전자 회로 1 lecture 6 (mosfet) 2009. 04. 임한조 아주대학교 전자공학부...

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전전 전전 1 Lecture 6 (MOSFET) 2009. 04. 임임임 임임임임임 임임임임임 hanjolim @ajo u.ac.kr 임 임임 임임임 임임임임임 임임임 임임임임 08.03 임 임임임 임임임 임임임임임 임임임임 .

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Page 1: 전자 회로 1 Lecture 6 (MOSFET) 2009. 04. 임한조 아주대학교 전자공학부 hanjolim@ajou.ac.kr@ajou.ac.kr 이 강의 노트는 전자공학부 곽노준 교수께서 08.03

전자 회로 1Lecture 6 (MOSFET)

2009. 04.임한조

아주대학교 전자공학부[email protected]

이 강의 노트는 전자공학부 곽노준 교수께서 08.03 에 작성한 것으로 노트제공에 감사드림 .

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April, 2008 Nojun Kwak 2

MOSFET

FET: Field Effect Transistor

MOS-FET: Metal-Oxide Semiconductor FET

MOSFET 의 Type Enhancement type ( 반도체의 90% 이상 )

Depletion type

MOSFET 의 장점 (BJT 와 비교 ) 매우 작게 만들 수 있음 .

공정이 비교적 간단함 전력 소모가 적음 MOSFET 만으로 회로 구성이 가능 (IC)

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April, 2008 Nojun Kwak 3

Enhancement-Type MOSFET

물리적 특성 : L=0.1~3μm, W=0.2~100μm, tox = 2~50nm

3 terminals + Body: Source, Drain, Gate; Symmetric device NMOS (S&D = n+, G=p) vs. PMOS (S&D=p+, G=n)

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April, 2008 Nojun Kwak 4

NMOS Transistor

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April, 2008 Nojun Kwak 5

기본적인 NMOS 동작 (VG=0)

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April, 2008 Nojun Kwak 6

기본적인 NMOS 동작 (VG>0)

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April, 2008 Nojun Kwak 7

PMOS Transistor

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April, 2008 Nojun Kwak 8

자세한 MOSFET 동작 (NMOS 기준 )

Gate 에 voltage 를 걸어주면 Transistor 가 ON Inversion layer (n-type channel) 가 생김 (MOS capacitor 에

의해서 전자가 모임 ) VGS 가 일정 voltage (Vt) 이상이 되어야 inversion layer 가 생김 Vt: device 특성 ; 0.5~1 Volt VGS 에 의해서 inversion layer 의 깊이 ( 전자의 양 ) 가 결정됨

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April, 2008 Nojun Kwak 9

NMOS Cutoff Mode

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April, 2008 Nojun Kwak 10

NMOS Linear Mode (VDS = very small)

: excess gate voltage overdrive voltage effective voltage

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April, 2008 Nojun Kwak 11

NMOS Triode to Saturation Mode

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April, 2008 Nojun Kwak 12

NMOS Saturation Mode (I)

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April, 2008 Nojun Kwak 13

NMOS Saturation Mode (II)

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April, 2008 Nojun Kwak 14

Drain 에서의 전류 (I) MOS 구조는 parallel plate capacitor 처럼 동작 : Gate-Oxide-channel 채널이 연속적일 때 (Drain 쪽에도 채널이 있을 때 ):

, 여기서 : 단위 면적당 capacitance

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April, 2008 Nojun Kwak 15

Drain 에서의 전류 (II)

Triode 영역에서

Saturation 영역에서

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April, 2008 Nojun Kwak 16

Ideal NMOS I-V characteristics

(triode)

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April, 2008 Nojun Kwak 17

I-V characteristics (ID vs. VDS)

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April, 2008 Nojun Kwak 18

I-V characteristics (ID vs. VGS)

boundary 에서

Quadratic

참고 : BJT

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April, 2008 Nojun Kwak 19

Summary: NMOS I-V characteristics

Cutoff

Triode (Linear)

Saturation

*

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April, 2008 Nojun Kwak 20

CMOS = NMOS + PMOS

CMOS: Complementary MOS

PMOS: NMOS 와 전류 / 전압 방향이 반대 NMOS: Drain Source (electron 이 이동 ; n-channel) PMOS: Source Drain (hole 이 이동 ; p-channel)

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April, 2008 Nojun Kwak 21

MOSFET Symbols

NMOS: PMOS:

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April, 2008 Nojun Kwak 22

Channel-Length Modulation (I)

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April, 2008 Nojun Kwak 23

Channel-Length Modulation (II)

A

1V

A AV V L

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April, 2008 Nojun Kwak 24

Body Effect

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April, 2008 Nojun Kwak 25

온도 특성 및 Breakdown

Vt: - 2mV/ Drain current 증가

k’: 온도가 증가함에 따라 줄어듦 (dominant) 전체적으로 온도가 증가하면 전류가 줄어듦 .

VDS 가 커지면 전류가 많이 흐르는 avalanche 현상 20~150V

VGS 가 커지면 ~30V 정도 breakdown 이 일어남 Device 에 영원한 damage 를 줌 Diode 등을 통한 보호회로를 만들어 주어야 함