KURODA ShingoMask No.20 Etching mask

50

5 10 15 20 25 30 40 50L

w

100

5 10 15 20 25 30 40 50

10L

10

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10 15 20 30 40 50w

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2.0

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L100

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KAWAI LAB.

2007 / 10 / 26KAWAI LAB.KURODA ShingoMask No.20 Etching mask

10L

10

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L w

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wL/W1.5

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2w

KAWAI LAB.

20 07 / 10 / 2 6KAWAI LAB.

・赤外線吸収スペクトルの測定・薄膜の分子構造解析及び定量分

析

・反射率、透過率、膜厚、及び屈折率

の測定

・光学定数及び膜厚の

非破壊測定

・内部構造の非破壊観察

・膜厚、表面の粗さ測定

・10万倍での観察・2次電子及び反射電子の観察

・特性X線による元素分析

・絶縁体の観察・低真空観察が可能→液滴や、含溶媒材料

（レジストなど）の観察が可能

h

・Van der pauw 法

・試料の組成形態・原子構造・結晶構造・極微小領域

・固体表面(数nm)の組成分析

-0.30

-0.20

-0.10

0.00

0.10

0.20

0.30

0.000 0.000 0.000 0.001 0.001 0.001

200μm