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Post on 04-Sep-2020
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선형이온소스 및 표면처리 기술 Linear Ion Source and Surface Treatment
강판 및 폴리머 표면처리용 광폭(1.5m급) 선형 이온빔 발생기 설계/제작 기술
선형 이온빔 적용 표면 Etching, 표면 개질 및 증착 플라즈마 공정 기술
기술개요
개발기술의 주요내용
기술응용분야 및 기대효과
이온 에너지별 다목적 표면처리 공정 적용 가능 세계 1등 수준의 이온빔 발생장치 성능 보유 - 재료연구소 1등 기술 선정 - 2013년 출연(연) 창조경조 기여 우수사례 - 2013년 미래부 국가연구개발 우수성과 100 선
2013년 시제품 개발 및 기술이전 완료
- 고속 강판 식각용 선형 이온빔 소스 기술이전 ㈜AT
- 고속 식각용 고에너지 이온 인출 기술 이전
- 증착용, 표면개질용 등 다목적 선형 이온빔 및 플라즈마
표면처리 장치 기술 및 설계 능력 보유
선형 이온빔 발생장치 (관련 특허 3건 보유)
선형 이온빔 발생장치를 이용한 융복합 표면처리장치
(관련 특허 1건 보유)
금속 표면 초발수/초친수화 이온빔 처리 기술
(관련 특허 2 건 보유)
기대효과
표면기술연구본부 플라즈마코팅연구실 김도근, 김종국 책임연구원 Email : dogeunkim@kims.re.kr, kjongk@kims.re.kr
기술의 특징 경쟁기술 대비 우수성
기술개발 완료시기 이전 가능 기술
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