パックトベッド放電によるバイオガスの改質 -...
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平成25年 プラズマ・パルスパワー・放電合同研究会平成25年5月17日(金) まちなかキャンパス長岡 301号室
パックトベッド放電によるバイオガスの改質
高橋一弘* 佐藤孝紀 伊藤秀範 (室蘭工業大学)
Kazuhiro Takahashi*, Kohki Satoh and Hidenori Itoh (Muroran Institute of Technology)
Plasma reforming of an artificial biogas by
a packed-bed dielectric barrier discharge
PST-13-065
PPT-13-050
ED-13-055
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
In CH4 /CO2 = 60/40%, Vmax = 8kV,f = 17kHz, Packing material: glass, exposure time T =1s
バイオマス
(家畜排せつ物など)
バイオガスCH4 : 約60 %
CO2 : 約40 %
H2S : 1000 ~ 5000 ppm
メタン発酵
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
背景
水蒸気改質 : 脱硫,メタン精製,水蒸気改質
放電改質 : 直接改質(水素生成,H2S分解)
バイオガスの改質による水素生成
水素の生成法
炭化水素(化石燃料)の水蒸気改質,水の電気分解,バイオガスの改質
地球温暖化問題の対策(カーボンニュートラル,クリーンエネルギー源の利用)
水素の利用(燃料電池,水素エンジンなど)
[1] Y. Zhang et al. : Fuel Processing Technology, 83, 101 (2003) [2] L. M. Zhou et al.:Energy & Fuels, 12, 6, 1191 (1998)
Zhang et al.[1] : 誘電体バリア放電を用いてCH4-CO2混合ガスを分解し,CH4/CO2比および
作用エネルギー密度の変化に対するCH4およびCO2の分解率,生成物の
選択率を調査
Zhou et al.[2] : 誘電体バリア放電を用いてCH4-CO2混合ガスを分解し,CH4/CO2比,圧力
などの変化に対するCH4およびCO2の分解率,H2/CO比などを調査
バイオガスの放電改質に関する研究
パックトベッド放電を用いたワンパス処理および循環処理による模擬バイオガスの放電改質
赤外吸収分光分析,ガスクロマトグラフィーおよびガスクロマトグラフィー質量分析による生成物の詳細な調査
H2Sの有無がバイオガスの放電改質に与える影響の調査
放電プラズマを用いてCH4-CO2-H2Sを混合した模擬バイオガスを分解したときのバイオガスの分解特性を明らかにする
目的
H2Sを含むバイオガスの放電改質に関する研究はない
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
先行研究および本研究の目的
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
1. ワンパス処理による模擬バイオガスの放電改質
ガス混合比: CH4/CO2 = 60/40%
H2S初期濃度: 2000 ppm
ガス流量: 0.1 L/min
ガス純度: CH4(99.0%), CO2(99.5%)
ネオン変圧器
印加電圧: AC 8 kVp-p
周波数: 17 kHz
放電電力 : 35 W
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
実験装置および実験条件
rod(f 2 mm)
TiO2 (f 3mm)
glass tube mesh
100 mm
ガス混合比: CH4/CO2 = 60/40%
H2S初期濃度: 2000 ppm
ガス流量: 0.1 L/min
ガス純度: CH4(99.0%), CO2(99.5%)
印加電圧: AC 8 kVp-p
周波数: 17 kHz
放電電力 : 35 W
-8
-4
0
4
8
volt
age
[kV
]
200150100500time [s]
mesh rod
ネオン変圧器
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
実験装置および実験条件
rod(f 2 mm)
TiO2 (f 3mm)
glass tube mesh
100 mm
ガス混合比: CH4/CO2 = 60/40%
H2S初期濃度: 2000 ppm
ガス流量: 0.1 L/min
ガス純度: CH4(99.0%), CO2(99.5%)
印加電圧: AC 8 kVp-p
周波数: 17 kHz
放電電力 : 35 W
-8
-4
0
4
8
volt
age
[kV
]
200150100500time [s]
mesh rod
rod(f 2 mm)
TiO2 (f 3mm)
glass tube mesh
ネオン変圧器
microsyringe
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
実験装置および実験条件
100 mm
3.0
2.5
2.0
1.5
1.0
0.5
0.0
abso
rban
ce [
a.u.]
750 740 730 720 710 700wavenumber [cm
-1 ]
6.0
5.0
4.0
3.0
2.0
1.0
0.0
abso
rban
ce [
a.u
.]
3500 3000 2500 2000 1500 1000 500
wavenumber [cm-1
]
without discharge
CH4CO2
CH4
CO2
放電前のガスの吸光度スペクトル
3.0
2.5
2.0
1.5
1.0
0.5
0.0
abso
rban
ce [
a.u.]
750 740 730 720 710 700wavenumber [cm
-1 ]
6.0
5.0
4.0
3.0
2.0
1.0
0.0
abso
rban
ce [
a.u
.]
3500 3000 2500 2000 1500 1000 500
wavenumber [cm-1
]
without discharge with discharge
C2H2
C2H6, C3H8,
HCHO
CO
C3H8
HCHO,
CH3CHO,
(CH3)2CO
C2H6
CH3OH,
C2H5OH
C2H4
C2H2
C2H2
模擬バイオガスの分解によってCO,
C2H2, C2H4, C2H6, C3H8, HCHO,
CH3CHO, (CH3)2CO, CH3OH,
C2H5OH, COSが生成される
放電前後のガスの吸光度スペクトル
COS
8x105
6
4
2
0
inte
nsi
ty [
a.u
.]
1098765432
retention time [min]
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
放電後のガスのクロマトグラム
8x105
6
4
2
0
inte
nsi
ty [
a.u
.]
1098765432
retention time [min]
放電後のガスのクロマトグラム
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
8x105
6
4
2
0
inte
nsi
ty [
a.u
.]
1098765432
retention time [min]
硫黄化合物 (10) : SO2, CS2, CH3SH, C2H5SH, (CH3)2CHSH, (CH3)2S,
CH3SC2H5, (C2H5)2S, CH3COSCH3, CH3COSC2H5
炭化水素(5) : CH3CCH, C3H8, (CH3)2CCH2, C4H10, C5H12
アルデヒド (4) : HCHO, CH3CHO, C2H5CHO, C3H7CHO
ケトン (4) : (CH3)2CO, CH3COC2H5, (C2H5)2CO, CH3COC3H7
アルコール (6) : CH3OH, C2H5OH, C3H7OH, C4H9OH, CH3CH(OH)CH3,
(CH3)2CHCH2OH
カルボン酸 (1) : CH3COOH
放電後のガスのクロマトグラム
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
concentration [%]
with H2S without H2S
H2 6.00 6.08
CO 3.36 4.20
C2H2 0.41 0.46
C2H4 0.47 0.35
C2H6 0.91 1.34
C3H8 0.23 0.24
HCHO 0.219 0.156
CH3CHO 0.092 0.090
CH3OH 0.035 0.053
C2H5OH 0.051 0.063
(CH3)2CO 0.069 0.068
H2Sの有無は生成物の濃度にほとんど影響を与えない
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
生成物の濃度
present workZhang et al.[1] Zhou et al.[2]
with H2S without H2S
Decomposition
rate [%]
CH4
11.7(60.0 53.0%)
12.5(60.0 52.5%)
63 30
CO2
11.0(40.0 35.6%)
9.4(40.0 36.2%)
36 22
H2S76.0
(2000 480ppm)― ― ―
H2 concentration [%] 6.00 6.08 38 13
H2 generation rate [%] 41.8 40.7 50 36
H2 generation
efficiency [g/kWh]0.86 0.85 1.11 0.70
分解されたCH4の約40%がH2に転化される
H2Sの有無はバイオガスの放電改質にほとんど影響を与えない
( ): concentrations with and without discharge
[1] Y. Zhang et al. : Fuel Processing Technology, 83, 101 (2003) [2] L. M. Zhou et al.:Energy & Fuels, 12, 6, 1191 (1998)
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
分解率および水素生成効率
110
105
100
95
tran
smit
tan
ce [
%]
3500 3000 2500 2000 1500 1000 500wavenumber [cm
-1]
1045 cm-1 -CH2-OH基(C-O伸縮振動,O-H面内変角振動) 1130 cm-1 -SOOR基(S=O伸縮振動)
2925 cm-1 -CH2-基(C-H伸縮振動) 2960 cm-1 -CH3基(C-H伸縮振動)
-CH2--CH3
-SOOR
-CH2-OH
3 mm
1 mm
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
堆積物の透過スペクトル
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
2. 循環処理による模擬バイオガスの放電改質-脱硫特性を中心として-
ガス混合比: CH4/CO2/N2 = 30/20/50, 0/20/80%
H2S初期濃度: 1500 ppm
ガス循環流量: 2.0 L/min MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
実験装置および実験条件
ネオン変圧器
印加電圧: AC 8 kVp-p
周波数: 17 kHz
放電電力 : 35 W
rod(f 2 mm)
TiO2 (f 3mm)
glass tube
mesh100 mm
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
H2Sの濃度変化
6
7
8
9
1000
H2S
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
CH4/CO2/N2 = 30/20/50 %
1500
疑似一次反応に沿わない
分解が遅くなる(> 6 kJ)
in CH4/CO2/N2 = 30/20/50%
6
7
8
9
1000
H2S
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
CH4/CO2/N2 = 30/20/50 %
CH4/CO2/N2 = 0/20/80 %
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
H2Sの濃度変化
疑似一次反応に沿って減少
減少割合が大きい
疑似一次反応に沿わない
分解が遅くなる(> 6 kJ)
in CH4/CO2/N2 = 30/20/50%
in CH4/CO2/N2 = 0/20/80%
1500
4.0
3.5
3.0
2.5
2.0
1.5
1.0
0.5
0.0
abso
rban
ce [
a.u
.]
3500 3000 2500 2000 1500 1000 500
wavenumber [cm-1
]
before discharge after discharge (15min, 32kJ)
2.0
1.6
1.2
0.8
0.4
0.0
abso
rban
ce [
a.u.]
740 730 720 710 700wavenumber [cm
-1 ]
C2H2,
HCN
C2H6
CO
C2H6
C2H6
C2H4
C2H2
C2H2
放電前後のガスの吸光度スペクトル in CH4/CO2/N2 = 30/20/50 %
HCN
COS
CO, C2H2, C2H4, C2H6, HCN,
COSが生成される
in CH4/CO2/N2 = 30/20/50%
4.0
3.5
3.0
2.5
2.0
1.5
1.0
0.5
0.0
abso
rban
ce [
a.u
.]
3500 3000 2500 2000 1500 1000 500
wavenumber [cm-1
]
before discharge after discharge (15min, 32kJ)
2.0
1.6
1.2
0.8
0.4
0.0
abso
rban
ce [
a.u.]
740 730 720 710 700wavenumber [cm
-1 ]
C2H2,
HCN
C2H6
CO
C2H6
C2H6
C2H4
C2H2
C2H2
放電前後のガスの吸光度スペクトル in CH4/CO2/N2 = 30/20/50 %
HCN
COS
in CH4/CO2/N2 = 0/20/80%
CO, SO2が生成される
CO, C2H2, C2H4, C2H6, HCN,
COSが生成される
in CH4/CO2/N2 = 30/20/50%
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
6x103
4
2
0
inte
nsi
ty [
a.u
.]
9.08.58.07.57.06.56.05.55.04.54.03.53.02.52.01.5
retention time [min]
m/z 47 (x0.4) 61 75 76 (x0.05) 94
放電15分後のガスのクロマトグラム in CH4/CO2/N2 = 30/20/50 %
メルカプタン類 (R-SH) : CH3SH, C2H5SH, C3H7SH, (CH3)2CHSH
スルフィド類 (R-S-R) : (CH3)2S, CH3SC2H5, (C2H5)2S, (CH3S)2
その他 : CS2
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
6x103
4
2
0
inte
nsi
ty [
a.u
.]
9.08.58.07.57.06.56.05.55.04.54.03.53.02.52.01.5
retention time [min]
m/z 47 (x0.4) 61 75 76 (x0.05) 94
CH3SH
C2H5SH
(CH3)2SCS2
(CH3)2CHSH
CH3SC2H5
C3H7SH
(C2H5)2S(CH3S)2
放電15分後のガスのクロマトグラム in CH4/CO2/N2 = 30/20/50 %
5
6
7
8
9
1000
H2S
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
CH4/CO2/N2 = 30/20/50 %
CH4/CO2/N2 = 0/20/80 %
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
H2Sおよび生成物の濃度またはピーク面積値
800
600
400
200
0
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
SO2
3000
2500
2000
1500
1000
500
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
CS2
1500
760
980530
800
600
400
200
0
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
SO2
3000
2500
2000
1500
1000
500
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
CS2
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
H2Sおよび生成物の濃度またはピーク面積値
模擬バイオガス(CH4/CO2/N2 = 30/20/50%)中の生成物
300
250
200
150
100
50
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
CH3SH
C2H5SH(x0.2)
C3H7SH
(CH3)2CHSH
メルカプタン類 (R-SH)
600
500
400
300
200
100
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
(CH3)2S
CH3SC2H5
(C2H5)2S
(CH3S)2
スルフィド類 (R-S-R)
760
980530
1500
5
6
7
8
9
1000
H2S
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
CH4/CO2/N2 = 30/20/50 %
CH4/CO2/N2 = 0/20/80 %
800
600
400
200
0
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
SO2
3000
2500
2000
1500
1000
500
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
CS2
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
H2Sおよび生成物の濃度またはピーク面積値
① H2S + e→ HS・ + H・② CH4 + e→ CH3・ + H・
プラズマ中の電子による分解模擬バイオガス(CH4/CO2/N2 = 30/20/50%)中の生成物
300
250
200
150
100
50
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
CH3SH
C2H5SH(x0.2)
C3H7SH
(CH3)2CHSH
メルカプタン類 (R-SH)
600
500
400
300
200
100
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
(CH3)2S
CH3SC2H5
(C2H5)2S
(CH3S)2
スルフィド類 (R-S-R)
R-SH, R-S-Rの生成
760
980530
1500
5
6
7
8
9
1000
H2S
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
CH4/CO2/N2 = 30/20/50 %
CH4/CO2/N2 = 0/20/80 %
800
600
400
200
0
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
SO2
3000
2500
2000
1500
1000
500
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
CS2
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
H2Sおよび生成物の濃度またはピーク面積値
① H2S + e→ HS・ + H・② CH4 + e→ CH3・ + H・
プラズマ中の電子による分解
③ H・ + HS・→ H2S
④ H・ + R-SH → H2S + R・
H・によるH2Sの再合成
模擬バイオガス(CH4/CO2/N2 = 30/20/50%)中の生成物
300
250
200
150
100
50
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
CH3SH
C2H5SH(x0.2)
C3H7SH
(CH3)2CHSH
メルカプタン類 (R-SH)
600
500
400
300
200
100
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
(CH3)2S
CH3SC2H5
(C2H5)2S
(CH3S)2
スルフィド類 (R-S-R)
R-SH, R-S-Rの生成
H2Sの生成
760
980530
1500
5
6
7
8
9
1000
H2S
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
CH4/CO2/N2 = 30/20/50 %
CH4/CO2/N2 = 0/20/80 %
800
600
400
200
0
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
SO2
3000
2500
2000
1500
1000
500
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
CS2
MURORAN INSTITUTEOF TECHNOLOGY
H2Sおよび生成物の濃度またはピーク面積値
① H2S + e→ HS・ + H・② CH4 + e→ CH3・ + H・
プラズマ中の電子による分解
③ H・ + HS・→ H2S
④ H・ + R-SH → H2S + R・
H・によるH2Sの再合成
模擬バイオガス(CH4/CO2/N2 = 30/20/50%)中の生成物
300
250
200
150
100
50
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
CH3SH
C2H5SH(x0.2)
C3H7SH
(CH3)2CHSH
メルカプタン類 (R-SH)
600
500
400
300
200
100
0
Pea
k a
rea
403020100energy [kJ]
(CH3)2S
CH3SC2H5
(C2H5)2S
(CH3S)2
スルフィド類 (R-S-R)
R-SH, R-S-Rの生成
H2Sの生成
760
980530
1500
5
6
7
8
9
1000
H2S
conce
ntr
atio
n [
ppm
]
403020100energy [kJ]
CH4/CO2/N2 = 30/20/50 %
CH4/CO2/N2 = 0/20/80 %
ワンパス処理による模擬バイオガスの放電改質
模擬バイオガスの分解によりH2, CO, 炭化水素,アルデヒド類,ケトン類,カルボン酸類,アルコール類および有機硫黄化合物が計35種生成される
H2Sに含まれる硫黄原子は,CS2, SO2, CH3SHなどの気相中の生成物に転化されるとともに充填材や電極などに堆積する
H2Sの有無はバイオガスの放電改質にほとんど影響を与えない
循環処理による模擬バイオガスの放電改質
H2Sの再合成反応によって,見かけ上の分解が抑制されると考えられる
CO2-N2混合ガス中のH2S濃度は,模擬バイオガス中よりも減少しやすく,分解されたH2Sの約70%がSO2に転化される
CH4, CO2およびH2Sを混合した模擬バイオガスをパックトベッド放電を
用いてワンパス処理および循環処理したときの生成物の種類およびH2Sが模擬バイオガスの放電改質に与える影響を調査した
まとめ
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