直流コロナ放電照射による水中のros生成...直流コロナ放電照射による水中のros生成...
TRANSCRIPT
直流コロナ放電照射による水中のROS生成Generation of ROS in water by DC corona discharge exposure
○杉山豪 佐藤孝紀 伊藤秀範 川口 秀樹 (室蘭工業大学)
Igor Timoshkin Martin Given Scott Macgregor (ストラスクライド大学)
○Tsuyoshi Sugiyama, Kohki Satoh, Hidenori Itoh and Hideki Kawaguchi (Muroran Institute of Technology)
Igor Timoshkin, Martin Given and Scott MacGregor (Univ. of Strathclyde)
2015年春季 第62回応用物理学会学術講演会2015年3月11日(水) 東海大学 湘南キャンパス
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
8.7 プラズマ現象・新応用・融合分野11p-A28-13
背景
放電プラズマを水に照射して生成されるプラズマ照射水が注目
気相中で生成された活性な種が水中に存在[3]
活性酸素種 : O3,H2O2,OH,HO2 …
活性窒素種 : NO2,N2O3,HNO3 …
プラズマ照射水
解明されていないことが極めて多い• 活性な種が水へ溶け込む際の反応• 生体との相互作用
Water
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
[1]長岡技術科学大学:研究室ガイドブック[2]東海大学:研究シーズ集[3]浜口 : J. Plasma Fusion Res. 87, 10 (2011) 696
[1] [2]
背景および目的
水上コロナ放電による活性な種の生成特性の調査
目的
バックグラウンドガスの組成・混合割合による影響
植物の生長促進
高木[1] ・・・ パルス放電を照射した水をコマツナに与えることで生長が促進水中のNO3
-が生長促進に寄与することを報告殺菌・滅菌
佐藤ら[2] ・・・ アルゴンプラズマ流を照射した水に活性酸素が生成
照射水を大腸菌の不活化に応用できることを報告
プラズマ照射水に関する先行研究
活性な種の種類と濃度を適切にコントロールすることが求められる
[1]高木: J. HTSJ, 51, 216 (2012) 64
[2]佐藤ら :日本機械学会熱工学コンファレンス 講演予稿集 NO. 09-33 (2009)
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実験装置および実験条件
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
15 mm aluminium foil
Water
• 印加電圧: 14.7 ~ 15.4 kV
• 放電電流: 0.39 ~ 0.41 mA
• 注入電力: 6 W
• 放電照射時間 : 15 min
ガス混合比(流量比) :Ar/O2 = 40/60 , 60/40 , 80/20
N2/O2 = 40/60 , 60/40
ガス流量 : 2.0 L/min
Water櫛歯を4 mm間隔で13本→2列配置してClusterを構成
4ヵ所に配置
15 mm
• 印加電圧: 14.7 ~ 15.4 kV
• 放電電流: 0.39 ~ 0.41 mA
• 注入電力: 6 W
• 放電照射時間 : 15 min
1.6 mm
15 mm
43.6°
実験装置および実験条件
ガス混合比(流量比) :Ar/O2 = 40/60 , 60/40 , 80/20
N2/O2 = 40/60 , 60/40
ガス流量 : 2.0 L/min
aluminium foil
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
Water
実験装置および実験条件
• 印加電圧: 14.7 ~ 15.4 kV
• 放電電流: 0.39 ~ 0.41 mA
• 注入電力: 6 W
• 放電照射時間 : 15 min
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
ガス混合比(流量比) :Ar/O2 = 40/60 , 60/40 , 80/20
N2/O2 = 40/60 , 60/40
ガス流量 : 2.0 L/min
実験装置および実験条件
• 印加電圧: 14.7 ~ 15.4 kV
• 放電電流: 0.39 ~ 0.41 mA
• 注入電力: 6 W
• 放電照射時間 : 15 min
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
ガス混合比(流量比) :Ar/O2 = 40/60 , 60/40 , 80/20
N2/O2 = 40/60 , 60/40
ガス流量 : 2.0 L/min
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
• Ar-O2混合ガス中H2O2のみ検出
• N2-O2混合ガス中H2O2,NO2
-,NO3-が検出
15x103
10
5
0
inte
nsi
ty [
a.u
.]
109876543210retention time [min]
Ar-O2 atmosphere
N2-O2 atmosphere
H2O2
NO2
-
NO3
-
H2O2
照射水のクロマトグラム
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30
25
20
15
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5
0
con
cen
trat
ion
[p
pm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
Ar:O2
40:60
60:40
80:20
30
25
20
15
10
5
0co
nce
trat
ion [
pp
m]
6000400020000
input energy [J]
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion
[p
pm
]
6000400020000
input energy [J]
生成物の濃度変化
H2O2 NO2- NO3
-
H2O2,NO3- : 注入エネルギーの増加に伴い増加の傾向
NO2- : 極めて低濃度
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H2O2の生成過程
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
Ar:O2
40:60
60:40
80:20
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H2O2の生成過程
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
Ar:O2
40:60
60:40
80:20
ArおよびN2の混合割合増加
H2O2濃度増加
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H2O2の生成過程
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
Ar:O2
40:60
60:40
80:20
ArおよびN2の混合割合増加
H2O2濃度増加
H2O2の生成
H2O + e(fast) → OH + H + e(slow)
OH + OH → H2O2
O3 + H2O → H2O2 + O2
H2O2の生成過程
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
Ar:O2
40:60
60:40
80:20
500
400
300
200
100
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
O3
ArおよびN2の混合割合増加
H2O2濃度増加
H2O2の生成
H2O + e(fast) → OH + H + e(slow)
OH + OH → H2O2
O3 + H2O → H2O2 + O2
H2O2の生成過程
ArおよびN2の混合割合増加
H2O2濃度増加
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
Ar:O2
40:60
60:40
80:20
500
400
300
200
100
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
O3
O3濃度は混合割合によらず同程度
OHによる生成が主
H2O2の生成
H2O + e(fast) → OH + H + e(slow)
OH + OH → H2O2
O3 + H2O → H2O2 + O2
H2O2の生成過程
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
Ar:O2
40:60
60:40
80:20
Ar:O2 N2:O2
60:40
40:6040:60
60:40
80:20
Ar:O2 N2:O2
60:40
40:6040:60
60:40
80:20
H2O2の生成過程
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
Ar:O2
40:60
60:40
80:20
放電の広がりを確認
OHの生成が促進
H2O2濃度増加
H2O + e (fast) → OH + H + e(slow)
OH + OH → H2O2
ArおよびN2の混合割合を増加
Ar:O2 N2:O2
60:40
40:6040:60
60:40
80:20
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
Ar:O2
40:60
60:40
80:20
H2O2の生成過程
放電の発光が強い
OHが多く生成されるはず
N2-O2混合ガス中
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
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Ar:O2
40:60
60:40
80:20
H2O2の生成過程
放電の発光が強い
OHが多く生成されるはず
H2O2濃度がAr-O2中のものより低下
NO3-が生成される過程でOHが消費
N2-O2混合ガス中
Ar:O2 N2:O2
60:40
40:6040:60
60:40
80:20
NO2 + OH → HNO3
1.6
1.2
0.8
0.4
0
abso
rban
ce [
a.u.]
2300 2100 1900 1700 1500 1300 1100 900
wavenumber [cm-1
]
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
NO3-
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NO3-の生成過程
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
NO3-
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NO3-の生成過程
O3 O3H2O1.6
1.2
0.8
0.4
0
abso
rban
ce [
a.u.]
2300 2100 1900 1700 1500 1300 1100 900
wavenumber [cm-1
]
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
NO3-
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NO3-の生成過程
O3 O3H2O
HNO3 → NO3- + H+ (in water)
HNO3の生成
NO2 + OH → HNO3
NO + HO2 → HNO3
N2O5 + H2O → 2HNO3
1.6
1.2
0.8
0.4
0
abso
rban
ce [
a.u.]
2300 2100 1900 1700 1500 1300 1100 900
wavenumber [cm-1
]
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
NO3-
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NO3-の生成過程
HNO3の生成
HNO3 → NO3- + H+ (in water)
1.6
1.2
0.8
0.4
0
abso
rban
ce [
a.u.]
2300 2100 1900 1700 1500 1300 1100 900
wavenumber [cm-1
]
NO NO2
N2O5
NO2 + OH → HNO3
NO + HO2 → HNO3
N2O5 + H2O → 2HNO3
30x10-3
20
10
0
-10ab
sorb
ance
[a.
u.]
2300 2250 2200 2150
wavenumber [cm-1
]
NO3-
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
NO3-の生成過程
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
HNO3の生成
HNO3 → NO3- + H+ (in water)
1.6
1.2
0.8
0.4
0
abso
rban
ce [
a.u.]
2300 2100 1900 1700 1500 1300 1100 900
wavenumber [cm-1
]
NO NO2
N2O5
NO2 + OH → HNO3
NO + HO2 → HNO3
N2O5 + H2O → 2HNO3
1.6
1.2
0.8
0.4
0
abso
rban
ce [
a.u.]
2300 2100 1900 1700 1500 1300 1100 900
wavenumber [cm-1
]
NO NO2
N2O5
30x10-3
20
10
0
-10ab
sorb
ance
[a.
u.]
2300 2250 2200 2150
wavenumber [cm-1
]
N2O
NO3-
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NO3-の生成過程
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
6 ppm
HNO3の生成
HNO3 → NO3- + H+ (in water)
NO2 + OH → HNO3
NO + HO2 → HNO3
N2O5 + H2O → 2HNO3
NO2 + OH → HNO3
NO + HO2 → HNO3
N2O5 + H2O → 2HNO3
1.6
1.2
0.8
0.4
0
abso
rban
ce [
a.u.]
2300 2100 1900 1700 1500 1300 1100 900
wavenumber [cm-1
]
NO NO2
N2O5
30x10-3
20
10
0
-10ab
sorb
ance
[a.
u.]
2300 2250 2200 2150
wavenumber [cm-1
]
N2O
NO3-
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NO3-の生成過程
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
6 ppm
HNO3の生成
HNO3 → NO3- + H+ (in water)
N2Oの生成
NO2 + N → N2O + O
N2 + O + M → N2O + M
HNO + HNO → N2O + H2O
1.6
1.2
0.8
0.4
0
abso
rban
ce [
a.u.]
2300 2100 1900 1700 1500 1300 1100 900
wavenumber [cm-1
]
NO NO2
N2O5
30x10-3
20
10
0
-10ab
sorb
ance
[a.
u.]
2300 2250 2200 2150
wavenumber [cm-1
]
N2O
NO3-
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
NO3-の生成過程
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
6 ppm
HNO3の生成
NO2 + N → N2O + O
N2 + O + M → N2O + M
HNO + HNO → N2O + H2O
N2Oの生成
HNO3 → NO3- + H+ (in water)
NO2 + OH → HNO3
NO + HO2 → HNO3
N2O5 + H2O → 2HNO3
1.6
1.2
0.8
0.4
0
abso
rban
ce [
a.u.]
2300 2100 1900 1700 1500 1300 1100 900
wavenumber [cm-1
]
NO NO2
N2O5
30x10-3
20
10
0
-10ab
sorb
ance
[a.
u.]
2300 2250 2200 2150
wavenumber [cm-1
]
N2O
NO3-
NO3-の生成過程
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
N2:O2
40:60
60:40
6 ppm
HNO3の生成
NO2 + N → N2O + O
N2 + O + M → N2O + M
HNO + HNO → N2O + H2O
N2Oの生成
NO2が気相中に存在し,NO3-の生成に寄与
HNO3 → NO3- + H+ (in water)
NO2 + OH → HNO3
NO + HO2 → HNO3
N2O5 + H2O → 2HNO3
まとめ
水上で直流コロナ放電を発生させ,水中のH2O2,NO2-およびNO3
-濃度を測定し,これらの生成特性を調査した
ArおよびN2の混合割合を増加させることで水面に対して放電が広がり,OH
の生成が促進され,これによって水中のH2O2濃度が増加した
N2-O2混合ガス中で放電を発生させると気相中にN2Oが生成されるため,NO2も存在し,NO3
-の生成に寄与していると考えられる
H2O2およびNO3-の生成過程の一部についてその可能性を検討した。今後,
定量性を考えながら生成過程を解明していく
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H2O + e(fast) → OH + H + e(slow)
OH + OH → H2O2
NO2 + OH → HNO3
HNO3 → NO3- + H+ (in water)
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
HPLCおよびカラム
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
Shodex IC NI – 424
構造:多孔性
形状:球
官能基:第四級アンモニウム基
カラムHPLC
CH3COOH(3.0 mmol/L)
溶離液: +
KOH(2.25 mmol/L)
pH = 5.0
検出器:UV(at 220 nm)
生成効率
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
800
600
400
200
0
gen
erat
ion e
ffic
iency
[
g/W
h]
6000400020000
input energy [J]
Ar:O2
40:60
60:40
80:20
N2:O2
40:60
60:40
200
150
100
50
0gen
erat
ion e
ffic
iency
[
g/W
h]
6000400020000
input energy [J]
1400
1200
1000
800
600
400
200
0
gen
erat
ion e
ffic
iency
[
g/W
h]
6000400020000
input energy [J]
H2O2 NO2- NO3
-
生成効率
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
800
600
400
200
0
gen
erat
ion e
ffic
iency
[
g/W
h]
6000400020000
input energy [J]
Ar:O2
40:60
60:40
80:20
N2:O2
40:60
60:40
200
150
100
50
0gen
erat
ion e
ffic
iency
[
g/W
h]
6000400020000
input energy [J]
1400
1200
1000
800
600
400
200
0
gen
erat
ion e
ffic
iency
[
g/W
h]
6000400020000
input energy [J]
H2O2 NO2- NO3
-
生成効率[μg/Wh] =生成物の濃度[ppm]×水量[mL]
注入電力[W]×3600[s]
放電写真(負極性)
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
40:60
60:40
40:60
60:40
Ar : O2N2 : O2
各ガス組成において形状の変化は見られない
生成物の濃度変化(負極性)
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
Negative
40:60
60:40
Positive
40:60
60:40
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
30
25
20
15
10
5
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
10
8
6
4
2
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
Negative
40:60
60:40
Positive
40:60
60:40
80:20
H2O2 NO2- NO3
-
全てのガス組成において生成物の濃度が低下Ar:O2
N2:O2
O3濃度変化(負極性)
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
500
400
300
200
100
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
Negative
40:60
60:40
Positive
40:60
60:40
80:20
500
400
300
200
100
0
con
cen
trat
ion [
ppm
]
6000400020000
input energy [J]
Positive
40:60
60:40
Negative
40:60
60:40
Ar:O2 N2:O2
1400
1200
1000
800
600
400
200
0
gen
erat
ion e
ffic
iency
[
g/W
h]
6000400020000
input energy [J]
200
150
100
50
0
gen
erat
ion e
ffic
iency
[
g/W
h]
6000400020000
input energy [J]
800
600
400
200
0
gen
erat
ion e
ffic
iency
[
g/W
h]
6000400020000
input energy [J]
Negative
40:60
60:40
Positive
40:60
60:40
800
600
400
200
0
gen
erat
ion e
ffic
iency
[
g/W
h]
6000400020000
input energy [J]
Negative
40:60
60:40
Positive
40:60
60:40
80:20
生成物の濃度変化(負極性)
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
H2O2 NO2- NO3
-
全てのガス組成において生成効率が低下Ar:O2
N2:O2