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Ch. 18. Nanostructures
나노미터의 크기
나노과학 및 나노기술의 제안
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나노구조체의 발견
C60 (1985) CNT (1991) Graphene (2005) Nanowire (1998)
나노구조체의 물성
13 nm
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나노구조체의 부피 대 표면적 비율
나노 세계의 관찰 – 광학 현미경
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나노 세계의 관찰 – 전자현미경
주사형 전자현미경 투과형 전자현미경
Model and TEM image of a CdSe nanocrystal SEM image of an insect
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나노 세계의 관찰 – Scanning Tunneling Microscope
Si (111) surface "Quantum coral" ~ 48 Fe atoms on a Cu(111) surface
manipulating atoms
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나노구조체의 제작 – 하향식 (top-down approach)
Integrated circuits in a chip
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나노구조체의 제작 – 상향식 (bottom-up approach)
C60 (1985) CNT (1991) Graphene (2005) Nanowire (1998)
self-assembly (자기조립법) Self-assembled nanoparticles of PbS
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자연계의 나노구조체 – 연잎 효과 (lotus effect)
computer graphic of a lotus leaf
돌기에 의한 소수성 구조 때문에 연잎 위에서 물방울이 구르면서 표면의 먼지 등을 청소함
//upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/6/6f/Lotus_effect_on_leaf_of_taro_and_leaf_magnify.jpg//upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/1/13/Lotus3.jpg
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자연계의 나노구조체 – 나비의 날개
나비 날개의 확대 현미경 사진 ~ 빛의 파장에 가까운 구조로서 화학 염료 없이도 특정한 파장의 빛을 반사/흡수 함으로써 다양한 색깔을 낼 수 있음.
공작새 깃털의 화려한 색깔도 나노구조 때문.
http://www.gizmag.com/nanostructure-butterfly-wings/13086/picture/101657/
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자연계의 나노구조체 – 게코 도마뱀
Gecko foot hair
http://www.psmicrographs.co.uk/_assets/uploads/gecko-lizard-footpad--tarentola-mauritanica--80016954-l.jpg
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미세구조 관찰의 필요성 대두…
광학현미경 전자현미경 원자현미경
스위스 쮜리히소재의 IBM 연구원이었던 Binning, Roher,
Gerber와 Weibel에 의해 1982년에 개발
정의: STM (Scanning Tunneling Microscope)과 AFM
(Atomic Force Microscope)을 통칭하여 부르는 용어
날카로운 탐침(Probe 혹은 Tip)이 표면에 수 Å 이내로 접근
하여 Scanning
응용분야 표면분석 (표면 거칠기, 표면 형상, 자기특성…)
SPM(Scanning Probe Microscope)
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SPM(Scanning Probe Microscope)
① High Quality Optical Microscope
② Advanced Scan System
③ EZ Snap Probe Tip Exchange
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분석방법비교
광학현미경 SPM SEM 측정정보 표면의 상태 표면형상 표면형상
관찰기술 3차원형상(표면) 3차원형상(표면), 마찰, 표면전위
2차원형상
X축 분해능 0.1㎛ 10Å 100Å
Y축 분해능 0.1㎛ 0.2Å 100Å
배율
시료의 환경 대기, 진공 대기, 진공, 용액 진공
시료의 제한 도전성의 고체 거의 모든 고체 도전성의 고체
시료의 손상 없음 적다 크다
측정시간 ~분 ~분 ~100초
probe Tip 전자총
3102~1 610~10810~25
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STM(Scanning Tunneling Microscope)
최초의 원자 현미경
가느다란 텅스텐 선을 전기 화학적으로 에칭 시키면 그 끝이 아주 뾰
족하게 되어 맨 끝에는 원자 몇 개만이 존재
원자 한 두개 크기의 간격(~0.5nm)으로 표면 접근 양자역학
적 터널링 효과
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The Principle of STM
원자 한, 두개 크기의 간격(~0.5nm)으로 가까이 접근
적당한 전압을 걸어주면 전자가 에너지 벽을 뚫고 지나가 전류가 흐름
STM의 탐침과 시료 간격이 멀어지면 전자의 터널링 확률이 작아짐
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The Method of Measurement
Constant-height mode
fast
relatively smooth surfaces
Constant-current mode
slow
irregular surfaces with high precision
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STM Sample
Disadvantages
1. Electrochemical/Liquid use may be difficult or impossible
2. Sample surface not visible for tip positioning
3. Large sample analysis not possible
Defects on a Ag film grown on HOPG
HOPG : Substrate Materials for
Scanning Tunneling Microscopy and
Atomic Force Microscopy
At. T = 5 K in the constant-current
mode
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AFM(Atomic Force Microscope)
STM(Scanning Tunneling Microcopy)의 문제점 해결
원자와 원자와의 반발력과 인력
전기적인 특성과 무관하므로 도체, 반도체 및 부도체등 모든 시료
의 분석에 범용적으로 적용
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The Principle of AFM
캔틸레버(Cantilever)와 표면과의
상호작용
거리에 의해 인력과 척력이 발생
하며 이를 이용하여 측정함(접촉
식, 비접촉식 방식) .
Tip 시료접근
Tip 진동
Photodiode 감지
표면 이미지화
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Cantilever
캔틸레버와 탐침은 시료표면에 적용되는 힘이나 AFM의 lateral
resolution을 결정.
Silicon , silicon nitride로 만듦
길이 100-200㎛, 넓이 40㎛, 두께 0.3-2㎛
non-contact 방법에서는 작동하는 진동 주파수의 범위가 넓어야 한다.
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Contact AFM
표면에 수직하게 야기되는 반발력
반발력은 1~10 nN
작은 힘에도 매우 민감하게 반응하여 0.01
nm 정도로 미세하게 움직이는 것까지 측정
표면형상의 변화
캔틸레버 spring constant
(0.01~0.005 N/m)
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Non-Contact AFM
시료 사이에 작용하는 attractive van der
Waals force(0.1nN~0.01nN)를 측정한다
비접촉 방식에서는 큰 공진주파수와 큰 탄
성 계수를 갖는 뾰족한 캔틸레버가 좋다
원자간의 인력
고유진동수 변화
진폭과 위상 변화
Lock-in amp로 측정
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AFM Sample
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AFM Sample
RMS 18.4nm
RA 11.6nm
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표면 거칠기
l
xa dxfl
R0
)(1
중심선 평균거칠기(Ra)
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표면 거칠기
중심선 평균거칠기(Ra)와 제곱 평균거칠기와의 비교
)....(1
)(1
210
n
l
xa yyyn
dxfl
R
n
yyydxy
lR n
l
xrms
22
2
2
1
0
2 ...)(1
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LFM (Lateral Force Microscope) : 표면의 마찰력을 재는 원자현미경
유리가 코팅된 나일론 화학용기의 표면 (5 x 5 mm)
FMM (Force Modulation Microscope) : 시료의 경도를 재는 원자현미경
탄소 광섬유가 폴리머 접착제 사이에 들어있는 단면을 찍은 원자현미경 사진
LFM & FMM
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PDM (Phase Detection Microscope) : 시료의 탄성 및 점성등을 재는 원자현미경
폴리머 코팅한 것을 원자현미경으로 찍은 사진
PDM & SCM
SCM (Scanning Capacitance Microscope) : Capacitance를 재는 원자현미경
MOSFET의 단면을 원자현미경으로 찍은 사진 (4 x 4 mm)
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MFM (Magnetic Force Microscope)
자기력(磁氣力)을 재는 원자현미경
컴퓨터용 하드디스크를 원자현미경으로 찍은 사진
MFM (Magnetic Force Microscope)
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EFM (Electrostatic Force Microscope)
시료의 전기적 특성을 재는 원자현미경
정전기력을 사용하여 표면전위, 표면전하, dielectric constant 측정
ASIC 소자를 원자 현
미경으로 찍은 사진
EFM (Electrostatic Force Microscope)
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고체상태에서 작은 크기의 미세조직과 형상을 관찰 할 때 쓰이는 전자 현미경
SEM (Scanning Electron Microscopy)
Introduction
분석능력
-Resolution : 0.2nm
-Magnification : ~300000
초심도가 깊다
사용배율의 범위가 넓다
기기조작 시료 취급이 용이
분석 소요시간이 짧다
TEM에 비해 시편준비 간편
TEM 에 비해 해상력 낮다
진공 유지가 필수적이다
액체, 젖은 시료 취급 불가
장 점 단 점
시편에 충돌 시 발생하는 2차 전자를 사용하여 상을 만든다
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이차전자
시편
입사전자
후방산란전자
투과전자
특성 X선
Auger전자
가시광선
회절전자
흡수전자
에너지 손실 전자
Emitting signal electron from the specimen
2차 전자 발생
탄성산란(Elastic Scattering)
에너지를 잃지 않은 채 방향만 바꾼 전자
원자핵과 충돌 (backscattered electron)
시편을 빠져 나가기 전 다른 원자들과
상호작용으로 인하여 2차전자 발생
backscattered electron이 전자현미경
내부부품과 충돌하여 2차전자 발생
이때 시편에서 나온 2차전자들과 썩여
noise 로 작용
비탄성 산란(Inelastic Scattering)
입사빔보다 낮은 에너지 혹은 2차전자 발생
2차전자들은 0~50eV 에너지를 가짐
2차전자 detector에 의해 image 형성
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SEM 작동원리
Electron Gun
1st Condenser lens
Specimen
2nd condenser lens
Object lens
Condenser Aperture
Detector Scan coils
Object Aperture
전자빔 집광
이탈하는 전자빔 제거, 전류량 제한 전자빔 집광
Coherent 한 전자빔 형성
scanning
Scanning beam 초점 맞춤
Schematic drawings of SEM
Structure of SEM
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SEM 구성요소(1)
Vacuum system- Remove air molecules : 10-5 ~10-7 Torr
Electrical Optical System – Focus and control the e-beam
Tungsten filament cathode : 약 2700K 가열되어 열전자 방출
LaB6 filament cathode : LaB6 과 같은 희토류산화물 높은 열전자 방출
Field emission cathode :필라멘트 표면에 고압의 전위차를 걸어주어 전자를 방출
Electron Gun
Field emission cathode Tungsten filament cathode
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SEM 구성요소(2)
Condenser lenses
2nm 이하 크기의 spot 을 형성(작을 수록 분해능 증가)
렌즈에 고정된 조리개를 통하여 spot size를 줄이거나 수차 조절
Object lenses
Deflection coil : scan generator 연결되어 표면에 형성된
spot 을 체계적으로 이동
Stigmator : CRT 화소 (pixel)는 둥근데 반해 2차전자빔은 둥글지 않다
이 때 비점수차 발생. Stimators를 이용하여 교정
Apertures
50~200 micrometer
Apertures 작으면 spot size 감소, 통과하는 전자 수 감소,
구면 수차 감소 ,depth of field 증가
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Specimen stage – Insertion and manipulation
SEM 구성요소(3)
20~30nm 두께로 gold, platinum 코팅
정전하 방지
우수한 2차전자 발생
입사빔 시편과 충돌시 열 방출
Specimen coating
Specimen preparation
부도체의 경우 1차전자의 전하가 표면에 쌓여 방전됨
Magnification
Contrast
Resolution
Depth of field
Ion-coater
Sputter Coating procedure
1~3kV 전압
Argon gas
Rotary vacuum pump(100m Torr)
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분해능(Resolution)
현미경 관찰 시 작은 부위를 확실히 분간할 수 있는 성능을 말함
0.2nm보다 멀리 떨어져 있는 것들만이 2개로 보이고 이보다 더 가까운 경우에는 1개로 보인다.
전자현미경에서의 분해능은 대략 0.2nm
High resolution mode: small spot size, short working distance, small aperture
그러나 2차 전자의 수를 감소하는 단점
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Example
대물렌즈와 시편 사이의 거리
가속전압
배율 눈금의 크기
같은 가속전압과 같은 배율로 시편를 관찰하였으나 다른 양상을 보여주고 있다. 즉 조건이 같더라도 시편에 종류에 따라 영상의 질은 달라진다.!!!
금속성 물질은 밝게 나타남(ITO)
2차전자 많이 발생