electrodeposicion del cu rafael [1]
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Electrodeposicion del Cu
El principio de los métodos de recubrimiento electrolítico o químicos, también denominados galvánicos, consiste en depositar por vía electroquímica, finas capas de metal sobre la superficie de una pieza sumergida en una solución de agua con iones metálicos o electrolito, al conectar una fuente externa de corriente directa. Las capas formadas generalmente son de un espesor entre 1 y 100 µm. El metal que constituye la capa se encuentra en el electrolito en forma de iones. También existen métodos de recubrimiento sin corriente externa, basados en procesos de oxidación o reducción que, sin embargo, son de menor importancia.
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Las capas de recubrimiento se depositan sobre una superficie metálica o no metálica con ciertas propiedades, para darle características que ésta por sí misma no tiene, o bien, para fabricar ciertas piezas con determinada presentación en el acabado. Si el objeto no es conductor, se le hace conductivo, por ejemplo, en la galvanización de plásticos.
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RECUBRIMIENTOS ELECTROLITICOS
Electrolisis: es un fenómeno por el cual se produce una reacción quimica mediante la aplicación de energía externa. Es un proceso no espontáneo.
Consiste :De electrodos( ánodo y cátodo: éstos pueden ser activos o inertes), un electrolito (CuSO4) ,y una fuente de voltaje
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CELDA ELECTROLITICA CON ELECTRODOS INERTES
En el ánodo(+) se da oxidación del
agua liberándose oxigeno. Debería
depositarse el oxianión SO4 2+pero no así debido a que tiene menor potencial de
oxidación En el cátodo se deposita en cobre Cu 2+. Como finas
laminas
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ELECTROLISIS CON ELECTRODOS ACTIVOS
En el ánodo se libera cationes de Cu2+ éstos viajan por el electrolito y se deposita en le cátodo.
El en ánodo se da una pérdida de masa. Dicha masa la gana el cátodo.
Siempre los electrones viajan del ánodo al cátodo.