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２００９年７月２日

レーザーテック株式会社

代表取締役社長岡林理（６９２０ＪＡＳＤＡＱ）

レーザーテックの事業戦略


本日の内容

会社概要

特長・強み

ビジョンと事業戦略


会社概要

新横浜研究開発センター兼本社米国現地法人韓国現地法人

２００８年６月期売上１４１億円売上

２３９人（２００８年１２月末）従業員数

９億３１百万円資本金

１９９０年店頭登録２００３年JASDAQ上場（コード 6920）上場

半導体関連装置、液晶・太陽電池関連装置、及びレーザー顕微鏡の

開発、製造、販売、並びにサービス

事業内容

本社：神奈川県横浜市港北区新横浜２－１０－１

連結子会社：米国、韓国支店：台湾

所在地

１９６０年東京ITV研究所設立

１９８６年社名をレーザーテック（株）に変更

設立


経営理念

世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる

“毎年一つの新製品を開発しよう、それも世界で初めてのものを“

創業以来の開発精神


主要開発製品の推移

0

2000

4000

6000

8000

10000

12000

14000

16000

18000

1963

年19

65年

1967

年19

69年

1971

年19

73年

1975

年19

77年

1979

年19

81年

1983

年19

85年

1987

年19

89年

1991

年19

93年

1995

年19

97年

1999

年20

01年

2003

年20

05年

2007

年

百万円

ＷＡＳＡＶＩ

シリーズ

ﾌｫﾄﾏｽｸ欠

陥検査装置

ﾏｽｸﾌﾞﾗﾝｸｽ検査装置

液晶ｶﾗｰﾌｨﾙﾀｰ修正装置液晶ﾌｫﾄﾏｽｸ

欠陥検査装置

共焦点ﾚｰｻﾞｰ顕微鏡

１９８６年；社名をレーザーテックに

ＬＳＩﾌｫﾄﾏｽｸ自動欠陥検査装置創　　業

Ｘ線ＴＶ

１９６０年東京ＩＴＶ研究所

売上

当社が世界で初めて開発・導入した製品

４７年間（2009年6月期：第４７期）

１９７６年

２０００年

２００７年

売上


主要製品分野

レーザー顕微鏡

半導体関連装置

Ｎｅｗ太陽電池関連装置

液晶関連装置

半導体関連装置、液晶・太陽電池関連装置、及びレーザー顕微鏡


分野毎の中核製品


■半導体、ＦＰＤ他、新素材、金属などの研究開発用途。さらに、アンテナとしての重要な役割も担っています

液晶・太陽電池関連装置

■大型マスクの欠陥検査装置、及び

カラーフィルタの欠陥検査・修正装置

マスクブランクス欠陥検査装置ＭＡＧＩＣＳ

大型マスク欠陥検査装置第１０世代用ＬＩ７１２

ﾐﾘからﾅﾉﾒｰﾀｰまでｼｰﾑﾚｽ観察超高精細顕微鏡Ｈ１２００

半導体関連装置

■フォトマスク、ウェハの欠陥検査装置

マスクブランクス検査装置のシェアは１００％です

大型マスク検査装置のシェアは１００％です５月、太陽電池変換効率分布測定機を発売

国内工業用顕微鏡のシェアは約１６％です


業績推移

連結売上・営業利益・営業利益率

-2,000

0

2,000

4,000

6,000

8,000

10,000

12,000

14,000

16,000

18,000

２００３年２００４年２００５年２００６年２００７年２００８年２００９年予想 -10.0%

-5.0%

0.0%

5.0%

10.0%

15.0%

20.0%

25.0%

30.0%

連結売上営業利益営業利益率

半導体

液晶

顕微鏡サービス

（２００９年２月１３日時点）


半導体製造工程における当社の主力装置

ﾏｽｸﾌﾞﾗﾝｸｽ製造

ウェハ製造

マスク製造デバイス製造工程

ﾊﾟﾀｰﾝ設計

組立・実装

マスクブランクス欠陥検査装置

ＭＡＧＩＣＳｼﾘｰｽﾞ

位相差/透過率

測定装置

ペリクル／フォトマスク異物検査装置

パターン付きウェハ反り／ストレス検査装置ＷＡＳＡＶＩｼﾘｰｽﾞＳＫ３００

ウェハ欠陥検査・レビュー装置

貫通電極ｴｯﾁﾝｸﾞ深さ検査装置ＷＡＳＡＶＩｼﾘｰｽﾞＴＳＶ３００

LasertecLasertec

３次元積層デバイス

貫通電極

前工程後工程

新規参入（ウェハ/デバイス処理工程）従来の主力製品（ﾏｽｸ関連工程）

ウェハ処理工程

マスク・サンプル

３００ｍｍウェハ・サンプル

（６インチ角、厚さ１／４インチ）

ＭＡＴＲＩＣＳｼﾘｰｽﾞ（主にマスク受入側での検査ニーズ対応）

フォトマスク欠陥検査装置

ムラ可視化装置ＷＡＳＡＶＩｼﾘｰｽﾞＭＲ３００


ﾏｽｸﾌﾞﾗﾝｸｽ製造マスク製造

カラーフィルタ製造工程

アレイ製造工程

セル工程ﾓｼﾞｭｰﾙ工程

ﾊﾟﾀｰﾝ設計

大型フォトマスク基板欠陥検査装置 LB

大型フォトマスク欠陥検査装置ＬＩ(第１０世代用）

ペリクル検査・貼り付けシステム PA/PP

液晶用ＴＦＴ・カラーフィルタ修正装置ＲＡＧＮＡＳシリーズ

ＬＣＤカラーフィルタ/ＴＦＴ欠陥検査装置

ｶﾗｰﾌｨﾙﾀ用ガラス

液晶パネル製造工程における当社の主力装置

マスク関連製品パネル関連製品

アレイ用ガラス


主要製品の市場ポジションとお客様【半導体関連装置】

マスクブランクス検査装置

世界市場と当社シェア（2008年度当社推定）

製品別お客様；区分

２０～３０億円

主なお客様（敬称略、ＡＢＣ順）

100%

0%

当社他社合計

大日本印刷

Ｉｎｔｅｌ（米国）

ＭＰＭａｓｋ（米国）

Ｓａｍｓｕｎｇ（韓国）

凸版印刷

マスクメーカ

旭硝子

ＨＯＹＡ

信越化学工業

アルバック成膜

サブストレート／

マスクブランクスメーカ

マスク検査装置

ウェハ検査装置（WASAVIｼﾘｰｽﾞ）

ＮＥＷ

2007年～

2008年～

エルピーダメモリ

Ｐｏｗｅｒｃｈｉｐ（台湾）

Ｒｅｘｃｈｉｐ（台湾）


ＴＳＭＣ（台湾）

半導体デバイスメーカ；マスクの受入側での検査

30%

70%当社他社合計

１００億円

多くの大手半導体メーカ様より引き合い

半導体デバイスメーカ

今後の新市場


液晶用カラーフィルタ検査修正装置

液晶用大型マスク検査装置

２０～３０億円

５０～７０億円

世界市場と当社シェア（2008年度当社推定）

製品別お客様；区分

主なお客様（敬称略、ＡＢＣ順）

0%


40%


大日本印刷

ＨＯＹＡＬＧＭｉｃｒｏｎ(韓国）

ＰＫＬ（韓国）

エスケーエレクトロニクス

Ｓｕｐｅｒｍａｓｋ（中国）

凸版印刷

マスクメーカ

ＡＵＯ（台湾）

ＣＭＯ（台湾）

ＣＰＴ（台湾）

大日本印刷

ＬＧＤｉｓｐｌａｙ（韓国）


シャープ

凸版印刷

カラーフィルタメーカ

主要製品の市場ポジションとお客様【液晶関連装置】


本日の内容

会社概要

特長・強み



コア技術

光応用技術、精密機構、及び画像処理それぞれの技術とそれを融合し新しいものを創る技術

◆精密機構・高精度高速

ステージ技術・欠陥修正、異物除去

◆画像処理技術

・画像処理技術・欠陥検出技術

コア技術

◆光応用技術・共焦点光学系・ＤＵＶ光学系・光干渉計技術

光光


特長・強み

光応用技術をコアとした迅速な開発力光応用技術をコアとした迅速な開発力

自社では開発・試作に特化。量産工程は協力会社に委託。自社では開発・試作に特化。量産工程は協力会社に委託。

最速の製品化スピードとファブライト戦略

“最速の製品化スピード”

“ファブライト”


Ｍ７３６０欠陥検出画面；マスクブランクス上の欠陥深さ４．１ｎｍ、幅５７ｎｍ）

５７ｎｍ

Ｍ７３６０；SEMATECHとの共同開発

コア技術を活用した製品開発例

半導体微細化の進展を先取りした製品開発５７ｎｍ＝

髪の毛１本の太さの１／１２５０


マスク面積が拡大しても、感度アップと検査時間短縮を実現

検査装置の心臓部；光学系

ＬＩ７１２欠陥検出画面；液晶用フォトマスク上の欠陥（０．３μｍ）

ＬＩ７１２

コア技術を活用した製品開発例急速に進む液晶パネルの大型化への対応

５７型ＴＶ８面取り

第１０世代

ｍｍ

参考；液晶ｶﾗｰﾌｨﾙﾀｰ第１０世代2850ｘ3050ｍｍ


本日の内容

会社概要

特長・強み



ビジョン

お客様の目線で考え、お客様と社会に貢献

理念

ビジョンミッション

世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる

光技術の分野で、どこよりも早くソリューションを提供し

社会に貢献する

世界中のお客様から真っ先に声をかけて

いただける会社になる


今期の方針

原点（経営理念）は継承

強みを伸ばすために仕組みを革新し、

事業基盤を強化

厳しい市況は続くが、技術革新に伴う新たなニーズは益々高まっている強みを最大限に発揮し、お客様の課題を解決し、社会に貢献する

◆精密機構 ◆画像処理技術

◆光応用技術

光

ソリューションニーズ

コア技術


●コア技術を強化し、世界初・世界一の製品をどこよりも早く開発するために、

全社の開発部門を一元化し、開発リソースの最適配置と柔軟な対応で

１．既存分野の強化（次世代機開発）

２．既存分野の周辺領域への拡大、及び

３．新規事業の開拓を加速する・・・太陽電池関連他

具体的には

●財務体質を抜本的に強化する

⇒今期黒字化の実現。特に緊急経営対策の継続と、カラーフィルタ修正装置事業の立て直し


◆マスクブランクス検査装置・・・１００％シェア堅守と次世代機開発◆フォトマスク検査装置（２００６年発売・ﾃﾞﾊﾞｲｽﾒｰｶ向け）・・・２本目の柱に◆新規参入分野：ウェハ検査市場（２００７年ＷＡＳＡＶＩ発売）等・・・３本目の柱に

マスクブランクス検査

フォトマスク検査

ウェハ検査等

製品構成と売上のイメージ

２００５年２００７年２００９年

主力製品（１００％シェア堅守）

２本目の柱

３本目の柱

製品分野別戦略・・・半導体関連装置


◆大型マスク検査装置：１００％シェア堅守、機能強化◆大型マスク検査の前後の工程ソリューションを一気通貫で解決する

製品群の開発で、売上の底上げと事業基盤を拡大（２００８年発売）

◆カラーフィルタ修正装置：再設計による差別化

２００５年２００7年２００９年

大型マスク検査装置

マスク基板検査装置

ﾍﾟﾘｸﾙ検査貼付ｼｽﾃﾑ

新製品

製品構成と売上のイメージ

主力製品

新製品

製品分野別戦略・・・液晶関連装置

カラーフィルタ修正装置


今期の製品イメージ


半導体ﾏｽｸﾌﾞﾗﾝｸｽ・

ﾏｽｸ検査

Ｎｅｗ太陽電池関連装置

液晶ﾏｽｸ検査・

ＣＦ修正装置

ＮｅｗWASAVI

ｳｪｰﾊ検査

既存分野（半導体、液晶、レーザー顕微鏡）の強化とともに、新規製品開発を強化

Ｎｅｗﾏｽｸ

関連装置

Ｎｅｗ


２００９年７月２日

レーザーテック株式会社

代表取締役社長岡林理（６９２０ＪＡＳＤＡＱ）

ご清聴有難うございました


・レーザーテック株式会社

企画ＩＲ室長今井哲也

・ＴＥＬ０４５－４７８－７１２７(代）

・ＭＡＩＬ tetsuya.imai＠Lasertec.co.jp

お問い合わせ先

本資料は、発表日現在において入手可能な情報に基づき作成したものであります実際の業績等は今後の様々な要因により、異なる可能性があることをご承知おきください

ご参考；今後のＩＲスケジュール

８月１０日（月）２００９年６月期（第４７期）決算発表

８月１９日（水）２００９年６月期機関投資家・アナリスト向け決算説明会

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