり)の透過・反射スペクトル

MT-Sp酸素導入無しでは透過率低下

TCO特性比較

P-SpとMT-Spでほとんど変化なし(MT-Sp (without O2)において、TCO透過率低下に伴うJscの減少が見られるのみ)

P-SpとMT-Spで大きな変化 MT-SpではO2を導入しないことで

P-Spに近い性能得られるも同等レベルまでには至らない

P-SpとMT-Sp(O2導入有無の影響)比較

CGSCIGS

MT-SpによるTCO製膜温度の影響比較

CGS太陽電池ではp-n接合形成後のデバイス作製工程(TCO製膜条件)の影響を大きく受ける(CIGSは比較的鈍感)

CGS太陽電池のFF値向上にはTCOの低温製膜が有効

高Ga組成ワイドギャップCIGS太陽電池においても同様の効果が見込まれ、低温製膜TCOの高性能化は一つの課題

もう一つの重要課題として、CGS光吸収層表面に形成されるCu欠乏層の制御が挙げられる

本研究はH26年度産総研環境・エネルギー分野イノベーション課題及びH27年度産総研エネルギー・環境領域イノベーション課題の支援により実施された。

CGSCIGS

80 → 180で性能向上 180 → 280で性能低下

180、280ではJ-V曲線に極端な変形が見られる

TCO低温製膜(100以下)ではO2

導入製膜でも高いFF値が得られた

TCO 低温製膜⇓

Improved FF ~ 0.73しかしVocは減少 ~0.83-0.85 V→低温製膜TCOの特性?

> 0.7

Low Ts

8 cellson each substrate

Low Ts

⇒Small error range, good reproducibility

Typical (not champion) cell parameters[CGS cell with TCO depo@100]

Eff. (%) 8.9 Voc (V) 0.837Jsc (mA/cm2) 14.53 FF 0.733

(total area 0.519 cm2, 反射防止膜なし)

FF

ワイドギャップCGSはCIGSと比べ酸素

と熱に敏感

CGSのFF改善(界面再結合の抑制)にTCO低温製膜が有効

CGSの表面層

S. Ishizuka, et al., ACS Appl. Mater. Interfaces 6 14123 (2014).

Cu欠乏層CGSはCIGSと比較して、厚いCu欠乏層が形成される

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