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真空紫外光を用いた光CVD技術による 窒化物薄膜の作製方法 …OMCTS 作製した薄膜のリーク電流特性 窒化物の重要性 おもな用途 真空紫外光を用いたゲート酸化膜用のバリア層形成技術の開発
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