vts 軟板薄膜濺鍍輪設備
DESCRIPTION
VTS 軟板薄膜濺鍍輪設備. VTS 軟板薄膜濺鍍滾輪設備 介 紹. VTS ’ s 軟板薄膜濺鍍 滾輪系統設備可依據客戶個別規格需求轉換設計為工業製品 . 呈現在這份手冊中這套系統 , 讓使用者能使用現行科技元件研發程序 , 進行生產 . VTS ’s 多層高真空網狀 / 滾輪系統設備設計為鍍 Polyimide Film, Mylar, foil 和其他薄膜塑膠或金屬材料可以儲存在連續捲狀滾輪型態 . 典型的製程在高真空槍膛含括濺鍍源頭 , 電子光束槍 , 熱源 , 基板溫度 , 離子束源與電漿製程條. AWC-550 濺鍍滾輪設備 - PowerPoint PPT PresentationTRANSCRIPT
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VTS
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VTSs .
, , .
VTSs / Polyimide Film, Mylar, foil . , , , , .
VTS
-
AWC-550 AWC-550, , .
--, , , , / 4DC 3 (PET, PI, etc.) . 380mm
up to 550 mm 25 to 200
0.1 to 5 M/min
-
VTS /
, , ,
- I.e.100%
(0.1-5mTorr)
Current Density Distribution Profile
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DC Power vs Deposition RatePosition vs Deposition Profile/min VTS /
, , ,
(0.8- 5mTorr)
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VTS FCCL
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VTS FCCL polyimide polyimide ATEC Polyimide
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VTS FCCL polyimide Low Current DensityHigh Current DensityATEC Polyimide
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VTS FCCL PMDAODA ., PMDA-ODA polyimideO 1s, N 1s, and C 1sXPS (eV) (eV) , PMDA-ODA polyimideO 1s, N 1s, and C 1sXPS polyimide XPS
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VTS FCCL polyimide SAM By Gas A + C By Gas ABy Gas CRaw Film
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VTS FCCL Polyimide
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VTS FCCL & (150, 168h)
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By Gas A + CBy Gas C : : 3 : MD CPI : 38 : 9 : (90) : 50 / min Mean : 0.80 kgf/cm Mean : 0. 78 kgf/cmHCL KOH Mean : 0.79 kgf/cm VTS FCCL
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By Gas ABy Gas A + CBy Gas C VTS / :
VTS :
VTS DC :
Pl : : : 0.32 kgf/
: 0.78 kgf/