塗布型材料の特徴【Characteristics of our coating materials】

膜質【Quality of deposition】

使用方法【Method of use】

カスタマイズ【Customization】

MOD材料 MOD Materials

MOD materialsMOD materials

機能性セラミックス薄膜の多様化・高機能化に対する期待が高

まる中、初期特性評価や可能性を探るための研究材料として塗

布型材料は大変優れています。

塗布型材料による薄膜製造の最大のメリットは材料コスト、生産

装置や設備の安価なことにあります。たとえばディップコート法の

製膜コストはおそらく他に類をみません。

各種半導体用液体材料の製造メーカーとして大きなシェアを占め

るまでに成長してまいりました当社は、このアルコラート等を原料

として質の良い塗布型材料を開発製造しています。特に半導体

デバイスメーカーや関連産業の企業とのコミュニケーションを基

軸に開発されたため、研究開発用材料から量産材料まで大変経

験が豊富です。

While expectations for the diversification and increased sophistication of functional ceramic thin film are increasing, coating materials are extremely valuable as research materials for initial characterization and evaluation and for exploring possibilities. The biggest merit of thin film fabrication using coating materials is the low cost of the materials, manufacturing equipment and facilities. The low cost of film-forming using dip coating, for instance, is unrivaled among other methods. As a manufacturer of various types of liquid materials for semiconductors, Kojundo Chemical, which has grown steadily to obtain a significant share of the market, develops and manufactures other high-quality coating materials using alcoholates for raw material. Since we develop our products in particularly close collaboration with semiconductor device manufacturers and corporations in related industries, we have extensive experience in everything from materials for research and development to mass production materials.

MOD材料 MOD材料

一般に塗布型材料を使用したときに得られる薄膜の膜質と、塗布型材料あるいは使用条件は互いに相関があります。塗

布や熱処理のノウハウと材料の選択、焼成温度も膜質に強い影響を及ぼします。有機物の分解は400～600℃、また良

質な結晶化は600～800℃程度といわれています。結晶軸の成長方向が問題とされる複合酸化物薄膜等も焼成条件や基

板材料等を考慮することで最適化されてゆくだろうと予想されます。

膜質 Quality of deposition

Generally, when using coating materials, there is a correlation between the quality of deposition of the thin film obtained and the coating materials or the conditions of use. Know-how concerning the coating and heat treatment and selection of the material and firing temperature have a strong influence on the quality of the deposition. Organic matter resolves at 400～ 600˚C, while high quality crystallization is said to occur at about 600～ 800˚C. Optimization should be possible if attention is paid to compound oxide thin films where the orientation of the crystal axis is considered to be an issue, as well as to the firing conditions and substrate material.

当社では、大きく分けてゾルゲル材料とMOD材料の2製品群を取揃えています。ゾルゲル材料は、アルコキシド等を加水

分解、重合させ、コロイド状にしたものを溶液中に分散させた材料です。これは有機酸のような高分子成分を含まず、溶

液中の主成分そのものがセラミックスの前駆体を形成しているため、一般に低温製膜性に優れています。

MOD塗布型材料とは、金属の有機化合物を有機溶剤に溶解した溶液であり、基板上にその溶液を塗布し、乾燥後熱

処理を施すことで酸化物薄膜を簡単に形成することができる液体材料です。

MOD材料としては、当社のMOD塗布型材料と、米国シンメトリックス社のEMOD塗布型材料を取揃えています。

当社のMOD塗布型材料は、特に基板への濡れ性に重点がおかれており、各種ウェハー、SiO2基板、ガラス基板等の上

に、スピンコートやディップコートなどの方法で簡単に塗布できるよう調製されています。また、各種単金属酸化物や複合

酸化物、微量元素のドーピングなど各種カスタマイズ品の経験が豊富です。

米国シンメトリック社のEMOD（Enhanced Metal Organic Decomposition）は、様々な組み合わせで混合・配合が可能

です。塗布型材料は溶液ですので、各元素の塗布型材料を用意して任意の比率で混合調製できれば研究の自由度が高

まります。一方で混合する組み合わせによっては沈殿の生成、粘度の上昇等が起こり実用的ではありませんでした。

EMOD材料は、90年台に米国シンメトリックス社で開発され、当社にて量産プロセスの開発、品質の安定化等の改良を

行い商品化された製品群です。各々は単金属酸化物薄膜を作るための塗布型材料となっており、各種の元素が取揃えら

れております。混合時の不具合を可能な限り抑え、ほとんどの組み合わせで配合・調製が可能であるという特徴を持ち、

十数年にわたり各種研究所等でご使用頂いています。

塗布型材料の特徴 Characteristics of our coating materials

Kojundo Chemical offers two main product groups: Sol-gel materials and MOD materials. Sol-gel materials are hydrolyzed alkoxides or similar materials that are polymerized, formed into colloids and dispersed in a solution. Since they do not contain polymeric materials such as organic acids, and the principal constituents of the solution are themselves precursors of ceramics, they are generally excellent for low-temperature film formation.MOD coating materials are solutions of metallic organic compounds dissolved in organic solvent. This solution is applied to a substrate, and after it dries it is heated. This is a simple method of forming a thin oxide film.Kojundo Chemical offers its own MOD coating materials, as well as EMOD coating materials from Symetrix Corporation.The MOD coating materials from Kojundo Chemical offer particularly good wetting of the substrate, and they are prepared to enable simple application to all kinds of wafers, SiO2, glass and other substrates using methods such as spin coating, dip coating and so on. In addition, we have extensive experience in a range of customized products such as various single-metal oxides and compound oxides, and trace element doping among other products.The EMOD (Enhanced Metal Organic Decomposition) materials offered by Symetrix Corporation of America can be mixed and combined in a variety of different compounds. Since coating materials are solutions, coating materials containing different elements can be prepared and mixed in any proportion of choice, thereby offering a greater degree of freedom in research. On the other hand, depending on the combinations mixed, precipitates may form or the viscosity may increase, making them unsuitable for practical application. EMOD materials were developed by Symetrix Corporation in the 1990s while Kojundo Chemical developed the process for mass producing these materials, ensuring regular high quality and developing a lineup of products. The coating materials are for making single-metal oxide films of each kind, and they are available for all the elements. Problems during mixing have been minimized, and they feature the ability to be mixed and prepared in most combinations. They have been used over the past dozen years or so in a wide range of research laboratories.

希釈剤を使用すれば濃度調製が可能です。ご希望の用途、濃度、塗布方法に合った最適な条件の塗布型

材料をご使用いただけます。

EMOD塗布型材料を混合・調製して形成した複合酸化物薄膜で優れた特性が実現し、製品化に向けてより

安定した特性や酸化物組成が得られる最適条件の塗布型材料が必要となった場合、膜質の改善など、濃度、

配合比率、添加物等、使用方法に最適な塗布型材料のカスタマイズも行っていますので、当社営業部まで

お問い合わせください。

カスタマイズ Customization

It is possible to adjust the concentration of the coating using a dilution agent. You can use coating materials optimally suited to the desired application, concentration and coating method.If you require coating materials that achieve excellent characteristics with compound oxide thin films formed with mixed preparations of EMOD coating materials, with optimal conditions that can obtain the stable characteristics and oxide composition required for commercial products, please contact our Sales Division. We carry out customization of coating materials for improved quality of deposition and the optimal concentration, mixing ratio, and additives to meet your needs.

スピンコート法

基板を回転させ、その上に塗布型材料溶液を滴下し遠

心力により液膜を基板上へ広げて均一な膜を形成する

方法

Spin coating method The substrate is rotated and a solution of the coating material is dripped onto it. Centrifugal force spreads the liquid film across the substrate forming a uniform film.

ディップコート法

塗布型材料溶液中に基板を浸漬し、ゆっくりと引き上げ、

基板上に液膜を形成する方法

Dip coating methodThe substrate is immersed in a solution of the coating material and is then pulled out gently, forming a liquid film on the substrate.

塗布型材料を基板上へ塗布する方法としては、スピンコート法とディップコート法が代表例にあげられます。

使用方法 Method of use

There are two main methods of applying coating materials to substrates; the spin coating method and the dip coating method.

■ EMOD塗布型材料 (EMOD coating materials) ■ MOD塗布型材料 (MOD coating materials)

複合酸化物（Compound oxide）

Y-1

Y-Z

SYM-BST05

SYM-PZT05

SYM-PLZT05

BiSrTaOx

BiSrTaNbOx

（BaSr）TiO3

Pb（ZrTi）O3

（PbLa）（ZrTi）O3

0.2

0.2

0.5

0.5

0.5

（mol/liter）

濃度、組成変更、その他複合酸化物の開発も承っています。 We also accept orders for development of other concentrations, compositions and other compound oxides.

Sol-Gelタイプ（Sol-gel type）

Si-05S

PS-05S

BS-05

BPS-05S

Ti-05-P

SiO2

SiO2-P2O5

SiO2-B2O3

SiO2-P2O5-B2O3

TiO2

5

5

5

5

5

（%）

複合酸化物（Compound oxide）

単金属酸化物（Single-metal oxide）

SYM-AL04

SYM-B04

SYM-BA05

SYM-BI05

SYM-CE03

SYM-CO04

SYM-CR015

SYM-CU04

SYM-DY01

SYM-ER01

SYM-EU01

SYM-FE05

SYM-GE03

SYM-HF04

SYM-IN02

SYM-LA01

SYM-MG05

SYM-MN05

SYM-NI05

SYM-NB05

SYM-PB05

SYM-SB03

SYM-SI05

SYM-SM02

SYM-SN05

SYM-SR05

SYM-TA05

SYM-TI05

SYM-Y01

SYM-YB01

SYM-ZN20

SYM-ZR04

AlO1.5

BO1.5

BaO

BiO1.5

CeO2

CoO

CrO1.5

CuO

DyO1.5

ErO1.5

EuO1.5

FeO1.5

GeO2

HfO2

InO1.5

LaO1.5

MgO

MnO1.5

NiO

NbO2.5

PbO

SbO1.5

SiO2

SmO1.5

SnO2

SrO

TaO2.5

TiO2

YO1.5

YbO1.5

ZnO

ZrO2

0.4

0.4

0.5

0.5

0.3

0.4

0.15

0.4

0.1

0.1

0.1

0.5

0.3

0.4

0.2

0.1

0.5

0.5

0.5

0.5

0.5

0.3

0.5

0.2

0.5

0.5

0.5

0.5

0.1

0.1

2

0.4

PLZT-20

PZT-20

PT-25

PZ-20

ST-06

BT-06

BST-06-P

ITO-05C

SZ-10-3

YAG-05

（PbLa）（ZrTi）O3

Pb（ZrTi）O3

PbTiO3

PbZrO3

SrTiO3

BaTiO3

（BaSr）TiO3

In2O3-SnO2

ZrO2-Y2O3

Y2O3-Al2O3

20

20

25

20

6

6

6

5

3

5

単金属酸化物（Single-metal oxide）

注意事項（Notes） 成分及び濃度は焼成後に残留する酸化物形及び酸化物含量ではありません。 溶液の濃度を表中の酸化物形として換算すると、記載されている濃度となるという意味です。

The ingredients and concentration are not the same as the oxide and oxide content residue after firing. This means that the concentration indicated will result if the concentration of the solution is calculated as the oxide in the table.

（mol/liter）

（%）

商品名（Product name） 成分（Composition） 濃度（Concentration）

濃度、組成変更、その他複合酸化物の開発も承っています。 We also accept orders for development of other concentrations, compositions and other compound oxides.

商品名（Product name） 成分（Composition） 濃度（Concentration） 商品名（Product name） 成分（Composition） 濃度（Concentration）

商品名（Product name） 成分（Composition） 濃度（Concentration）

Al-03-P

Bi-05

Ce-03

Cu-03

Co-03

Er-03

Fe-03

Ga-03

Hf-05

In-05

La-03

Mg-03

Mn-03

Nb-05

Ni-03

Sm-03

Sn-05

Ta-10-P

Ti-03

V-02

Y-03

Zn-05

Zr-05-P

Al2O3

Bi2O3

CeO2

CuO

CoO

Er2O3

Fe2O3

Ga2O3

HfO2

In2O3

La2O3

MgO

Mn2O3

Nb2O5

NiO

Sm2O3

SnO2

Ta2O5

TiO2

V2O5

Y2O3

ZnO2

ZrO2

3

5

3

3

3

3

3

3

5

5

3

3

3

5

3

3

5

10

3

2

3

5

5

（%）

商品名（Product name） 成分（Composition） 濃度（Concentration）

MOD Materials

High Purity Materials高純度化学研究所 株式会社

【本社・営業部】 埼玉県坂戸市千代田5丁目1番28号 〒350-0284Tel. 049（284）1511㈹　 Fax. 049（284）1351

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【大阪支店】 大阪市中央区南船場1丁目11番23号 ダイジェスト南船場ビル 〒542-0081Tel. 06（6264）1230　 Fax. 06（6264）1254

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