agilent icp-ms メソッドによる 幅広い汚染物質の測定2 2020 年10 月 - 第 82...

8
1. Agilent 7900 ICP-MS Agilent 1260 HPLC わせアジレントが提供する統合スペシエーションシステムのAgilent ICP-MS ジャーナル 2020 10 - 82 Agilent ICP-MS メソッドによる 幅広汚染物質測定 ICP-MS 、多様なサンプル汚染物質正確測定できる分析法として幅広業界 使用されています。今号Agilent ICP-MS ジャーナルではまったく なる 2 つの ICP-MS アプリケーションをしてそのれた分析性能具体的紹介します米国 Consci のアプリケーションをげた記事ではガリウムヒをはじめとする 化合物半導体製造いられる前駆体であるアルシンAsH 3 )中微量水素化物 ガス汚染物質測定するしい GC-ICP-QQQ メソッドについて説明します乳児用米シリアル無機分析法として FDA たにめた HPLC ICP-MS わせたメソッドにする記事では、食品中汚染物質のモニタリングについてします先日、アジレント主催のオンラインウェビナーシリーズが日本半導体業界ICP-QQQ ユーザーを対象開催されました。一連のウェビナーでは、有機溶媒中微量塩素ppq 濃度まれる粒径 15 nm までのナノ粒子分析などのトピックがげられました1 ページ Agilent ICP-MS メソッドによる 幅広汚染物質測定 2-3 ページ GC-ICP-QQQ メソッドによるIII-V 族化合物半導体製造いられるアルシンガス微量汚染物質測定 4-5 ページ 乳児用米シリアル無機してたに承認された米国 FDA 許容限度測定HPLC-ICP-MS がサポート 6 ページ アジレント主催半導体ユーザー けライブウェビナーで ICP-QQQ いた最新ソリューションを紹介 7 ページ ICP メソッドのデータ品質向上するウェビナーシリーズの 要約記事 8 ページ ICP-MS/MS いた硫黄分析する Spectroscopy 掲載記事、 最新Agilent ICP-MS 関連資料

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1. Agilent 7900 ICP-MS Agilent 1260 HPLC
Agilent ICP-MS
Agilent ICP-MS ICP-MS Agilent ICP-MS 2 ICP-MS
Consci AsH3 GC-ICP-QQQ
FDA HPLC ICP-MS
ICP-QQQ ppq 15 nm
1 Agilent ICP-MS
2-3 GC-ICP-QQQ III-V
4-5 FDA HPLC-ICP-MS
6 ICP-QQQ
7 ICP
8 ICP-MS/MS Spectroscopy Agilent ICP-MS
2
GC-ICP-QQQ III-V William M. Geiger1, Blake McElmurry1, Jesus Anguiano1, Mark Kelinske2. 1Consci, Ltd., Pasadena, Texas, USA, 2Agilent Technologies Inc.

Si Si 1 III V III-V III-V AlGa InIII NPAs SbV GaAs AlGaAsInGaAsN AsH3
III-V Si III-V HEMTFET
III-V 1 Si LED VCSEL III-V
LED * LED 3 4 III-V PV
*
1. LED

SiPSGe n III-V SiH4PH3H2S GeH4 SbH3H2SeSnH4
3
GeH4 1 ppb GC ICP-MS ppb GeH4


2 SiH4PH3H2S GeH4 24 ppb 1

GC-ICP-QQQ ppbv SiH4PH3H2S GeH4 GC 1 1
H2 O2 MS/MS 8900 ICP- QQQ 1 DL


16 17 19


18
1
1. GC-ICP-QQQ SiH4GeH4PH3 H2S


2020 8 FDA iAs1 iAs 100 µg/kgppb 2016 4 iAs cGMP

As 1As
As

As As As IIIAs V MMADMA As(III) FDA iAs As
As
FDA As As 100 ppb As iAs FDA EAM 4.112HPLC-ICP-MS iAs As(III) As(V)
As iAs iAs iAs 100 ppb 402 (a)(1) 1
Agilent HPLC-ICP-MS
Agilent ICP-MS ICP-QQQ Agilent HPLC ICP-MS MassHunter
Agilent HPLC-ICP-MS EAM 4.11 31 As(III) As(V) 4 As 34 HPLC 4 As ICP-MS 1
2020 10 - 82
5
1. Agilent HPLC-ICP-MS 5 As 4
2. HPLC-ICP-MS As(III) As(V)
HPLC-ICP-MS LOD LOQ %RSD
Agilent HPLC-ICP-MS iAs 56 As(III) H2O2 As(V) iAsAs(III) As(V) As(V) 2 EAM 4.11 10 HPLC-ICP-MS EAM 4.11 LOD LOQ 2 2 iAs FDA 100 ppb
ND =

1. US FDA, Guidance for Industry: Action Level for Inorganic Arsenic in Rice Cereals for Infants, accessed Sept. 2020
2. US FDA EAM 4.11 Arsenic Speciation in Rice and Rice Products Using HPLC-ICP-MS, accessed Sept. 2020
3. R. Juskelis, W. Li, J. Nelson, J. C. Cappozzo, J. Agric. Food Chem. 2013, 61, 45, 10670–10676
4. R. Juskelis, J. Cappozzo, J. Nelson, Agilent publication, 5991-2568EN
5. P. J. Gray, C. K. Tanabe, S. E. Ebeler, J. Nelson, J. Anal. At.Spectrom., 2017, 32, 1031-1034
6. C. K. Tanabe, S. E. Ebeler, J. Nelson, Agilent publication, 5991-9488EN
2020 10 - 82
1. 6 As HPLC-ICP-MS 2 μg/kgppb6

A_2 11.2 ND 62.3
B_2 14.9 ND 56.4
C_2 36.0 ND 113.5
D_2 15.1 ND 103.6
E_2 39.0 2.3 82.1
F_2 46.7 9.0 90.4
6

Agilent ICP-MS 78 1
2020 ICP-MS 9 10 2
ICP-QQQ
1
• Single Particle ICP-MS Fe
2
• ICP-QQQ
ICP-MS 1 ICP-MS ppq 15 nm Fe3O4 ICP-QQQ
ICP-MS ICP-QQQ Cl ICP-MS ICP-MS/MS
ICP-OES ICP-MS2Agilent GC/MS LC TOF
1. Agilent ICP-MS Journal issue 78, 2019, Agilent publication 5994-1490EN
2. Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing, 5991-9495EN
ICP Ed McCurdy and Ross Ashdown, Agilent Technologies, Inc.
ICP Q&A Q&A

Spectroscopy
1. 1 ICP-OES ICP- MS
ICP-OES HCl Ag Hg ICP-MS 1
2. 2 ICP QC CRM
IntelliQuant Neb Alert ICP-MS
3. ICP IntelliQuant
ICP-MS As Se ICP-MS ICP-MS ICP-MS/MS

ICP-MS/MS Spectroscopy
Spectroscopy ICP-OES and ICP-MS Techniques for Today s Spectroscopists 2020 9 ICP-MS Ed McCurdyGlenn WoodsBastian Georg Accurate, Low-Level Sulfur Analysis by ICP-MS Using MS/MS with Oxygen Reaction Cell GasMS/ MS ICP-MS
ICP-MS ICP-MS ICP-MS/MS
MS/MS SO+ 31P 32S16O+
MS/MS 1 u 34S16O+ 32S18O+ MS/MS 34S 32S
https://www.spectroscopyonline.com/view/accurate-low- level-sulfur-analysis-by-icp-ms-using-ms-ms-with-oxygen-reaction-cell-gas
PDF https://cdn.sanity.io/files/0vv8moc6/spectroscopy/ceb db01a7c434e23e03df6b00fd1ce73e0db6ab6.pdf
Agilent ICP-MS
• Characterization of Rare Earth Elements used for Radiolabeling Applications by ICP-QQQ: Analysis of gadolinium (III) oxide and terbium using ICP-MS/MS with oxygen cell gas, 5994-2389EN • Determination of Trace Impurities in Electronic Grade Arsine by GC-ICP-QQQ: Sub-ppb detection limits for hydride gas contaminants using a single column, single injection volume, and multi-tune method, 5994-2213EN
www.agilent.com/chem/jp

© Agilent Technologies, Inc. 2020 Printed in Japan, October 15, 2020 5994-2433JAJP DE.2438773148