C10G-0048C

Nanotech accelerateof the Wor ld

Nan

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h ac

cele

rate

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he W

orld

ナノテクノロジーが世界を加速する

ナノを見る、測る、操る

ナノ領域の三次元計測、物性測定が可能です

Scanning Probe Microscope

走査型プローブ顕微鏡

SPM-９５００J３

Confocal Laser Scanning Microscope

走査型共焦点レーザ顕微鏡

OLS３０００シリーズ

試料表面を微小な探針で走査することによって、

三次元形状を高倍率で観察する顕微鏡です。

大気中や溶液中で、固体や膜表面のナノメート

ルオーダーでの観察と形状測定が可能です。

さらに、プローブ先端で、試料の電気的特性や

層分離構造、硬さなどの物性画像も同時に取

得できるため、ナノテクの基本ツールとして応

用が拡がっています。

■概要

■ 特 長

■ 応 用

SPM探針を陰極として、半導体や金属表面と

の間に電圧を加え、局所的に酸化膜を作るこ

とにより、ナノ文字が描けます。この陽極酸化

法は、物性評価やナノリソグラフに応用されます。

雰囲気制御SPMでは、大気中の水分をコント

ロールすることができるため、さらに可能性が

拡がります。（東京大学物性研究所　ご提供）

2

（１）陽極酸化法によるナノ文字「技」

CDやDVDなどの保護層を

はがすことなく、非破壊で試

料内部の記録層を観察、計測

することができます。

DVD記録層の非破壊観察

従来の探針では、このようなアスペクト比の高

い試料の場合、底まで探針が届かないため、

SPM測定は困難でした。しかし、カーボンナノ

チューブを採用した探針の開発で、深い底の

観察が可能になりました。SAWフィルターの

品質管理などに応用されています。

（２）カーボンナノチューブによるライン＆スペースの高アスペクト観察

ポリエチレン表面のラメラ構造を粘弾性測定

の応用で観察しました。ポリマーの結晶化の

様子がよくわかります。結晶化が進み硬くなっ

ている部分ほど明るく表示されています。

従来はTEMでしか観察できなかった構造が前

処理なしに簡単に得られます。

（３）高分子フィルムのラメラ構造の弾性像観察

わざ

走査型共焦点レーザ顕微鏡は、レーザ光により試料上を走査し、

その反射光を検出して試料の微細形状を観察、計測する装置です。

大気中で基板やフィルムなどの試料をセットするだけで、mm～

μm台の視野での表面観察とμm～nm台の高さ測定が可能です。

408nmレーザの採用で、世界最高レベルの平面分解能0.12μmを実現しました。

共焦点光学系により、視野全面に焦点の合った輝度像と三次元情報が同時に得られ、

繰り返し精度の高い計測が可能です。明視野、暗視野、微分干渉観察も可能です。

透明膜を通しての下地の観察と膜厚の評価も可能です。

■概要

■ 特 長

■ 応 用

鮮明な輝度像が得られ精度よく三次元計測ができます

走査型プローブ顕微鏡(SPM)は、

　大気中で高倍率観察が可能　　

　非導電物もそのまま観察可能

　高さ測定が正確に行なえる　　

　試料の局所的物性測定も可能

という特長を生かして、近年ますます進化し、

応用分野が広がっています。

島津SPMシステムは、雰囲気制御SPMにグレ

ードアップさせることにより、湿度や温度条件

をコントロールしながら、In-Situでの測定も

可能になります。

□2μm

4.00×4.00［μm］ Z-Max 220.00［nm］

ob. Zoom

: :100× 3.0×

DVD記録層の非破壊観察

5μm

3

Scanning Electron Microscope SUPERSCAN series, SS-550/SSX-550

走査電子顕微鏡 SUPERSCANシリーズ

SS-５５０/SSX-５５０

SS-550は、試料上をナノオーダまで細く絞ら

れた電子ビームで走査することによって、試料

の微細な形状・構造を明らかにします。電子ビ

ームが照射された試料からは、その中に含ま

れる元素に応じて特性Ｘ線が発生します。

SSX-550は、このＸ線を検出することによっ

てナノオーダの領域に存在する元素の、種類・量・

分布などを知ることができます。

SEM観察からEDS分析にいたる全ての操

作をマウスだけで行なえる、画期的な操作

性を実現しています。

試料の駆動は5軸のモータードライブにより

コンピュータ制御されており、一度試料を

セットすれば装置本体に触れる必要はありま

せん。

オプションの低真空モードでは、非導電性試

料の無蒸着分析が可能です。

SS-550/SSX-550は、あらゆるナノ材料、ナノ部品の評価・解析に用いられます。

■概要

■ 特 長

■ 応 用

Electron Probe Micro Analyzer

電子線マイクロアナライザ

ＥＰＭＡ-１６１０

電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）は、非破

壊的な分析法として細く絞った電子線を試料

に照射し、微小部における元素組成を明らかに

します。試料に電子線を照射する事により発生

する二次電子、反射電子、透過電子、特性Ｘ線、

カソードルミネッセンスの信号を同時に検出す

る事が可能で、表面形態観察、定性分析、状態

分析、定量分析、線分析、マッピング分析によっ

て4Be～92Uの元素について微小部の解析が

行なえます。

島津EPMA-1610は、電子源に高輝度な

CeBixを搭載する事で、横方向でサブμｍ、垂

直方向（厚み方向）で数nmの分解能を有して

います。

最大試料寸法は、100mm×100mmに対応し

ており、その90mm×90mmの任意の位置、領

域の設定が可能です。

■概要

Si上に成長したAlの9ML（単原子層）膜のAlを分析した例です。

定量性の高いＥＰＭＡでは、Ｘ線信号強度は膜厚に比例しますのでμｍ領域の膜厚測定をnmの

精度で行なう事ができます。

■応 用

ナノオーダ領域の表面形態・元素分析ができます

μm領域の膜厚測定がnmの精度で行なえます

SS-550にナノマニピュレータを内蔵することによって、カーボンマイクロコイルのような微細な試料を

自由にハンドリングすることができます。マニピュレータの探針に電圧を印加することによって、試料の

電気的特性を計測することが可能です。（九州工業大学大学院　生命体工学研究科　ご提供）

【ナノマニピュレータによる、電気特性評価】

カーボンマイクロコイルをナノマニピュレータで 引き伸ばす

ナノマニピュレータの探針でカーボンマイクロコイルを 操作している電子顕微鏡写真

4

ナノオーダの薄膜を簡単・迅速に分析

軽元素から重元素までを高精度/高感度に分析できます

Sequential X-Ray Fluorescence Spectrometer

シーケンシャル形蛍光Ｘ線分析装置 LAB CENTER

XRF-１８００

大型試料の膜厚や組成を簡単・迅速に分析可能

Energy Dispersive X-ray Fluorescence Spectrometer

エネルギー分散型蛍光Ｘ線分析装置 EDX-HS シリーズ

EDX-７００HS/８００HS

微小領域の迅速／簡便分析に有効です

Energy Dispersive Micro X-ray Fluorescence Spectrometer

エネルギー分散型微小部蛍光X線分析装置 μEDXシリーズ μEDX-１２００/１３００

XRF-1800は､4kW薄窓Ｘ線管を搭載し､局

所分析機能/マッピング機能を追加した高感度

/高精度の組成/膜厚同時分析装置です。

測定試料は50mmφ以下で厚さ30mmまで対

応､4Be～92Uまでの全元素の測定が可能です。

膜厚測定はメタル膜であればナノオーダーま

で測定が可能です。

■概要 ■ 特 長

世界初の250μmマッピングを波長分散型で実現（特許所得済）

（オプションのCCDカメラによる試料観察も可能）

高次線プロファイルを利用した正確な定性・定量分析（特許取得済）

高分子薄膜の膜厚測定と無機成分分析ができるバックグラウンドFP法（特許所得済）

省スペースでスマートなデザイン

（データ処理部、管球冷却水、真空ポンプ、X線電源などすべてが一体）

高信頼性、長寿命の4kW薄窓X線管を搭載（3年間の完全保証）

迅速で優れた安全性、メンテナンス性を有する実績と信頼の試料搬送系（特許取得済）

世界最速の超高速スキャン（300°/min.）による簡単・迅速な定性定量分析

島津のノウハウを集約したテンプレート機能とマッチング機能

操作性と多機能を両立させたソフトウェア

ポリキャピラリ（特許）の採用で、試料の一部

領域(50μｍφ)のみにX線を照射し、高感度、高精度な分析が可能。

軽元素から重元素までを大気中で分析可能。

デュアルCCD搭載で試料画像を見ながら簡単に試料位置を決定し、分析を

行うことが可能。

標準試料なしでのFP定量、薄膜FP定量、BG-FP法を標準装備。

5種自動交換1次X線フィルタを標準装備。

多元素同時マッピング機能を搭載。透過像観察ユニット（オプション）の追加

で、透過X線像の同時測定も可能。

液体窒素不要の電子冷却検出器を搭載。（μEDX-1400）

試料にX線を照射し、試料からの蛍光X線を半導体検

出器で分析する組成/薄膜分析装置です。ワンタッチ

で軽元素から重元素までを同時に測定します。

■概要

■ 特 長

■ 応 用

蛍光X線分析では一般に、Al、Siなどの軽元素で数nm～

数μm、Niなどの重元素でサブnm（数Å）～10数μmの

膜厚定量および組成定量が可能です。今回はガラス板上

に薄くAu蒸着した薄膜試料の膜厚分析とその再現性を

FP法で行いました。

ポリキャピラリー(Ｘ線集光レンズ)により､集光

された高輝度Ｘ線を50μｍ径で試料に照射し、

発生する蛍光X線を測定して、ナノオーダーの

薄膜の組成/膜厚測定が行えます。大気中で手

軽に､非破壊でｎｍからμｍオーダーまでの薄

膜測定が可能です。また、X-Y-Z試料ステージ

を搭載し、複数の元素マッピング像､全自動多

点測定が可能です。

■概要 ■ 特 長

試 料 偏 差 10nm

20nm

30nm

40nm

50nm

標 準 偏 差

定量値 10.3nm

19.8nm

29.7nm

40.1nm

50.1nm

nm

nm

0.3

-0.2

-0.3

0.1

0.1

0.24

薄膜FP法による定量分析

測定スペクトル

全自動開閉による大型試料室を備え、最大

300mmφ×150mmHまでの大型試料を前処理

なしで測定可能です。460mmW×380mmD×

210mmHの超大型試料室（オプション）も有ります。

膜厚・組成分析用の定量ソフト（薄膜FP）を標準装備

高感度分析用の１次X線フィルタを5種類装備

試料画像観察キットも用意（オプション）

分析径は10mmから1mmであり、10nm～数μm

の薄膜について組成/膜厚分析が可能です。

5

高速パラレルイメージングにより ナノメーターオーダの表面情報を２次元的に展開

内部のナノ領域を4000倍（モニタ上）の高倍率、 高解像度で究極の観察が可能

X-ray Photoelectron Spectrometer

X線光電子分析装置

AXIS-ULTRA

XPS（もしくはESCA）とは、軟X線照射によっ

て固体表面から放出された光電子の結合エネ

ルギーを測定し、物質中に存在する元素の種

類や化学結合状態を分析する手法です。

光電子の脱出深さが数ナノメートルであるこ

とから、固体最表面に近い層からの情報のみが

得られます。

ナノテクノロジーの開発に不可欠な、薄膜や多

層膜の評価、材料表面の汚染管理、または高分

子表面処理の評価などに貢献します。

AXIS-ULTRAはイメージング専用アナライザ

ーによる高速XPSイメージング機能を備えて

おり、物質表面の元素・化学状態分布を瞬時に

捉えることが可能です。

■概要 ■ 応 用

これは金の薄膜上にマイクロコンタクトプリン

ティング法を用いてパターンを形成した試料

のAu 4fピークによるXPSイメージです。パタ

ーン部分からは厚さ数nm以下のアルキルア

ミン単分子膜を通してAuのピークが検出され、

パターンの隙間（格子部分）では10nm以上

の膜厚を持つPAA（ポリアクリル酸）薄膜が下

地の信号を遮っていることがわかります。

Microfocus X-ray TV System

マイクロフォーカスX線テレビ透視装置

SMX-１６０LT

LaB6結晶電子源（六ホウ化ランタン）を用いた高輝度X線を連続出力可能な自社開発X線管

球、および超低ノイズのメガピクセルCCDカメラを搭載し、空間分解能0.4μm、最大透視倍率

4000倍、X線連続出力2000時間以上という世界最高レベルのX線透視装置です。

■概要

■ 応 用

Au substrate

■ 特 長

高密度実装半導体等の微細な接合部位等がクリ

アな透視映像として観察できます。

LaB6結晶を使用することでフィラメント断線が

ないため、2000時間以上の連続出力が可能で

あり、生産ラインにおける連続検査に最適です。

X線を映像化するイメージ管を傾斜させ、またサ

ンプルを保持するテーブルを回転させる等、7軸

の自由度を有し、実装基板の搭載部品など複雑

に重なっている部分も、斜めから、あるいは回転

させながら、全方位から容易に透視・観察するこ

とができます。

サンプルサイズは、300mm×350mmの大型

基板（搭載可能重量：最大2Kg）が可能で、幅広

い検査用途に対応できます。

さらに、自動追従機構（トラッキング機構）により、

任意の位置・角度からの観察でも、観察位置がず

れることがない。また、観察位置の指定もCRT画

面上のテーブルマップをクリックするだけで可能

なインテリジェント移動機能も装備しています。 内周部400nm銅・アルミ交互箔が外周部に向かって 徐々に薄くなった試料。

Ta製500nm ライン＆スペース

・ 銅とアルミの多層薄膜構造体 ・ テストチャート

Au製1μmライン＆スペース 20μm

2μm

1μm

500nm

光軸中心

４００nm

（試料ご提供：Prof D.Crooks,Texas A&M University)

alkyl amine

PAA Layer

6

この装置は、電磁力式負荷機構をクローズドル

ープ・サーボ制御することにより、微小な力を

正確にコントロールできるものです。

■特長

各種顕微鏡を取り付け、「その場観察」を行

ないながらの試験ができます。組み合わせ

る顕微鏡としては、SEM、AFM、超音波顕微

鏡、共焦点レーザー顕微鏡などの実績があり、

マイクロマシンなどを構成する素材などの

評価で微視的な領域と巨視的な領域をつな

ぐデータを採ることができます。

ミリグラム、サブミクロンオーダまでの様々

なパターンの動的力を試験対象に与えるこ

とができます。

制御装置には、世界初のフルディジタル2自

由度PID制御方式を採用した4890形か、小

形で汎用的な4826形かを目的に応じて選

ぶことが可能です。

試験対象に適した試験治具を用意しており、

各種環境装置を取り付けることにより、高温・

低温はもとより、腐食や真空などの特殊な環

境中における力学的物性の評価にも対応し

ます。

電源は100Vのみ、冷却水は必要なく、設置

場所を選びません。

この装置は、電気油圧サーボ式試験機にSEM

を組み込んだもので、SEM像を観察しながら

動的負荷をかけることができるものです。

■概要

SEM画像を観察・記録し、「その場観察」を

行ないながらの試験ができます。

SEMとしては、低真空タイプのものも選択

可能で、試験治具も引張のほか、CTタイプ(き

裂進展評価)、曲げなど、各種のものを用意

することが可能です。

SEMの試料室と外部の圧力差による試験力

への影響を排除するため、真空力キャンセル

機構を装備しています。

電気油圧サーボ式負荷機構により、比較的大

きな力を正確に制御することができます。

制御装置には、世界初のフルディジタル2自

由度PID制御方式を採用した4890形か、小

形で汎用的な4826形かを目的に応じて選

ぶことが可能です。

動的負荷時にも観察像が大きく動かないよう

にするため、電子線を負荷に同期させる機能

(マッチング機能)を持たせています。

ヒータを取り付け、高温環境での試験も可能

です。

ナノオーダの機械的物性評価が行なえる

変位測定分解能 20ナノメートル　～表面実装部品、マイクロ部品の強度評価ができます

Micro Autograph MST-I

マイクロオートグラフ

MST-I

２ｍＮからの試験力を高精度で測定

容量０．５Ｎから２ｋＮまでの広範囲のセルを用意

試験力負荷方向変位測定精度　±０．２μｍ（５ｍｍまで）

　　　　　　　　　　　　　　±０．５μｍ（５ｍｍ以上）

試験力負荷方向変位測定分解能 20ｎm

Ｘ－Ｙステージ、実体顕微鏡、ＣＣＤカメラ、高温槽、ホットプレート等豊富なオプション

本システムは、微小試験片を把持し、引張強度試験、圧縮強度、ピール試験などを

行うものです。サーボモータの出力を減速し、精密ボールネジにて直線運動に変

換し、微小試験力を正確に負荷します。また、直線運動部に直接固定したリニアセ

ンサを用いて負荷方向変位の制御を行います。

■概要 ■ 測 定 例

接着力剥離試験

■特長

最大試験力 35mN

弾性率

接着された単繊維を

引張り・強度および接

着剤部の弾性率を測

定しています。

ミリグラム、サブミクロンオーダの動的負荷を忠実に再現します

Electro-Magnetic Testing System Microservo MMT series

電磁力式微小試験機

マイクロサーボ MMTシリーズ

比較的大きな動的負荷を行いながら微視的な観察ができます

SEM Servopulser

SEM付高温疲労試験機

SEM サーボパルサ

■概要

■ 特 長

7

■特長 ■ 概 要 ■ 測 定 例

■ 概 要

電磁力により圧子（三角すい圧子など）を試料

に押しつけ、圧子の侵入過程での試料の変形

抵抗をダイナミックに測定したり、生じたくぼ

みから硬さを測る事ができます。

上部加圧圧子と下部加圧圧板の間に固定された試料に、電磁力により一定の

増加割合で試験力を与え、この時の試料に加わる押圧力と変形量を自動計測

します。

金属、プラスチック、ゴム、セラミックスなど

あらゆる材料の表面強度の評価が可能です。

0.1～1960mNという幅広い試験力レン

ジでの測定が可能です。

テレビ測長システムの追加によりPC画面上

で、くぼみの測長をしたり、試料を加熱（50

～250℃）した状態での試験など拡張性に

すぐれています。

■特長

金属やセラミックスの微粒子など、1～500μmの粒子を一粒一粒圧縮す

る事が可能です。

圧縮過程だけでなく除荷過程での試験も行なえ、負荷・除荷の繰返し試験

も可能です。

サイド観察キットの取り付けにより、圧縮変形時の状態を観察したり、試料を

加熱（50～250℃）した状態での試験など拡張性にすぐれています。

SK材のDUH-W201Sによる測定例 (試験力 100mN)

■測定例

液晶スペーサの圧縮試験例 以下の試験イメージ図のように 試料を圧縮試験します。

2種類の試料の試験結果より、 スペーサの強度の違いが出ています。

試験結果例

上部加圧圧子 （平面圧子）

下部加圧圧子

試料（散布）

押し込み深さ測定分解能1ナノメートル　～薄膜や表面処理層の硬度測定が可能です

Dynamic Ultra Micro Hardness Tester

ダイナミック超微小硬度計

DUH-W２０１・W２０１S

変位測定分解能1ナノメートル　～微小粒子・微小製品1つ1つの圧縮特性評価が可能です

Micro Compression Testing Machine MCT-W series

微小圧縮試験機

MCT-Wシリーズ

ナノオーダの機械的物性評価が行なえる

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ナノ粒子とナノポア（細孔）から拡がるナノテクノロジーの世界

測定下限15nmを実現した新世紀の粒度分布測定ができます

Laser Diffraction Particle Size Analyzer

レーザ回折式粒度分布測定装置

SALD-７０００

レーザ回折･散乱法を採用。レーザを照射された粒子から発せられる回折･散乱光の空間的な強度分布パターンは粒子径に依存して変化します。この特性を用いて粒度分布「どのくらいの大きさの粒子がどれくらいの割合で含まれているか」を測定します。

■概要

■ 測 定 例

■ 特 長

ナノを超えてサブナノ領域まで　～直径0.4nmまでの細孔分布が測定できます

Accelerated Surface Area and Porosimetry

高速比表面積/細孔分布測定装置

アサップ２０２０

0.7nmまでの細孔を、同時に3試料まで全自動で測定できます

Surface Area and Porosimetry Analyzer

自動比表面積/細孔分布測定装置

トライスター３０００

ナノ材料・ナノ粒子の密度を高精度・高感度で測定できます

Gas Pycnometer Accupyc

乾式自動密度計

アキュピック１３３０

■概要 ■ 測 定 例

波長405nmの青紫色半導体レーザを採用。測定範囲15nm～500μmのシームレスなシングルワイドレンジを実現。レーザ回折・散乱法で数10ナノメータサイズの超微粒子を正確に測定できます。 医薬品、化粧品、顔料・塗料などの高濃度のサンプルを希釈せずにそのままの状態で測定できます。（オプションの「高濃度サンプル測定システム」を使用した場合）

ガス吸着法を採用。測定対象の表面や細孔内に、大きさや性質が既知のガス分子を吸着させ、その量から試料の比表面積や細孔分布｢固体表面にある微細な孔の開口部の大きさと容積の関係｣を求めることができます。

ガス吸着法を採用。測定対象の表面や細孔内に、大きさや性質が既知のガス分子を吸着させ、その量から試料の比表面積や細孔分布｢固体表面にある微細な孔の開口部の大きさと容積の関係｣を求めることができます。

■概要

■ 特 長

■ 測 定 例 　

豊富な機種構成が選択できます。 測定の目的や対象に応じて、システムアップができます。 標準形のほかに、 ・ 低表面積の測定には…クリプトン対応形 ・ サブナノサイズの細孔測定には…マイクロポアシステム ・ 担持金属触媒の評価には、化学吸着システムなどのシステムを用意しております。 マイクロポアシステムを用いると直径0.4nmまでの細孔が測定できます。

■特長 3つの試料を同時かつ独立して測定可能。3つの試料の5ポイントにおけるBET多点法測定が、約20分で完了します。 窒素ガスを用いて0.01m2/gまでの高感度比表面積測定が実現できます。

LATEX ３４n LATEX ５０n LATEX ７０n

Sレベル：０ 分布関数：０ Dシフト：０

１００

９０

８０

７０

６０

５０

４０

３０

２０

１０

０

５０

４０

３０

２０

１０

０

相対粒子量

粒子径（μm）

　　Q3 （％） q3 （％）

０.０１ ０.０５ ０.１ ０.５ １ ５ １０ ５０ １００ ５００ １０００

ＢＪＨ法による

吸着側メソポア細孔分布

ＢＪＨ法による

脱着側メソポア細孔分布

■概要 ヘリウムガスを用いる乾式測定法を採用しているので、固体だけでなく、ペースト状の試料や液体まで、ほとんどすべての対象の密度を高精度・高感度に測定することができます。

吸着等温線 微分細孔容積分布

0.63nm(6.3Å)と0.53nm(5.3Å)にそれぞれ分布のピークを有するモレキュラーシーブ13Xと5Aを、ほぼ同量の割合で混合し、マイクロポア分布を測定した例です。

■特長 ヘリウムガスを用いる乾式測定法によってナノオーダの微細な構造や形状を持つナノ材料・ナノ粒子の密度を高精度・高感度に測定できます。これらの測定は液体を用いる湿式測定法では実現不可能です。 微少な密度変化を高精度に測定することによって、

ナノ材料の混合比の変化や機能性微粒子のコーティング層の厚み等を正確に評価することができます。 測定後の試料の回収や、同一試料の繰り返し測定が可能です。

ポリスチレンラテックスの標準粒子30nm、50nm、70nm、の測定結果

9

ナノ粒子とナノポア（細孔）から拡がるナノテクノロジーの世界

ナノ材料評価に役立ちます

約1μmまでの試料測定が可能です

Kaiser HoloLab series Raman Spectrometer

Kaiser社ラマン分光光度計

HoloLabシリーズ

FTIR最高レベルのS/N比40000：1以上を実現します

IRPrestige-21 Fourier Transform Infrared Spectrophotometer

フーリエ変換赤外分光光度計

IRPrestige-２１

3nm～500μmまでの幅広い細孔径範囲を高速自動測定します

Automated Mercury Porosimeter

自動ポロシメータ

オートポアIV ９５００ シリーズ

■概要

水銀圧入法を採用。水銀の接触角

と表面張力が大きいことを利用して、

測定対象の細孔に水銀を圧入させ

るために加圧し、圧力と圧入された

水銀量から細孔分布を求める方法

です。

■特長

圧力範囲やステージ数の異なる4機種をライ

ンアップ。低圧・高圧の同時測定も可能です。

高精度圧力トランスデューサと最新のA/D変

換システムを塔載。幅広いレンジを、 シーム

レスに測定できます。

フラクタル解析や細孔形状に関する各種解

析ソフトウェアを標準装備しています。

■測定例

dV/dlogD 微分細孔容積分布 （重ね描き）

積算細孔容積分布（重ね描き）

フラーレン カーボンナノチューブ

１.

２.

３.

レーザー光（532nm Nd:YAGレーザーあるいは785nm

ダイオードレーザー）を試料に照射し、試料からのラマン散

乱光を受光してラマンスペクトルを求めます。

ラマンスペクトルは分子の振動に基づくもので、ラマンスペ

クトルから物質の定性や構造に関する知見が得られます。

最小空間分解能は約1μmで、有機物の定性に関しては最小

の空間分解能を有します。

１.

２.

３.

■概要

赤外干渉光を試料に照射し、試料からの透過あるいは反射光を受光して、

それをフーリエ変換することにより赤外スペクトルを求めます。

赤外スペクトルは分子の振動に基づくもので、赤外スペクトルから物質

の定性や構造に関する知見が得られます。

固体、液体、気体の全てに対して測定可能で、赤外顕微鏡をはじめ多数

の付属装置が用意されています。

■応用

カーボンナノチューブやフラーレンなどに修飾した官能基の確認および

単分子膜の構造に関する情報の所得ができます。

■概要 ■ 応 用

カーボンナノチューブや

フラーレンなどのC-C結

合に関する情報の所得

およびカーボンナノチュ

ーブやフラーレンなど

修飾した官能基の確認

ができます。

10

MALDI-TOF Mass Spectrometer

レ－ザ－イオン化飛行時間型質量分析計

AXIMA-CFR plus

レーザー照射とマトリックスの補助によるソフ

トなイオン化法により、分子イオンを観測する

ことができます。

MALDIとは、Matrix Assisted Laser De-

sorption/Ionization（マトリックス支援レー

ザー脱離イオン化法）の略称、TOFMSとは、

Time of Flight Mass Spectrometry（飛

行時間型質量分析法）の略称です。

MALDIサンプルはマトリックス（Matrix）と

均一に混合された状態にあります。測定対象

をレーザー光でイオン化し、高電圧で加速し、

飛行所用時間を測定します。軽いイオンは早く、

重いイオンは遅く検出器に到達するので、飛行

時間から分子量を換算できます。この測定法

では、タンパク質等の高分子物質まで測定可能

になります。

■測定例

高分解能20,000、高質量数精度10ppmを

実現しました。

サンプルプレートは、96/384ウェルをはじ

めとした各種フォーマットおよびフリーフォー

マットに対応可能です。

シームレスPost Source Decay“Curved

Field Reflectron”機能を標準装備し、一回

の測定で、広範な質量範囲の測定が可能です。

■特長

■ 概 要

「マトリックス支援レーザー脱離イオン化法（MALDI:Matrix Assisted

Laser Desorption/Ionization）」は、マトリックスと試料を混合したもの

にレーザー照射することで、これまで分解しやすく（対象物が粉々になって

しまう）イオン化が困難であったタンパク質などの生体高分子のイオン化

を可能にする方法です。

また、「飛行時間型質量分析法（TOF-MS：Time of Flight Mass Spec-

trometry）」は、イオン化されたタンパク質などの飛行時間が大きさによ

り異なることを利用して質量分析を行う方法です。

■ MALDI-TOFMSの原理

C144H180S18=2488 大環状ポリフェニルブタジインのMALDI-TOFによる測定結果

タンパク質、合成高分子のキャラクタリゼーションに最適です

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Microchip Electrophoresis System

マイクロチップ電気泳動装置

MCE-２０１０

■特長

■ 概 要

■ 応 用

Multi Deposition System

複合成膜装置

DLC-MR３

電子サイクロトロン共鳴プラズマ（ECR）CVD

によるダイヤモンド状炭素膜（DLC）成膜技術は、

MR/GMRヘッド保護膜として多くのユーザー

のご要望に応えて参りました。ECRシステムは、

ECRによる高密度イオンソースと基板バイア

スをそれぞれ独立に制御することにより、広範

囲のプロセス条件から最適値を選択できます。

また、ガス流量の調整によって、プラズマ室内

の圧力コントロールを可能にします。ECR-

CVDにより形成されたDLC膜の密度は2.0～

2.5mg/cm3であり、精密なDLC膜を得ること

ができます。特にECR-CVD法におけるプロセ

スガスのイオン化率の高さが薄膜の密度と密

着性の向上に大きく寄与しています。この

ECRシステムによってもたらされる超薄膜

DLCは、MRヘッド用保護膜として要求される

高い耐摩耗性、耐腐食性、耐剥離性、耐電圧特

性および耐絶縁性を実現します。

■概要

ECRシステムによるDLC極薄膜は厚さ

2.4nmにおいても粗さ0.18nmと優れた平

滑性を保持するなど、MR／GMRヘッド保護膜

に要求される特性を備えています。

■特長

サンプル（最大96）をゲルの送液→試料注

入→電気泳動→データ解析まで全自動分析

可能です。

石英製マイクロチップは繰り返し使用できます。

紫外光の吸収により、試料を測定。流路全体

の分離過程をリアルタイムでモニターでき

ます。

電圧、時間設定の自由な設定が可能です。

簡易な操作環境を実現しています。

ラボ作業を1枚の小さな基板に集積する技術=micro-Total-Analysis-System

（μTAS）技術に向けての一つのソリューションとして、電気泳動分析をマイクロチップ

を用いて実現しました。

マイクロマシニング技術を用いて、ナノ・メートルのオーダで微小流路、スリット、電極を石英製マイクロチップ上に精密

形成しました。サンプル注入流路および分析流路が十字にクロスしており、各流路へ精密に電圧制御を行なうことで、

ピコ・リットルオーダの微量サンプルを注入し、電気泳動分析を行なうことができます。

マイクロマシニング技術を用い、石英製マイクロチップ上に微小流路を形成しました。各流路への

電圧制御を行うことで、微量サンプルを注入し、電気泳動分析を行なうことができます。

流路の走査型電子顕微鏡写真 マイクロチップ

DLC膜（2.4nm厚）のAFM像

電気泳動のルーチンワークから研究者を解放します

ダイヤモンド状炭素（DLC）成膜技術による MR/GMRヘッド用高品質極薄膜を提供します

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