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TRANSCRIPT
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半導体工学 11第7回目/ OKM
動作原理動作原理MOSFETMOSFETの動作原理の動作原理
・しきい電圧(・しきい電圧(VVTHTH))と制御と制御・・EE型と型とDD型型
似 ド 流解析似 ド 流解析・0次近似によるドレイン電流解析・0次近似によるドレイン電流解析
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半導体工学 22第7回目/ OKM
電子のエネルギ バンド図での考察電子のエネルギーバンド図での考察
理想MOS構造の仮定: ・シリコンと金属の仕事関数が等しい。・界面を含む酸化膜中に余分な電荷がない。
金属(M)
酸化膜(O)
シリコン(S) 電子
エ金属(M)
酸化膜(O)
シリコン(S)
ネルギー
熱平衡でフラットバンド
(M) ( ) ( )
Ec伝導帯
ーゲートに正電圧
EF
Ei
価電子帯
EvF
qVG価電子帯
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半導体工学 33第7回目/ OKM
表面電位と表面キャリア密度表面電位と表面キャリア密度
バルク(bulk)領域の正孔密度:(4-14)式⎞⎛⎞⎛ qEE φ
金属(M)
酸化膜(O)
シリコン(S)
表面電位:
⎟⎟⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛=⎟⎟
⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛ −==
kTq
nkT
EEnNp pi
FipiAp
φexpexp0
φ 0表面電位:
表面正孔密度
φs > 0
Ec
Eqφ
表面正孔密度→表面電位のボルツマン因子だけ減少
⎟⎞
⎜⎛ qN sφ
qV EvEFEip
表面電子密度
⎟⎠⎞
⎜⎝⎛−=
kTqNp sAs
φexp
qVG vqφs
表面電子密度→表面電位のボルツマン因子だけ増加
⎟⎞
⎜⎛ qni φ
2
⎟⎠⎞
⎜⎝⎛=
kTq
Nnn s
A
is
φexp
半導体表面は空乏
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半導体工学 44第7回目/ OKM
p型表面の伝導型がnに反転p型表面の伝導型がnに反転
ゲート電圧をさらに増やしていくと禁制帯中央から見て
qVOX
EFの位置がバルクと表面とで正反対!
Ec Ec
q OX
EFEi
qφp
EFEi
qφpEF
が φqVG
EvF
qφsqVTH
EvFE
i
に一致
qφp
qφs = 2qφp致
d半導体表面は真性 p型表面がnに反転
dOX
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半導体工学 55第7回目/ OKM
理想MOS構造のしきい電圧理想MOS構造のしきい電圧
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半導体工学 66第7回目/ OKM
Q = C (V V )QC = COX (VGS-VTH)• Q=QSC+QC
チャネル電荷 (QC)チャネル電荷 (QC)伝導電子
ある程度,表面に電子が溜まると電界は遮蔽され,
が 定 なるCが一定になる
Cは空乏層の伸 VTH
空乏層電荷 (Q )
びにより減少
VGS
空乏層電荷 (QSC)アクセプタ
VGSしきい電圧 (threshold voltage)
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半導体工学 77第7回目/ OKM
しきい電圧 (V )しきい電圧 (VTH)
n MOS の場合 チャネル電荷 (QC)n-MOS の場合
– ゲート電圧を上げていった
チャネル電荷 (QC)
⇒ ソース・ドレイン間のコンダクタンスゲ ト電圧を上げていった
ときに,表面電子密度が増
加し,バルク正孔密度に等
のコンダクタンス
しくなったときの値.
– 仕事関数の小さなゲート電
極材料によりマイナス側に
シフト.
ドナーなど,プラスのイオンをドーピングすることで,マイナ
VGSVTH
ングする , イナス側にシフトできる
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半導体工学 88第7回目/ OKM
MOSFETはしきい電圧のコントロールが可能
エンハンスメント型エンハンスメント型
Enhancement 型IDS ⇒ 出力電流
normally off 型ともいう
デプレション型ED
Depletion 型normally on 型ともいうnormally on 型ともいう
Siバイポーラ
立上がり電圧がしきい電圧.
約0.7 Vのnormally off 型のみ.VGS
約0.7 Vのnormally off 型のみ.VTH0 ⇒入力電圧
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半導体工学 99第7回目/ OKM
ゲ ト材料としきい電圧ゲート材料としきい電圧
ゲート金属の仕事関数
大 小
l Si Si ポリシリコンゲート l Si Si
E
poly p-SiGate
p-Si ポリシリ ンゲ ト
NMOS PMOS
poly n-SiGate
n-Si
Ec
E
EcEv
Ev
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半導体工学 1010第7回目/ OKM
酸化膜中電荷によるV シフト酸化膜中電荷によるVTHシフト
酸化膜中にNaやKなどの フローティングゲートに酸化膜中 や な陽イオンが汚染混入
→ 電圧をかけなくても
電子を注入・蓄積
→ 電子は表面に行き難く
電子が表面に。→ VTHは負側にシフト
→ VTHは正側にシフトEPROM等(フラッシュメモリ)
Na+
Na+ Na+
N
Na+
N
Na+Na+
Na+ Na+ Na+ Na+Na+
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半導体工学 1111第7回目/ OKM
チャネルド プとしきい電圧チャネルドープとしきい電圧
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半導体工学 1212第7回目/ OKM
MOSFETを4種類に大別MOSFETを4種類に大別(しきい電圧の絶対値を 2V として例示)
I
nMOS (E) nMOS (D) pMOS (E) pMOS (D)IDSS IDSS VGSVGS伝
達特
VGS VGS IDSSIDSS
I
特性
1 VIDS
VGS VDSIDS
VGS VDS出力特
+5 V
+4 V
+1 V
0 V5 V
- 4 V- 3 V
> - 2 V
0 V+1 V
> +1 V
D D D D
VDS IDS
VGSVDS IDS
VGS
特性 +3 V
< 2 V
- 1 V
< - 2 V
- 5 V - 1 V
G
sub
D
G
sub
D
G
sub
D
G
sub
D
回路記
S S S S
記号
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半導体工学 1313第7回目/ OKM
チャネルコンダクタンスチャネルコンダクタンス
チャネルに誘導される伝導電荷
(単位面積当たり)QC = COX VGS − VTH( )
QCWL
Q WLQCWL
チャネル電荷分布が,ドレイン印加電圧に影響さチャネ 電荷分布 , イン印加電圧 影響さ
れなければ・・
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半導体工学 1414第7回目/ OKM
ドレイン電流を求めようドレイン電流を求めよう
Q WL =εOXε0WL V V( ) t = Lの電荷が 秒かかって走行QCWL = dOX
VGS − VTH( ) tC = vCの電荷が 秒かかって走行.
QCWL
Q WLQCWL
QCWL εOXε0μ W⎛ ⎜⎞ ⎟( )L L L
2
IDS =QCWL
tC=
εOXε0μ ndOX
WL
⎛ ⎝ ⎜
⎞ ⎠ ⎟ VGS − VTH( )VDS
tC =
Lμ nE
=L
μ n (VDS /L)=
Lμ nVDS
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半導体工学 1515第7回目/ OKM
線形領域の特性と利得係数線形領域の特性と利得係数
( ) ( )nOXC VVVVVVWWLQI ⎟⎞⎜⎛0 βμεε ( ) ( ) DSTHGSDSTHGSOX
nOX
C
CDS VVVVVVLdt
QI −=−⎟
⎠⎞
⎜⎝⎛== 0 β
μ
利得係数(gain)利得係数(gain)
IDS
VGS - VTH に比例して増加
VDSVGS < VTH
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半導体工学 1616第7回目/ OKM
MOSFETの出力静特性MOSFETの出力静特性
IDS =QCWL
t=
εOXε0μ nd
WL
⎛ ⎝ ⎜
⎞ ⎠ ⎟ VGS − VTH( )VDStC dOX L⎝ ⎠ ( )
IDS
0 V 0 V+5 Vソース ゲート ドレイン
(a)
DSVGS = +5 V
チャネル
5 V 5 Vn-MOSVTH = +2 V
0 V
VTH +2 V
VGS = +3 V
+3 V+1 V VDS
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半導体工学 1717第7回目/ OKM
MOSFETの出力静特性MOSFETの出力静特性
IDSV V
0 V +5 V +1 V(b)
DSVGS = +5 V
空乏層
4 Vn-MOSVTH = +2 V
0 V
VTH +2 V
VGS = +3 V
V が0の 1V分は空乏層+3 V+1 V VDS
VDS が0のときに同じ
1V分は空乏層に逆バイアス
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半導体工学 1818第7回目/ OKM
ピンチオフ電圧 Vピンチオフ電圧 VP
ゲ ド
しきい電圧に等しい VGS − VDS = VTHゲートとドレインの電圧差
が 2 V ! IDS
0 V +5 V +3 V(c)
VGS = +5 V
ピンチオフ
2 Vn-MOSVTH = +2 V
0 V
VTH 2 V
VGS = +3 V
+3 V+1 V VDSVDS = VGS − VTH ≡ VP
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半導体工学 1919第7回目/ OKM
傾斜チャネル近似傾斜チャネル近似Gradual channel approximation
( )THCGSOXC VzVVzWCzWzQ −−⋅⋅= )(dd)(
IDS (z) = QC (z)μ n∂VC (z )
∂= const.
0 V V GS V DS
DS ( ) QC ( )μ n ∂z
1 L∫ 0 V V GS V DS
V C (z )
IDS =1L
I DS(z )dz0L∫
1 ( )L∫空乏層
V C (z )=1L
QC (z)μ n ∂VC (z ) /∂z( )dz0L∫
μ nεOXε0 W⎛ ⎜⎞ ⎟ V V V( )dVVDS∫ 0 V
z
=μ n OX 0
dOX L⎝ ⎜
⎠ ⎟ VGS − VC − VTH( )dVC0
DS∫
μ nεOXε0 W⎛ ⎜⎞ ⎟ ( ) VDS
2⎡ ⎢
⎤ ⎥ z
0 L=
μ n OX 0dOX L
⎛⎝ ⎜
⎞⎠ ⎟ VGS − VTH( )VDS − DS2⎣ ⎢ ⎢ ⎦
⎥ ⎥
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半導体工学 2020第7回目/ OKM
基板バイアス効果基板バイアス効果
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半導体工学 2121第7回目/ OKM
線形領域と飽和領域線形領域と飽和領域
線形領域のドレイン電流
IDS =μ nεOXε0
dOX
WL
⎛ ⎝ ⎜
⎞ ⎠ ⎟ VGS − VTH( )VDS −
VDS2
2
⎡
⎣ ⎢ ⎢
⎤
⎦ ⎥ ⎥ ⎣ ⎦
= β VGS − VTH( )VDS −VDS
2
2
⎡
⎣ ⎢ ⎢
⎤
⎦ ⎥ ⎥
IDS
利得係数 β, プロセス係数 KP
⎣ ⎢ ⎦ ⎥
⎛ ⎞ ⎛ ⎞
飽和領域IDSS
β ≡μ nεOXε0
dOX
WL
⎛ ⎝ ⎜
⎞ ⎠ ⎟ ≡ K P
WL
⎛ ⎝ ⎜
⎞ ⎠ ⎟
飽和電流値 IDSS
1 ( )2 1 2 VDS線形領域
IDSS =12
β VGS − VTH( )2
=12
βVP2 VDS
0 VP = VGS − VTH
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半導体工学 2222第7回目/ OKM
ピンチオフ電圧以上で飽和する理由ピンチオフ電圧以上で飽和する理由
0 V +5 V +3 V2 V
( )VC∫ピンチオフ
IDSS = β VGS − VC − VTH( )dVC0VC∫
0 V
チャネルの抵抗 V (z) = V 1− 1−z⎛
⎜ ⎞ ⎟
小 大
VC (z) = VP 1− 1− L⎝ ⎜
⎠ ⎟
VC(z)
3 V
Ez (z) = −∂VC (z )
∂z= −
VP2L
1−zL
⎛ ⎝ ⎜
⎞ ⎠ ⎟ −1
+3 V
Q (z)dz = C V 1z
L0QC (z)dz = COXVP 1− L
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半導体工学 2323第7回目/ OKM
高耐圧MOSFETの工夫高耐圧MOSFETの工夫
ドレイン付近の電界集中を避けるドレイン付近の電界集中を避ける.
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半導体工学 2424第7回目/ OKM
小信号パラメ タ小信号パラメータ
IDS = β VGS −VTH( )VDS −VDS
2
2⎡
⎣ ⎢ ⎤
⎦ ⎥
ドレインコンダクタンス
∂ IgD 0 ≡
∂ IDS∂VDS VDS → 0
= β VP = β (VGS −VTH )線形領域:
gDS ≡∂IDS∂VDS VDS >VP
=∂IDSS∂VDS
= 0飽和領域:
伝達コンダクタンス
∂ IDS線形領域 gm ≡∂ IDS∂VGS
= β VDS線形領域:
PGS
DSSm VV
Ig β
∂∂
=≡飽和領域:
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半導体工学 2525第7回目/ OKM
ゲ トキャパシタンスゲートキャパシタンス
遮断領域 線形領域 飽和領域
S G D S G D S G D
C WL
COX WL2
COX WL2
COX WL
23
COX WL
sub sub subsub sub sub
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半導体工学 2626第7回目/ OKM
チャネル長変調チャネル長変調
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半導体工学 2727第7回目/ OKM
等価回路と遮断周波数 f等価回路と遮断周波数 fT
G Di G i D G DC GDi G i D
C GS g v GSv GSC GS g mv GS
g Dv GSC GS g mv GSv GS g Dv GS
SCGS =
23
COXWLS
電圧利得gm=βVp3
電流利得
遮断周波数=利得帯域幅積