6. 特許評価と価値向上指針の提示

Willfort International 　 Patent Firm 　　Ideation Japan Inc. 　　　　　　　　　　　

　 Ideation International Inc.

• ウィルフォート国際特許事務所• アイディエーション・ジャパン㈱• IDEATION INTERNATIONAL INC.

• 　 I-TRIZ とは、 IDEATION　INTERNATIONAL　INC. が開発した創造方法論 IDEATION-TRIZ の略称です。

I-TRIZで強力な特許網を構築する6. 特許評価と価値向上指針の提示

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6. 特許評価と価値向上指針の提示



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1. 著しく発明の価値を低減するマイナス要因発明の価値を減殺してしまう、当該発明に内在する様々なレベルの欠点。

2. 発明に関連する要因2.1　発明レベル発明創造に投入された創造的労力の量、新規性の程度、技術・社会の全体レベルに及ぼす影響。

2.2　発明の完成度　　　発明を実施するためにさらに行うべき追加作業の量。2.3　危険要因　　　当該システムの導入で当該システム及び環境に対して有害効果が出現する可能性。

2.4　技術成熟度　　当該発明が関係する技術分野の成熟度。2.5　システムの S曲線上の位置　　当該システムの S曲線で表されるライフサイクルにおける現在の段階。2.6　市場規模当該発明が関係する市場の規模。

2.7　市場多様化　　当該アイデアの他の市場エリアでの利用可能性、新市場を生成する可能性。2.8　投資収益率 (ROI)当該発明の実施のためのコストと時間、及び当該発明から得られる可能性のある収益。

特許評価のプロセス (簡易バージョン )



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発明評価1. 著しく発明の価値を低下させるマイナス要因の検査2. 発明の技術的なレベルの評価　 2.1. 技術成熟度　 2.2. 問題の斬新さ　 2.3. 解決策の斬新さ　 2.4. システム変更に対する制限　 2.5. システム・デザインの変更　 2.6. システム機能の変更　 2.7. システムプロセスの変更　 2.8. システム特性、パラメーターあるいは特徴の変更　 2.9. スーパーシステム (s)の変更　 2.10. 利用された情報　 2.11. 解決された矛盾3. 発明の進化の可能性　 3.1. システムの S曲線上の位置　 3.2. 有用機能の進化　 3.3. 有用機能に関連した望まれない機能および副作用の除去　 3.4. 人間関与の変化　 3.5. システム適応性の進化　 3.6. 資源適用の進化　 3.7. 生成された資源の進化　 3.8. 統合 /構造化　 3.9. 新しい可能技術の関与

4. 発明の商業価値の決定　 4.1. 発明に関連する要因　　 4.1.1. 技術理解度　　 4.1.2. 発明の完成度　　 4.1.3. 危険要因　 4.2. 市場に関連する要因　　 4.2.1. 市場規模　　 4.2.2. 市場多様化　　 4.2.3. 実施の時間とコスト　 4.3. 特許に関連する要因　　 4.3.1. 保護の程度　　 4.3.2. 特許の寿命　　 4.3.3. 発明者　 4.4. 投資収益率 (ROI)　 4.5. 権利者に関連する要因　　 4.5.1. 企業のコア・コンピタンスへの関連　　 4.5.2. 実施の見通し　　 4.5.3. ライセンスの見通し結論　　発明の技術的なレベルの評価についての結論　　発明の進化の可能性いついての結論　　発明の商業価値の決定いついての結論当該発明に対する更なる推奨作業の方針

特許評価のプロセス (フル・バージョン )



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2. 発明の技術的なレベルの評価短期的に見て、発明の技術的な質と有効性を評価することができます。

3. 発明の進化の可能性中期および長期の視点から、発明の有望性（さらなる開発と発展の可能性）を評価することができます。

4. 発明の商業価値の決定市場およびビジネスの面での、発明の有望性を評価したり、得られる投資収益率（ ROI）に関連した潜在的な問題を評価したり、最良の ROI戦略（ライセンシング戦略など）を策定することを支援したりすることができます。

特許評価の結果



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各評価項目の評価結果に基づいて、発明の価値を一層増加させるのに役立つ推奨作業指針を提示します。さらに、推奨された作業を行うための最も有効な手段として、それを行うのに最適なアイディエーション・ツールも提示します。

特許評価の結果 - 発明価値向上指針（下記は、簡易バーションでの例）

検討されたパラメーター将来の改良のための推奨アイディエーション・ツール

　 2.1. 発明レベル (3 レベル )

　当該アイデアを吟味しいっそうの強化を検討してください。すなわち、当該発明を実施するときに出現するかもしれない二次的問題を明らかにして解決してください。

　 IWB （技術問題解決）

　 2.2. 発明完成度 (4 レベル )

　速やかに二次的問題を明らかにして解決してください。　 FP （不具合予測）

　 2.3. リスク要因 (3 レベル )

　既知の関連する問題と、有害作用が生じるメカニズムと、それを改善する方法について、情報を収集してください。

　

　 2.3. リスク要因 (3 レベル )

　当該システムの安全を増加しリスクを低減するための問題を解決してください。

　 IWB

　 2.4. 技術成熟度 (2 レベル )

　当該発明がその特定の産業分野の進化に貢献できる可能性を評価してください。

　

　 2.5.　S 曲線（ 3 レベル）　可能性ある応用分野を漏れなく割り出し、信頼できる知財保護を図ってください。

　

　 2.5.　S 曲線（ 3 レベル）　成長、コスト低減、競争力強化のため、可能な資源を利用し尽くすための問題を明らかにして解決してください。

　 IWB

　 2.6. 市場規模 (4 レベル ) 　信頼できる知財保護を確保してください。　

　 2.6. 市場規模 (4 レベル ) 　当該システムとその進化、及び他システムや環境や人々との相互作用、に関係する問題を明らかにして解決してください。

　 FP

　 2.7. 市場多様化 (3 レベル )

　当該システムとその進化、及び他システムや環境や人々との相互作用、に関係する問題を明らかにして解決してください。

　 FP

　 2.8. 投資収益率 (ROI)(3

レベル )

　当該システムの市場とその進化、及び他の市場との相互作用、に関係する問題を明らかにして解決してください。

　 KW （ビジネス問題解決）



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6. 特許評価と価値向上指針の提示

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