litografia par estruturas reais. correção de máscaras (opg- óptical proximity correction)
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Litografia par estruturas reais
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Correção de máscaras (OPG- óptical proximity correction)
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Phase shifting technique : melhoria em contraste
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Sistema de projeção de varredura (1:1),
com alta efficiência (throughput),
usado para lâminas grandes
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Seqüência de gravação step-and-repeat
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Espessura de resiste em função da velocidade de spinner
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Dispositivos para recozimento (baking) de resiste
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Exposição: efeito do tempo
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Interferência da luz dentro de resiste: ondas estacionárias
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Anti-reflection coating, exemplo de uso
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Revelação: efeito do tempo
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Litografia com feixe de elétrons
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Espalhamento de elétrons em resiste e substrato, efeito de proximidade
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Efeitos de inter- e intra-proximidade