Download - プラズマCVD装置の 大面積誘電体多層膜製造分野 …apt/yudentai0515.pdfコスト低減化(SiO2→TEOS、 SiNx→HMDSなど) 新規技術のコンセプト(提案)
Transcript
S
Vol.53,No.12,1318-1322,Dec.2004
Vol.53,No.12,1318-1322,Dec.2004
P
S
Vol.53,No.12,1318-1322,Dec.2004
Vol.53,No.12,1318-1322,Dec.2004
P