Серии вакуумных установок «Ника-2012»

«Ника-2012-500»

Серия «Ника-2012»Современный аналог колпаковых машин серии УВН-71. Состав: Камера нерж. Ø400х350 мм с рубашкой охлаждения. Бесстоечное исполнение. Безмасляная откачка (ТМН / КГН, ФВН). Площадь в плане 2 м2,, с зоной обслуживания - 4 м2.Подвижный нижний фланец: 4 позиции ISO63 для устройств на выбор - магнетроны, ионный источник, генератор плазмы, термические испарители. Плоская карусель для односторонней обработки (6 круглых подложек Ø100 мм / 12 прямоугольных 60х48 мм) или система с переворотом подложек для двусторонней. Быстрая замена карусели под различные подложки. Автоматический привод заслонки. Верхний фланец: 5 отверстий ISO63, возможна установка нагревателя и кварцевого измерителя толщины покрытий. 3 смотровых окна с заслонками, возможна замена на фланцы ISO160 с дополнительным оборудованием.Электропитание: 380В, 50 Гц, 8..15 кВт. Габариты: 850..1415 х 900..1100 х 1750..1900. Масса: 300..400 кг.

В серии 6 базовых конфигураций: напылительные установки ИН, ТН, РС, ПС, плазмохимические МО/МТ.

Серия «Ника-2012-500»Современный аналог полноразмерный колпаковых машин серии УВН-71. Состав: Камера нерж. Ø500х400 мм с рубашкой охлаждения. Бесстоечное исполнение. Безмасляная откачка (ТМН / КГН, ФВН). Площадь в плане 3 м2,, с зоной обслуживания - 5 м2.Подвижный нижний фланец: 5 позиций ISO63 для устройств на выбор - магнетроны, ионный источник, генератор плазмы, термические испарители. Плоская карусель для односторонней обработки (6 круглых подложек Ø100 мм / 12 прямоугольных 60х48 мм) или система с переворотом подложек для двусторонней. Быстрая замена карусели под различные подложки. Автоматический привод заслонки. Верхний фланец: 6 отверстий ISO63, возможна установка нагревателя и кварцевого измерителя толщины покрытий. 3 смотровых окна с заслонками, возможна замена на фланцы ISO160 с дополнительным оборудованием.Электропитание: 380В, 50 Гц, 8..15 кВт. Габариты: 850..1415 х 900..1100 х 1750..1900. Масса: 400..600 кг.

В серии 6 базовых конфигураций: напылительные установки ИН, ТН, РС, ПС

Напылительные установки Ника-2012 и Ника-2012-500Установка ионного напыления Ника-2012 ИННазначение: Шлюзовая установка с индивидуальной загрузкой для напыления плёнок произвольного состава (металлы, диэлектрики, полупроводники). Контролируемое нанесение многослойных покрытий в произвольной программируемой последовательности с 6 мишеней. Ассистирование процесса нанесения плазмой высокой плотности (IPVD). Нанесение как в среде инертного газа, так и с реактивными процессами напыления соединений. Подложки до d100 мм.

Технологии: Ионно-лучевое распыление проводников и диэлектриков, катодное распыление проводников, реактивное напыление диэлектриков, ионное осаждение.

Состав: Шлюз для быстрой перезагрузки подложек. Нагреваемый или охлаждаемый держатель подложек с вращением. Источник ионов ИИ-52 для распыления мишеней. Генератор плазмы РПГ-128 для очистки подложек, катодного распыления и ионного ассистирования. Поворотный охлаждаемый держатель мишеней на 6 позиций. До 4 каналов подачи рабочих газов, кварцевый измеритель толщины. Подложки размещены вертикально на нагреваемом вращающемся подложкодержателе. Возможна комплектация с охлаждаемым или нагреваемым столом с гелиевым теплоотводом. Для повышения скорости распыления проводящих мишеней возможна подача среднечастотного смещения.

Напылительные установки Ника-2012 и Ника-2012-500 Установка термического напыления Ника-2012 ТННазначение: термическое напыление материалов с предварительной ионной очисткой и магнетронным напылением подслоя.

Технологии: ионная очистка подложек, в том числе низкоэнергетическая (энергия ионов до 40 эВ); магнетронное напыление подслоя с высокой адгезией; восстановительная обработка в водородной плазме; сухое снятие фоторезиста травлением в кислородной или водородной плазме; контроль толщины наносимого слоя по свидетелю сопротивления, кварцевому измерителю толщины либо по времени; термическое напыление проводящих и резистивных слоёв.

Состав: ионный источник (очистка подложек) / генератор плазмы (восстановительная обработка в водородной плазме, заменяет высокотемпературный отжиг и травление органических материалов); магнетрон (напыление подслоя - Cr, Ti, Ta); 1..2 резистивных термических испарителя (напыление функциональных слоёв); карусель (одностороннее / двустороннее напыления с возможностью быстрой замены); кварцевый измеритель толщины слоя; 3 канала газонапуска; нагреватель.

Напылительные установки Ника-2012 и Ника-2012-500Установка напыления резистивных слоев Ника-2012 РС

Назначение: напыление резистивных слоев, ионно-плазменная очистка и травление, плазмохимическое («сухое») снятие фоторезиста.

Технологии:Магнетронное распыление металлических и силицидных мишеней. Ионная очистка и травление слоёв. Сухое снятие фоторезиста. Нанесение защитных диэлектрических покрытий поверх резистивного слоя. Напыление/травление заданного номинала по свидетелю сопротивления.

Состав: Карусель на 12 прямоугольных подложек 60х48 или 6 круглых Ø100 мм для одностороннего нанесения. 1 Магнетрон (напыление подслоя). 1..2 магнетрона (напыление резистивного слоя из металлических / силицидных мишеней). Источник ионов (активация подложек и травление слоёв. Радиочастотный генератор плазмы (активация подложек и снятие фоторезиста). Нагреватель с функцией поддержания заданной температуры. 3..4 канала подачи рабочих газов.

Напылительные установки Ника-2012 и Ника-2012-500Установка напыления проводящих слоев Ника-2012 ПС

Назначение: Установка для нанесения толстых металлических слоёв методом магнетронного распыления (термовакуумного испарения в магнетронном разряде) на керамические подложки. Для обеспечения адгезии проводящего слоя предусмотрено напыление металлического (Cr, Ti, Ta) / диэлектрического подслоя. В последнем случае обеспечивается минимальные резистивные потери в СВЧ схемах.

Технологии: Ионная очистка подложек. Магнетронное распыление металлических мишеней. Магнетронное распыление магнитных материалов (Ni). Термовакуумное испарение в магнетронном разряде с высокой скоростью нанесения (до 1 мкм/мин на вращающуюся карусель, до 60 мкм полной толщины на всю загрузку). Напыление диэлектрического подслоя (опционально). Опционально – восстановительная обработка в водородной плазме, заменяющая высокотемпературный отжиг, а также травление органических материалов.

Состав: Ионный источник / Генератор плазмы. Магнетрон для напыления металлического (Cr, Ti, Ta) или диэлектрического подслоя. Магнетрон для нанесения толстого слоя металла (Cu, Ag) методом термовакуумного испарения в магнетронном разряде. Магнетрон для нанесения защитного слоя Ni. Карусель для одностороннего / двустороннего напыления с возможностью быстрой замены одной на другую. 2 канала подачи рабочих газов. Нагреватель (опционально).

Плазмохимические установки Ника-2012

Установка магнетронного осаждения/травления Ника-2012 МО/МТ

Назначение: Установка для ионной и плазмохимической обработки подложек в среде высокоплотной плазмы. Подложки размещаются с 2 сторон на плоском водоохлаждаемом электроде с гелиевым теплоотводом, вокруг которого в среде инертных или химически активных газов зажигается высокочастотный магнетронный разряд с высокой однородностью плотности ионного тока. Размер зоны обработки на каждой стороне — 200х200 мм. Подложки от 25 до 200 мм.

Технологии: Плазмостимулированное осаждение из газовой фазы (PECVD) диэлектрических слоев различных материалов в атмосфере кремнийсодержащих газов высокочастотном магнетронном разряде. Плазмохимическое травление материалов в кислородной, водородной или фторной плазме. Ионное травление металлических слоёв в плазме аргона. Скорость травления по меди – до 0,4 мкм/мин, ограничена только предельной температурой подложки.

Состав: Плазмохимический реактор специальной конструкции. До 4 каналов подачи рабочих газов.

Модернизация вакуумного оборудования

ООО "Лаборатория вакуумных технологий" осуществляет модернизацию любого вакуумного оборудования под задачи Заказчика. В частности, модернизацию вакуумных технологических установок: УВН-71, УВН-73..75, а также установок «Оратория-9», УВН-70 и УВН-79. Производится замена арматуры вакуумной системы, средств откачки и измерения вакуума. Устанавливаются новые блоки управления вакуумной системой, распределения охлаждающей жидкости.В зависимости от задач возможна доукомплектация установок технологическими устройствами:

● магнетронными распылительными системами, ● ионными источниками, ● нагревателями, ● радиочастотными генераторами плазмы, ● современными блоками, вакуумметрами и датчиками.

Итоговая модернизируемая установка имеет полностью автоматизированное управление вакуумной системой и технологическим процессом. Возможен удалённый контроль за исправностью установки, обновление ПО и технологические консультации через Интернет.

«Ника-2012», «Ника-2013» и «Ника-2014» - вакуумные технологические установки промышленного и научно-исследовательского назначения для нанесения покрытий и ионно-плазменной обработки. Установки легко модифицируются под конкретную производственную или научно-исследовательскую задачу. Полностью автоматическое управление.3 серии установок, 8 модификаций (РС, ПС, ИН, ТН, ПХО, ПХТ, МО/МТ)Технологии и задачи, реализуемые на установках:

● Магнетронное напыление металлов, сплавов, полупроводников и диэлектриков,● Сверхскоростное магнетронное напыление металлов (Cu, Sn, In, Ag, Cr, Ni, Ti) ● Реактивное магнетронное напыление диэлектриков из металлических и

полупроводниковых мишеней: SiO2, Si3N4, TiO2, TiN, ITO, ZnO, Al2O3, AlN, MgO, Ta2O5, TaN и пр.;

● Ионная и ионно-плазменная очистка подложек перед напылением, в том числе в водородной или кислородной плазме или атомарном водороде;

● Ионное и ионно-плазменное ассистирование при напылении различными способами;

● Ионно-плазменные азотирование и нитроцементация;● Плазмохимическое осаждение диэлектриков;● Плазмохимическое травление материалов (SiO2, Si3N4, моноSi и поликремний, GaAs,

GaN, фоторезист, полиимид).

Лаборатория вакуумных технологий (Beams&Plasmas™), Зеленоград — разработка и производство вакуумного оборудования для нанесения покрытий. Новейшие технические решения, высокая надежность и производительность, простота в обслуживании, разумные цены — отличительные черты оборудования. Компания поддерживает инициативу Правительства РФ по импортозамещению: уровень локализации производства составляет более 90%. Технологическое оборудование вакуумных систем (магнетроны, ионные источники, генераторы плазмы, согласующие, блоки вакуумной системы, датчики и комплектующие)• Консультации по техническим и технологическим вопросам• Сервисное обслуживание и ремонт вакуумного оборудования• Модернизация ООО "Лаборатория вакуумных технологий"Адрес: 124460, г. Москва, г. Зеленоград, пр. 4922 (Озерная аллея), д.4 стр.3 (технопарк ЭЛМА), Телефон: +7 499 346 20 20, www.vaclab.ru, vaclab@vaclab.ru