販売資料(isg-180 真空展2011) 2012.08増刷主な特徴 ビーム電流 1500ma /...

2
主な特徴 ビーム電流 1500mA / ビーム電圧 1500V / イオン電流密度 150μA/c㎡以上 の高出力イオンソース イオン電流密度分布±5%以下の均一性をハイパワーで達成。 ※Sapio-1300 での測定結果です。弊社指定条件に限ります。 ニュートラライザーにオートマッチャーを採用し、確実な着火性能と安定化を図りました。 さらに新開発コレクター電極(特許出願中)の採用により、エミッション電流 3000mA の大出力を可能としました。 チャージアップによるパーティクル発生を予防します。 コンポーネント イオンソース 高出力RFイオンソース ISG-180 広範囲で安定した放電を実現 広範囲で安定した放電を可能にし、光学フィルターの ノンシフト膜から樹脂基板への密着性改善まで 様々な用途でご使用いただけます。 放電性能においては独自のアプローチにより 確実な着火と安定した放電が可能です。

Upload: others

Post on 27-Feb-2020

0 views

Category:

Documents


0 download

TRANSCRIPT

Page 1: 販売資料(ISG-180 真空展2011) 2012.08増刷主な特徴 ビーム電流 1500mA / ビーム電圧 1500V / イオン電流密度 150μA/c 以上 の高出力イオンソース

主な特徴

ビーム電流 1500mA / ビーム電圧 1500V / イオン電流密度 150μA/c㎡以上

の高出力イオンソース

イオン電流密度分布±5%以下の均一性をハイパワーで達成。

※Sapio-1300 での測定結果です。弊社指定条件に限ります。

ニュートラライザーにオートマッチャーを採用し、確実な着火性能と安定化を図りました。

さらに新開発コレクター電極(特許出願中)の採用により、エミッション電流

3000mA の大出力を可能としました。

チャージアップによるパーティクル発生を予防します。

コンポーネント

イオンソース

高出力RFイオンソース ISG-180

広範囲で安定した放電を実現

広範囲で安定した放電を可能にし、光学フィルターの

ノンシフト膜から樹脂基板への密着性改善まで

様々な用途でご使用いただけます。

放電性能においては独自のアプローチにより

確実な着火と安定した放電が可能です。

Page 2: 販売資料(ISG-180 真空展2011) 2012.08増刷主な特徴 ビーム電流 1500mA / ビーム電圧 1500V / イオン電流密度 150μA/c 以上 の高出力イオンソース

グリッド径 φ180mm 3枚構成 モリブデン製

BEAM v 100〜1500V

BEAM i 100〜1500mA(max 1700mA)

ACC v 100〜1000V

RF POWER 1000W

GAS FLOW 30〜100sccm

外形寸法 φ360×270H (mm)

EMISSION 3000mA

RF POWER 200W

GAS FLOW Ar 5〜20sccm

外形寸法 Φ80×275H (mm)

RF ION SOURCE

RF NEUTRALIZER

ICJ08802-1208

※本仕様・外観については、改良のため予告なく変更することがあります。あらかじめご了承下さい。

本製品は、外国為替並びに外国貿易管理法の規定により、戦略物資等輸出規制品に該当する場合があります。従って、日本国外に該当品を持ち出す際は、

日本国政府への輸出許可申請等、必要な手続きをお取りください。

TEL:042-764-0370 FAX:042-764-0377

E-Mail:[email protected]

お問合せ先

【営業部】

ご質問・詳細につきまして

は、営業所までお気軽にお

問合せ下さい。

仕様・寸法

本社・相模原工場 〒252-0244 神奈川県相模原市中央区田名 3062-10 TEL:042-764-0321

URL http://www.showashinku.co.jp

0

20

40

60

80

100

120

140

160

180

200

イオ

ン電

流密

度(μ

A/c㎡

Bi 500mABv600V

Bi 750mABv1000V

Bi 1000mABv1000V

Bi 1500mABv1500V

ドーム中央(0mm)

ドーム外周(-545mm)

ドーム外周(-545mm)