SELECTION GUIDE - MicroPositioner, QMS-C-AS-082-02, 04-2019 © MPI Corporation 2019 - 仕様は予告なく変更することがあります。 1
MPI MicroPositioner
MP25 小型マイクロ・ポジショナ
MPIはバックラッシュの少ない多種多様なポジショナを取り揃えております。小型なものから高周波/ミリ波測定用のマイクロメータを使った高分解能なポジショナまでいろいろご用意しております。
統一されたZ移動方向、人間工学に基づいた設計、強力磁気ベースにより安定した高いプローブコンタクトを実現し、優れた測定結果を導き出します。どのプローブ・アームにも対応できるよう設計されているため、アプリケーションによりアームを変更するだけでアプリケーションに応じたプロービングを可能にします。
ラインナップがさまざまあることによりオペレータの最も使い慣れしている操作性に近いものをご選択いただくことが可能となり、すぐに操作が上達することにつながります。自社設計のMPIポジショナは品質に妥協することなく設計されており、フル・カーボン・スチールにより安定した高精度なコンタクトを長期間提供することが可能です。
分解能 < 4 µm移動量 (X/Y/Z) 10 / 10 / 10 mmマイクロメータ分解能 (X/Y/Z) 500 / 500 / 500 µmベース機構 磁気ベースベース・ステージ 25 mmベース寸法 55 mm x 40 mmタイプ 左用/右用対応アプリケーション IV/CV 同軸、超低電流トライアキシャル測定
寸法 - ポジショナおよびDCアーム/チップ
単位: mm
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MP40 汎用マイクロ・ポジショナ
分解能 < 3 µm移動量 (X/Y/Z) 13 / 13 / 13 mmマイクロメータ分解能 (X/Y/Z) 300 / 300 / 300 µmベース機構 磁気ベースベース・ステージ 40 mmベース寸法 65 x 40 mmタイプ 左右仕様なし対応アプリケーション 高精度IV/CV 同軸、超低電流トライアキシャルお
よび高周波測定
寸法 - ポジショナおよびDCアーム/チップ
寸法 - ポジショナおよびRFアーム(東西)/TITAN™プローブ・ヘッド
224.7
4058
55.7
86.9
4057
寸法 - ポジショナおよびRFアーム(南北)/TITAN™プローブ・ヘッド
111.5 5090
74.3 92
.3
19.1
74.392
.3
50 79103.4106.4
134.6
19.1
単位: mm
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MP50 ケルビン用マイクロ・ポジショナ
分解能 < 2 µm移動量 (X/Y/Z) 13 / 13 / 13 mmマイクロメータ分解能 (X/Y/Z) 250 / 250 / 250 µm or 500 / 500 / 500 µmベース機構 磁気ベースベース・ステージ 50 mmベース寸法 86 x 60 mmタイプ 左用/右用対応アプリケーション 高精度IV/CV 同軸、超低電流トライアキシャル測
定、内部ノードプロービング
寸法 - ポジショナおよびDCアーム/チップ
寸法 - ポジショナおよびフレキシブル・アーム/チップ
115
687686
Y2=2
0
Y3=3
3
15
Y1=9
506073
70 4578
92
506073
7078
92
45
205*
115
687686
Y2=2
0
Y3=3
3
15
Y1=9
506073
70 4578
92
687686
Y1=1
5
18mm Travel range
Each step is 20 Total 180 DOF
Each step is 20 Total 200 DOF
単位: mm
*調整した位置により変化する
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MP60 RFマイクロ・ポジショナ
分解能 < 2 µm移動量 (X/Y/Z) 13 / 13 / 13 mmマイクロメータ分解能 (X/Y/Z) 250 / 250 / 300 µm or 500 / 500 / 300 µmベース機構 磁気ベースベース・ステージ 60 mmベース寸法 89 x 60 mmタイプ 左用/右用対応アプリケーション 高精度高周波測定
寸法 - ポジショナおよびRFアーム(東西)/TITAN™プローブ・ヘッド
88.810
5.8
7082106.4109.4
137.6
19.1
252.6
6082
55.7
86.9
6082
寸法 - ポジショナおよびRFアーム(南北)/TITAN™プローブ・ヘッド
114.5 70
19.1
115
88.8 10
5.8
単位: mm
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MP60-MR 高精細RFマイクロ・ポジショナ
分解能 < 2 µm移動量 (X/Y/Z) 13 / 13 / 13 mmマイクロメータ分解能 (X/Y/Z) 500 / 500 / 300 µmベース機構 磁気ベースベース・ステージ 60 mmベース寸法 89 x 60 mmタイプ 左用/右用対応アプリケーション 高精度RF(高周波)測定
88.810
5.8
70 82106.4109.4
137.6
19.1
寸法 - ポジショナおよびRFアーム(東西)/TITAN™プローブ・ヘッド
6095
.6
266.1
単位: mm
PMP60 RFプログラマブル・マイクロ・ポジショナ
分解能 < 2 µm移動量 (X/Y/Z) 13 / 13 / 13 mmマイクロメータ分解能 (X/Y/Z) 1000 / 1000 / 1000 µmベース機構 ボルトダウンベース・ステージ 60 mmベース寸法 160 x 149 mmタイプ 東西南北
(最大4台、システム構成、アプリケーションによる)対応アプリケーション 高精度RF(高周波)測定
149
160
168
209
160
単位: mm
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MP80ミリ波用マイクロ・ポジショナ
分解能 < 2 µm移動量 (X/Y/Z) 25 / 25 / 15 mmマイクロメータ分解能 (X/Y/Z) 500 / 500 / 500 µmベース機構 ボルトベースベース・ステージ 80 mmベース寸法 100 x 80 mmタイプ 左用/右用対応アプリケーション 高精度高周波測定、広帯域ミリ波測定
127
.5
80
102
196
131
146
.68
90
100
次序 更改區域 原來 更改 日期 負責人-
615.81
A
C
A
C
旺矽科技股份有限公司MPI CORPORATION
版
次
圖號 圖名重量材 質
羅 均 宇姓 名
比 例日 期
繪 圖設 計審 校核 准加工一般公差
鈑金一般公差 孔與孔中心距公差 鑽孔與沉頭孔公差 角度公差
等級
127
.5
80
102
196
131
146
.68
90
100
次序 更改區域 原來 更改 日期 負責人-
615.81
A
C
A
C
旺矽科技股份有限公司MPI CORPORATION
版
次
圖號 圖名重量材 質
羅 均 宇姓 名
比 例日 期
繪 圖設 計審 校核 准加工一般公差
鈑金一般公差 孔與孔中心距公差 鑽孔與沉頭孔公差 角度公差
等級単位: mm
PMP80 ミリ波測定用プログラマブル・マイクロ・ポジショナ
分解能 < 2 µm移動量 (X/Y/Z) 25 / 25 / 10 mmマイクロメータ分解能 (X/Y/Z) 1000 / 1000 / 1000 µmベース機構 ボルトベースベース・ステージ 80 mmベース寸法 216 x 193 mmタイプ 左用/右用対応アプリケーション 高精度、高安定 ミリ波測定
254.
5
121235.5
241.
2
216
単位: mm
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MP80-DX マルチラインTRL用マイクロ・ポジショナ
分解能 < 2 µm移動量 (X/Y/Z) 25 / 25 / 15 mmマイクロメータ分解能 (X/Y/Z) 500 / 500 / 500 µmベース機構 ボルトベースベース・ステージ 80 mmベース寸法 100 x 80 mmタイプ 左用/右用対応アプリケーション 高精度高周波測定、広帯域ミリ波測定
マルチラインTRL測定
80
175
.5
102
196
111
146
.68
90
100
次序 更改區域 原來 更改 日期 負責人-
633.44
A
C
A
C
旺矽科技股份有限公司MPI CORPORATION
版
次
圖號 圖名重量材 質
羅 均 宇姓 名
比 例日 期
繪 圖設 計審 校核 准加工一般公差
鈑金一般公差 孔與孔中心距公差 鑽孔與沉頭孔公差 角度公差
等級
80
175
.5
102
196
111
146
.68
90
100
次序 更改區域 原來 更改 日期 負責人-
633.44
A
C
A
C
旺矽科技股份有限公司MPI CORPORATION
版
次
圖號 圖名重量材 質
羅 均 宇姓 名
比 例日 期
繪 圖設 計審 校核 准加工一般公差
鈑金一般公差 孔與孔中心距公差 鑽孔與沉頭孔公差 角度公差
等級 単位: mm
アプリケーション /ポジショナ
ステージ (mm) TPI IV / CV
同軸Low-level, IV, Triax
IV/CV/PIV Kelvin RF 広帯域
mmWハイパワー HC / HV
MP25 25 50 - - - - / MP40 40 85 - / MP50MP50-HR 50 50
100 - - - / MP60MP60-HR 60 50
100 - - /
MP60-MR 60 50 - - / MP80MP80-DX 80 50 - - - -
PMP60 60 - - - - -PMP80 80 - - - - - -
* = 推奨 = 可能
マイクロポジショナ - アプリケーション・マトリックス
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マイクロポジショナ - プローバー・マトリックス
プローバー /ポジショナ TS50 TS150 TS150-THZ
TS200-THZTS200TS300
TS200-SETS300-SE
TS2000D/DP/SE
TS3000TS3000-SE
MP25MP40MP50MP50-HRMP60MP60-HRMP60-MRMP80MP80-DX -
PMP60 - - - - -PMP80 - - - - -
* = 推奨 = 可能
プローブ・アーム - ポジショナ・マトリックス
プローブ・アーム/ポジショナ Coax Coax
10kV Triax Triax3kV Kelvin RF HC ミリ波
専用MP25 - - - -MP40MP50MP50-HR - -MP60MP60-HR -MP60-MR -PMP60 - - - - -MP80 / PMP80MP80-DX - - - - - -
* = 推奨 = 可能 = DCバイアス
9
MPI Global Presence
Direct contact: Asia region: [email protected]
EMEA region: [email protected] region: [email protected]
MPI global presence: for your local support, please find the right contact here:www.mpi-corporation.com/ast/support/local-support-worldwide
*詳しくはMPI取引条件をご参照ください。
SELECTION GUIDE - MicroPositioner, QMS-C-AS-082-02, 04-2019 © MPI Corporation 2019 - 仕様は予告なく変更することがあります。
MPIは同軸、トライアキシャル、高周波用プローブ・アーム、高温ケルビン対応プローブ、大電流プローブ(~400 A)など各種アクセサリを幅広く取り揃えております。
MPI Accessories
ケルビン・アームMPIケルビン・プローブ・ホルダは300℃まで測定可能で、独自の垂直方向のセルフレベリングが可能な設計で、DUTまで可能な限り絶縁された構造となっております。正確な超低雑音インピーダンス/パルスドIV測定の新しい標準といえる製品となっております。ケルビン・プローブを簡単に4TP接続の構成に変更したり、パルスドIV測定用にグランドを分けたりなど、初心者でも簡単に正確な測定をすることが可能です。またフォース/センス、High/Lowと製品に刻印されており間違いを防止します。
高周波アームRFプローブ・アームは高精度ミツトヨ社製のマイクロメーターがついており上下のラベルが張られており、簡単で便利にプローブの平坦度を出すことができます。工具などは必要なくmm目盛り付の垂直方向の調整機構により素早く簡単に高周波プロービングを可能にします。ケーブルの張力緩和の治具が2個ついており、差動測定の際も安全にケーブルの引き回しを可能とします。
フレックス・アームMPIのフレキシブル・アームはプローブ・カードと同時に低温でもプロービングを可能とし、アームのアングル、長さを自由に調整することが可能で、製品設計、故障解析、設計検証などの用途にご使用いただけます。また小さな被測定物にも安定してプロービングできるよう設計されております。また50Ω終端ではないケーブルオプションによりオシロスコープtの接続も簡単に行うことができます。
その他アクセサリ防振機構、防振テーブルは備え付けのパソコンラック、キーボードトレー、デュアル・モニタスタンド、EMIシールド機構付暗箱などの幅広いオプションからご選択いただけます。またプローブ・カード・ホルダ、PCBテストホルダ、真空ポンプ、エア・コンプレッサなど測定に必要な完全なソリューションを実現するためにMPIはさまざまなアクセサリをご用意しております。