주의사항 - 특허기술정보 동향분석 서비스 · 2015. 1. 21. · ⅰ 주의사항 1....

ⅰ

주의사항

1. 본 책자는 산업자원부와 한국산업기술재단(기술정책연구센터)의 연구

자 지원에 의해 한국특허정보원이 연구용역사업으로 수행한 “기술로

드맵 련 특허지수를 이용한 분석방법론 개발 사례연구 사업”(사업기간 2005. 5. 1 ~ 2005. 6. 31)의 최종 연구결과 보고서입니다.

2. 본 책자의 내용에 한 무단복제 제를 하며, 내용에 한 인용이

필요한 경우에는, 상기 사업의 결과임을 밝 야 합니다.

참여인원

총 책임자

한국특허정보원 특허정보 략 장 노 성 열

참여 연구원

한국산업기술재단 기술정책연구센터 황 태 형

한국특허정보원 특허정보 략 김 진 성 하 길 양 윤 모

장 용 이 정 운 안 창 보

안 수 류 장 환 백 성

김 태 홍 정 표 조 창 엽

김 명 지 홍 동 기 서 유 진

최 동 장 제 연

Contents

ⅱ

제1장 개요 ································································································································ 1

제1절 연구 배경 ······················································································································· 3

1. 특허정보의 가치 ··············································································································· 4

2. 특허정보 활용에 대한 국내․외 동향 ············································································ 6

3. 특허분석 연구에 대한 국내․외 동향 ·········································································· 14

4. 기타 ·································································································································· 21

제2절 연구 목적 및 필요성 ······························································································ 24

제3절 연구 방법 ···················································································································· 25

제2장 특허정보의 정량적 분석지표 ···································································· 27

제1절 특허건수의 계산기준 ······························································································ 29

1. 시간적 기준 ···················································································································· 30

2. 주체적 기준 ···················································································································· 36

3. 복수 데이터에 대한 계산기준 ···················································································· 39

4. 삼극특허 패밀리 ············································································································ 42

제2절 기술혁신 활동의 집중도 분석지표 ··································································· 48

1. 현시기술우위 지수(Revealed Technological Advantage) ·································· 49

2. 현시특허우위 지수(Revealed Patent Advantage) ················································· 55

3. 집중률 지수(CRn, Concentration Ratio n) ···························································· 59

4. 허핀달 지수(HHI, Herfindahl Index) ········································································ 63

제3절 기술수준 분석지표 ·································································································· 66

1. 피인용 가중 특허 수(Patent Count Weighted by Citations) ···························· 67

2. 특허 당 피인용 수(CPP, Cites per Patent) ··························································· 69

3. 특허영향 지수(PII, Patent Impact Index) ······························································· 74

4. 현재영향 지수(CII, Current Impact Index) ···························································· 78

5. 기술력 지수(TS, Technology Strength) ·································································· 83

6. 기술순환주기 지수(TCT, Technology Cycle Time) ············································· 86

7. 과학연계 지수(SL, Science Linkage) ······································································ 90

8. 특허 당 평균 청구항 수(Average Claims per Patent) ········································ 93

9. 패밀리 규모(Family Size) ···························································································· 96

목 차

ⅲ

제4절 협력관계 및 지식흐름 분석지표 ········································································ 99

1. 공동출원․발명 특허 수(Number of Patents with co-applicants, with co-inventors) ··· 100

2. 샐턴 지수(Salton's Index) ························································································ 103

3. 인력 유입률․유출률(Brain Gain, Brain Drain) ····················································· 107

4. 인용관계를 이용한 지식흐름 분석 지수(Index for Knowledge Flow with

Patent Citations) ········································································································ 112

제3장 특허분석기법 ······································································································ 117

제1절 특허와 R&D의 상관분석 ··················································································· 119

1. 연구개발비 당 특허건수 ···························································································· 120

2. 연구인력 당 특허건수 ································································································ 122

3. 연구개발전략 및 지적재산전략과의 상관관계 ······················································ 123

4. 연구개발비를 통한 특허경영 효율화 방안 ···························································· 125

제2절 기술의 질적(Quality)분석 ············································································ 126

1. 기술의 영향력(CPP)과 시장성 확보(PFS) ····························································· 127

2. 특정 연구주체의 기술경쟁력 ···················································································· 128

3. 특정 연구주체의 기술영향력 ···················································································· 130

4. 특허와 경제적 가치 분석 ·························································································· 131

5. 특허의 가치(Patent Factor Index) 분석 ······························································· 132

제3절 기술전략수립 분석 ································································································ 137

1. 특정연구주체에 관한 기술적 위치 ·········································································· 137

2. 특정 연구주체의 기술개발 방향성과 위치 ···························································· 139

3. 연구주체의 기술개발 방향성과 기술혁신주기 ······················································ 140

제4절 특허 포트폴리오 분석 ························································································· 142

1. 구간별 특허 포트폴리오 ···························································································· 143

2. 연구주체별 특허 포트폴리오(1) ··············································································· 145

3. 연구주체별 특허 포트폴리오(2) ··············································································· 147

제5절 국제협력관계 및 지식의 흐름 분석 ······························································· 149

1. 국제 협력관계도 ·········································································································· 150

2. 국제 협력관계 지수 ···································································································· 151

3. 지역간 공동연구 활동 ································································································ 153

Contents

ⅳ

4. 연구인력의 유입 및 유출을 통한 지식의 흐름 ···················································· 155

5. 지식의 창출 및 확산에 관한 관계 ·········································································· 157

제6절 정성분석(기술권리분석) ····················································································· 158

1. 기술별 특허동향 분석 ································································································ 159

2. 특허전략 수립을 위한 권리분석 ·············································································· 164

3. 기술별 권리범위 분석 ································································································ 169

4. 기술 발전도 ·················································································································· 174

제7절 기타 분석방법 ········································································································· 177

1. 특허의 활용성 여부(휴면특허의 비율) ··································································· 177

2. 구간별 시장력확보(PFS) 지수 ·················································································· 179

3. 특허의 생존 및 유지기간 ·························································································· 181

4. ThemeScape를 활용한 특허 맵 ·············································································· 182

제4장 특허분석 적용사례 및 특성 ···································································· 185

제1절 기술로드맵을 위한 특허분석 사례 ·································································· 187

1. 부품소재로드맵(산업자원부) ····················································································· 188

2. 국제산업기술협력지도(산업자원부) ········································································· 193

제2절 특허정보를 이용한 기술동향 분석사례 ························································ 196

1. 5대 분야의 세계 특허동향(미국 상무부) ······························································· 197

2. 특허유통지원차트(일본 공업소유권 정보․연수관) ················································ 201

3. 생명공학 특허동향(한국 특허청) ············································································· 204

제5장 기술로드맵에의 특허분석 적용방법 ·················································· 211

제1절 기술로드맵 개요 ····································································································· 213

1. 기술로드맵의 정의 ······································································································ 214

2. 기술로드맵의 유형 ······································································································ 216

제2절 기술로드맵 작성을 위한 특허분석 ································································· 221

1. 기술의 발전단계 분석 ································································································ 224

2. 기술환경의 구조 분석 ································································································ 228

3. 기술경쟁력 분석 ·········································································································· 235

4. 연구개발의 주체와 경쟁․협력대상의 발굴 ····························································· 242

제3절 결론 및 향후 과제 ································································································ 248

ⅴ

표 1-1. 해외선진국의 특허지표 활용사례 ··········································································· 17

표 2-1. 분석기준 변화에 따른 국가별 EPO 출원 점유율 ············································· 37

표 2-2. 우선권 주장 사례 ······································································································· 45

표 2-3. 국가별 혁신활동의 유형(49개 기술분야의 평균값) ············································ 62

표 2-4. 농업식품분야 Herfindahl Indices(1969년~1994년) ·········································· 65

표 2-5. 소유권자 국적별 나노분야 미국특허 분석결과(1976~2002) ··························· 72

표 2-6. 소유권자별 나노분야 미국특허 분석결과(1976~2002) ····································· 73

표 2-7. 국가별 나노바이오․보건 분야 특허분석 결과 ······················································· 77

표 2-8. CII 계산사례를 위한 가상 특허데이터 ·································································· 79

표 2-9. 주요 3개 기술분야에 대한 국가별 특허 수 및 평균 청구항 수 ····························· 95

표 2-10. 미국특허를 이용한 국가간 공동발명 현황 분석결과(1992~2001,

출원연도) ················································································································· 106

표 2-11. 나노기술분야의 국가간 지식흐름 분석결과 ····················································· 115

표 3-1. ETRI 특허 경쟁력 비교(2003년 기준) ································································ 122

표 3-2. 특허 가치평가 항목의 구성 사례 ········································································· 133

표 3-3. 국제협력이 활발한 상위 국가의 현황 ································································· 150

표 3-4. 국가간 공동출원 협력지수 ····················································································· 152

표 3-5. 흡수식 냉온수기의 냉각방식/흡수액 ···································································· 160

표 3-6. 흡수식 냉온수기의 효용성 ····················································································· 162

표 3-7. IC Sensors사의 특허리스트 ·················································································· 164

표 3-8. 나노분말합성 기술 ··································································································· 170

표 3-9. 탄소화합물 합성기술(fullerene 합성) ·································································· 171

표 3-10. 탄소화합물 합성기술(카본 나노 튜브(CNT) 합성) ········································· 172

표 3-11. 표면코팅 기술 ········································································································· 173

표 4-1. 「특허유통지원차트」보고서 구성 및 주요내용 ··············································· 202

표 5-1. 로드맵의 주제와 내용 ····························································································· 218

표 5-2. 특허 포트폴리오의 효과적 작성을 위한 권고사항 ··········································· 241

표 목 차

Contents

ⅵ

그림 1-1. 트리즈 기술진화 응용사례 ··················································································· 22

그림 1-2. 데이터 마이닝을 활용한 특허 네트워크 구성 ················································· 23

그림 2-1. 특허의 서지정보와 분석기준의 선택 ································································· 29

그림 2-2. 특허출원ㆍ등록의 일반적 진행절차 ··································································· 30

그림 2-3. 기준시점별 미국특허 등록건수 ··········································································· 33

그림 2-4. 경향분석에 의한 EPO 특허출원량 예측사례(직접 외삽법 적용결과) ················· 35

그림 2-5. 1997년 삼극특허 패밀리의 국가별 점유율 ······················································ 46

그림 2-6. 기술혁신 활동의 집중도 분석 지표 ··································································· 48

그림 2-7. 국가별 생명공학분야 특허활동지수(Activity Index) ······································· 53

그림 2-8. 80년대와 90년대 초반 스위스의 RTA 분석결과 ············································· 54

그림 2-9. 화학분야 미국특허에 대한 국가별 RPA(1975-1997) ···································· 57

그림 2-10. 1990년~1992년 스위스의 SRCA 및 SRTA 분석결과 ································· 58

그림 2-11. 기술수준 분석지표의 구성 ················································································· 66

그림 2-12. 보정 전의 CPP와 보정 후의 CPP ··································································· 71

그림 2-13. 분야별, 국가별 ,구간별 CII ················································································ 82

그림 2-14. 분야별, 국가별, 구간별 TS ················································································ 85

그림 2-15. 주요 산업별 CII, TCT, SL 분석 사례 ····························································· 89

그림 2-16. TCT vs. NPR 분석사례 ······················································································ 92

그림 2-17. 주요 국가별 시장력과 피인용비 ······································································· 98

그림 2-18. 협력관계 및 지식흐름의 분석 개념 ································································· 99

그림 2-19. 주요 국가의 BT분야 국제공동출원 및 국제공동발명 구간별 점유율 ················· 102

그림 2-20. 국제 공동저작(co-publication) 관계 분석결과(1998~2001) ·················· 105

그림 2-21. 자국 발명, 외국 소유 특허현황 ······································································ 109

그림 2-22. 외국 발명, 자국 소유 특허현황 ······································································ 110

그림 2-23. BT분야 외국 인력 유입, 유출현황 분석결과 ·············································· 111

그림 3-1. 국내 총연구개발지출(GERD) 대비 삼극특허 수 ··········································· 121

그림 3-2. 발명자 1인당 연구개발비와 출원청구항 수 ··················································· 124

그림 3-3. 일본 주요 기업의 연구개발규모 ······································································· 125

그림 3-4. 국가별 나노소재분야 영향력 지수 및 시장확보 지수 ································· 127

그림 3-5. 등록점유율과 인용점유율의 국가간 비교 ······················································· 129

그림 3-6. 인용을 통한 국가간 기술영향력 비교 ····························································· 130

그림 3-7. 등록 유지율과 특허 피인용 회수와의 관계 ··················································· 131

그림목차

그림목차

ⅶ

그림 3-8. 미국특허 5,896,126호에 대한 평가결과 ························································ 136

그림 3-9. 상대 성장률과 상대 중요도로 파악된 한국의 기술분야 위치 ··················· 138

그림 3-10. NT분야 주요 국가별 연구개발 방향 ···························································· 139

그림 3-11. 주요 국가별 생명공학 연구개발방향 및 기술혁신주기 동향 ··················· 141

그림 3-12. 한국의 NT분야 기술 발전단계 ········································································ 144

그림 3-13. 거래소 상장기업의 다출원 상위 5개社 특허 포트폴리오 ························· 146

그림 3-14. 주요 회사의 등록 신장률 ················································································· 148

그림 3-15. 지역간 공동연구 현황 ······················································································· 154

그림 3-16. 생명공학 분야 국가별 인력유입률 및 인력유출률 ····································· 156

그림 3-17. 한국과 대만의 인용특허 분석결과 ································································· 157

그림 3-18. 반도체형 액추에이터 ······················································································· 165

그림 3-19. 주름형성방법 ······································································································· 166

그림 3-20. 반도체형 압력변환기 ························································································· 166

그림 3-21. 반도체 소자 ········································································································· 167

그림 3-22. IC Sensors社의 특허 네트워크 ······································································ 168

그림 3-23. 기술발전도 사례(1) ···························································································· 175

그림 3-24. 기술발전도 사례(2) ···························································································· 176

그림 3-25. 특허권의 自社 실시비율과 他社 실시허락비율의 분포(외국권리) ·················· 178

그림 3-26. 구간별 전 세계 시장확보 수 증가 추이 ······················································· 180

그림 3-27. 내외국인 등록특허의 생존율 및 특허수명 ··················································· 181

그림 3-28. 휴대용 물건의 무단 이동 또는 도난방지 특허분석 결과 ························· 183

그림 4-1. 부품소재로드맵 특허분석의 목표 및 활용방안 ············································· 188

그림 4-2. 부품소재로드맵 특허분석의 절차 ····································································· 189

그림 4-3. 부품소재로드맵 특허분석을 위한 분석지표의 구성 ····································· 190

그림 4-4. 부품소재로드맵 특허분석을 위한 분석지표 산출방법 ································· 190

그림 4-5. 개별 완제품 수준 내에서의 매트릭스 분석도구 ··········································· 191

그림 4-6. 개별 부품소재 수준 내에서의 분석도구 ························································· 192

그림 4-7. 국제산업기술협력지도 특허분석을 위한 분석지표의 구성 ························· 194

그림 4-8. 2004년 국제산업기술협력지도의 특허분석틀 ················································ 195

그림 4-9. 「5대 분야 세계 특허동향」보고서의 분석지표 구성 ································· 198

그림 4-10. 「5대 분야 세계 특허동향」보고서의 특허분석틀 ····································· 200

그림 4-11. 「특허유통지원차트」보고서의 분석지표 구성 ··········································· 202

그림 4-12. 「특허유통지원차트」보고서의 특허분석틀 ··············································· 203

Contents

ⅷ

그림 4-13. 「생명공학 특허동향(2004)」보고서의 분석대상 ······································· 205

그림 4-14. 「생명공학 특허동향(2004)」보고서의 분석지표 구성 ····························· 206

그림 4-15. 「생명공학 특허동향(2004)」요약서의 분석틀 ··········································· 209

그림 5-1. Albright와 Schaller의 기술로드맵 분류 ·························································· 216

그림 5-2. 기술개발의 기획틀 ······························································································· 217

그림 5-3. Kappel의 로드맵 분류 ························································································ 219

그림 5-4. 로드맵 작성을 위한 특허분석틀의 일례 ························································· 222

그림 5-5. 기술로드맵을 위한 특허분석의 활용성 ··························································· 223

그림 5-6. 특허정보를 활용한 기술 발전단계 분석의 유용성 ······································· 224

그림 5-7. 특허 수와 출원인 수를 이용한 기술 발전단계의 분석방법 ······················· 226

그림 5-8. TRIZ 관점의 기술발전 단계 특성 ··································································· 227

그림 5-9. 특허정보를 활용한 기술환경 구조 분석의 유용성 ······································· 228

그림 5-10. 특허 인용정보를 활용한 기반기술 및 파급효과 분석 ······························· 230

그림 5-11. 특정 기술분야의 내부 구조 분석도구 ··························································· 231

그림 5-12. 특허정보를 이용한 기술간 융합관계 분석 ··················································· 233

그림 5-13. 특허정보를 활용한 기술경쟁력 분석의 유용성 ··········································· 235

그림 5-14. 특허지표를 이용한 기술경쟁력 분석의 일반적 프로세스 ························· 236

그림 5-15. BCG 매트릭스와 GE 비즈니스 스크린 매트릭스 ······································· 238

그림 5-16. 전통적 기술 포트폴리오 매트릭스 사례 ····················································· 239

그림 5-17. 특허 포트폴리오 매트릭스 사례 ····································································· 240

그림 5-18. 특허정보를 활용한 경쟁․협력대상 분석의 유용성 ······································ 242

그림 5-19. 특허정보를 이용한 섹터별 연구개발 현황 분석방법 ································· 244

그림 5-20. 특허정보를 이용한 연구개발의 협력관계 분석방법 ··································· 245

그림목차

제1절 연구 배경

제2절 연구 목적 및 필요성

제3절 연구 방법

개 요제1장


3


1940년 반 이후 경제 성장 달성 과정에서 기술 신이 차지하는 요성에 한

인식이 높아짐에 따라 각 국 정부와 여러 국제기 에서는 연구개발 활동에 한 다각

인 조사활동을 펼치기 시작하 다.이러한 시기에 설립된 미국과학재단(NSF)과 경제 력개발기구(OECD)에서는 기 의

설립 목 는 목 을 달성하기 한 수단으로서 과학기술 분야의 황을 악하는

것에 한 요성을 인식하고, 과학기술 지표에 한 연구 활동에 극 으로 나서게

되었다. 그러나 국제기 인 OECD와 개별 국가의 정부 조직 하나인 NSF는 기 의

성격이 근본 으로 달랐고, 이러한 차이 에 따라 양 기 에서 진행된 과학기술 지표

의 개발 방향도 어느 정도 차이가 있을 수밖에 없었다.OECD의 주요 목표는 가맹국들의 과학기술 활동을 악하기 한 기반을 마련하기

해 여러 국가들이 공통 으로 사용할 수 있는 지표의 정의나 사용기 는 방법을

설정하여 통계 조사에 보편 으로 사용될 수 있는 일종의 가이드라인을 만드는 것이었

고, NSF는 미국의 과학기술 분야의 황을 악하는 것을 요한 목표로 하 기 때문

에 국가 차원의 과학기술 동향 보고서를 작성하는 데 주력하 다. 과학기술 지표의

발 에 큰 향을 미친 이 두 기 의 연구분야에 이러한 차이 이 있었음에도 불구하

고, 당시에는 지표의 개념과 조사이론 조사에 한 경험의 부족으로 인해 과학기술

분야에 한 황 조사가 연구개발 활동에 투입된 자원을 악하는 정도에 머무르고

있었다.한 동서 냉 시 의 종결과 함께 군사 목 으로 막 한 자 을 지원해 온 정부

의 연구개발 투자액이 감소하기 시작하면서, 한정된 자원을 효과 으로 사용하기 한

다양한 연구기획 도구들이 필요하게 되었으며, 21세기에 어든 지 에도 기술경쟁이

계속 으로 격화됨에 따라 연구개발 투자의 효율성과 성과를 극 화하기 한 다양한

과학기술 활동의 측정 지표와 연구기획 방법론에 한 수요는 지속 으로 늘고 있다.기술로드맵은 이러한 흐름 속에서 기술개발의 기획도구로서 개발되었다. 1970년

모토롤라社에서 처음 사용된 이래로 기술로드맵은 연구기획자들의 주요 심 상이었

다. 근래에는 우리나라에서도 정부의 국가연구개발사업에 한 기획도구로서 다양한

부처에서 기술로드맵의 도입을 시도하고 있는 상황이다. 그러나 정작 로드맵을 작성하

기 한 분석도구들에 한 연구활동은 매우 조한 상황으로서, 기술로드맵이 정부와

기업들의 연구개발 활동에 한 기획도구로 자리 잡기 해서는 로드맵의 작성을 한

분석방법과 도구들에 한 연구가 시 하다 할 수 있다.

제1장 개요

4

특허정보의 가치1

20세기 후반부터 세계가 지식 정보화 사회로 변화함에 따라 개인이나 기업 국

가는 치열한 기술경쟁 속에서 살아남기 해 시시각각 생성되는 다양한 정보와 지식을

신속하고 정확하게 수집하고 분석함으로써, 남보다 먼 기술의 흐름을 악하고 방향

을 측하여 보다 앞선 기술을 개발하고자 력을 기울이고 있다.재 사회의 특징은 다음과 같이 2가지로 요약할 수 있다.

첫 번째 특징은“지식기반 사회”로서, 이러한 사회 환경에서는 국가경쟁력 산업

경쟁력 향상을 하여 과학기술에 한 튼튼한 기반을 유지하고 연구개발에 한 투자

를 지속시키는 것이 오늘날 경제발 에 있어서 매우 요한 요소로 자리 잡고 있다. 한 연구개발 투자에 의해 산출된 지식은 사회 이익을 창출시킬 것을 요구받고 있

으며, 이에 따라 기술경쟁력의 개념도 생산성을 제고시키는 것이 아니라 과학 지식

에 기반을 둔 신 기술을 가 얼마만큼 소유하 는가라는 개념으로 바 고 있다.두 번째 특징으로는 선진국들이 시장 메커니즘이 지배하는 로벌 경제하에서 강한

지 재산정책을 추구하고 있다는 이다. 과학기술의 신은 새로운 제품과 공정을 탄

생시키고, 이것은 새로운 시장과 연결됨으로써, 국가경쟁력의 근원이 되고 있다. 유형

의 제품과 이에 한 시장에 한계를 느낀 선진국들은 바로 이러한 과힉기술의 신 성

과를 지 재산권으로 강력하게 보호받고자 하고 있는 것이다.이 게 변화하고 있는 새로운 환경 속에서 세계의 주요 국가들은 과학과 기술의 경

쟁력을 강화하기 해 막 한 산을 투입하고 있으나, 한정된 투자자원으로 인하여

많은 어려움을 겪고 있다. 이러한 난 을 타개하기 해 각 국 정부는 투자효율을 높

이기 한 다양한 방법들과 그 성과를 측정하기 한 도구들을 개발하고자 많은 노력

을 기울이고 있다. 그러나 과학기술의 측면에서 어떤 자원을 얼마만큼 투입하고 어떤

결과가 나왔으며 그것이 사회 으로 어떠한 이익을 창출했는가를 측정하는 것은 매우

어려운 과제이다.이러한 상황에서 특허정보는 과학기술 분야의 정책수립자와 연구개발자들의 주요한

심의 상이 되고 있다. 특허는 과학기술 활동의 결과임과 동시에 특허정보는 연구

개발 활동에 있어서 지 투입요소가 될 수 있기 때문이다. 한 특허정보는 논문정보

와는 달리 경제 이익의 확보를 제로 하고 있기 때문에 경제 측면과 연결된 연구

개발 활동 지표로서 경제학자들로부터도 많은 심을 받고 있다.


5

기술로드맵은“Driven by Needs”원칙에 의한 기술기획방법론으로서, 기술로드맵의 작

성을 통해 어떠한 수요(성과목표)를 만족시키기 한 여러 가지 기술 안과 련된

“로드(road)”를 확인할 수 있으며, 기술개발 자체만을 해 수립되어 왔던 기존의 장

기 계획들과는 달리 시장의 수요로부터 필요한 기술을 도출함으로써 국가경제에 보다

직 으로 기여할 수 있을 것이라는 기 를 받고 있다.이러한 기술로드맵의 작성과정에 객 이고 풍부한 정보를 담고 있는 특허정보를

활용한다면, 재의 기술수 을 악하여 기술개발 활동에 한 투자여부와 투자 상

을 결정하는 의사결정 과정에 보다 정확한 정보를 제공받을 수 있을 뿐만 아니라, 산 ․ 학 ․ 연 ․ 의 문가들이 해당분야의 비 을 공유하고 요 기술에 한 공감 를 형성

할 수 있는 기회도 제공받을 수가 있을 것이다.재 기술로드맵은 정부의 기술정책 추진과 산업계 학계의 기술개발 목표 설정,

그리고 변하는 기술 환경 속에서 정보 략의 공유를 통해 험을 최소화시키기

한 가이드라인으로서 기 를 받고 있으나, 응방안을 모색함에 있어 구체 이고 체

계화되어 있는 분석도구가 부족한 을 감안할 때, 특허정보와 그 분석도구들은 이러

한 문제 을 해결하기 한 하나의 방법으로서 충분히 주목받을 가치가 있을 것이다.

제1장 개요

6

특허정보 활용에 대한 국내 ․ 외 동향2

특허정보는 기술 신을 측정하기 한 지표로서 그 요성에 한 인식이 날로 높아

지고 있다. 이러한 분 기 속에서 미국, 유럽, 일본 등 주요 선진국에서는 특허정보를

활용한 다양한 분석 보고서와 연구기획 성과측정 방법들이 산출되고 있으며, 우리

나라에서도 국가연구개발사업 추진 시 특허정보가 활용될 수 있도록 다양한 유인정책

들이 마련되고 있다. 한, 최근 들어 국내의 주요 특허정보 련 공공기 과 특허정보

업체들에서도 특허정보를 이용한 다양한 분석 보고서들을 내놓기 시작하고 있다. 이하

에서는 주요 선진국들과 국내의 특허정보 활용 황을 간략히 살펴보도록 한다.

2.1 해외 동향

2.1.1 PTMD 보고서 (미국 특허상표청)

개요

미국에서는 국가의 지 자산인 특허의 보호, 유지 증진을 해 특허정보의 이용

을 극 화해야 할 필요성을 인식하고, 1971년 미국특허상표청(USPTO) 내에 기술평가

측 (TAF)을 설치하 다. 이 조직은 재 PTMD(Patent Technology Monitoring Division)로 개편되어 운 되고 있다.

PTMD는 연구보고서를 정기보고서와 비정기보고서로 구분하여 작성하고 있고, 이

보고서들은 미국과학재단(NSF)에서 격년으로 통령에게 보고하는 과학기술지표

(Science &　Engineering Indicator) 보고서 작성에 활용되고 있다. 한 미국과학재단

뿐만 아니라 미국 상무부 산하의 경제통계청(ESA : Economics and Statistics Administration), 국가기술 정보서비스(NTIS : National Technology Information Services) 등에서도 PTMD의 통계보고서를 활용하고 있다.

주요 내용

PTMD(기술평가 측 ) 통계보고서의 주요 내용은 다음과 같다.


7

◦ 기술 분야별 특허활동

◦ 외국인 거주자별 기술 분야별 특허활동

◦ 미국 내 특정 주 혹은 특정한 외국 국 출원인의 특허활동

◦ 출원인별 특허활동

◦ 특정한 표 산업분류에서의 특허활동과 경제활동의 비교 등

2.1.3 The New Innovators (미국 상무부)

개요

본 보고서는 미국 상무부(DOC) 기술정책국과 CHI社가 1998년에 발행한 것으로서, 미국, EU 15개국 기타 14개국에 한 5 기술분야1)의 미국특허 데이터(15년)를

분석하여 각국의 기술경쟁력을 상호 비교한 보고서이다.

주요 내용

국가별 특허, 과학기술 연구, 정책활동 등에 한 분석내용을 담고 있으며, Patenting Activity, Current Impact Index(CII), Activity Index(AI), Technological Strength(TS), Non-Patent Reference(NPR) Score, Technology Cycle Time(TCT) 등의 다양한 특허분석 지표들을 사용하여 각 국가들의 특허활동 국제경쟁력에 한

정보를 제공하고 있다.

2.1.4 차세대 자동차 기술 분야에서 미국의 경쟁력 (미국 상무부)

개요

본 보고서는 미국 상무부2)에서 미국 자동차 산업 분야의 경쟁력을 과거, 재, 미래로

1) ① Health sector (약품, 약제, 생체공학, 면역학테스 /진단, 의학장비, healthcare 련특허는 제외)

② Advanced Materials sector (세라믹, 경량합 , 합성물, 다이아몬드박막, 박막, 생체물질, 고온 도체 등)

③ Automotive sector(엔진, 트랜스미션, 서스펜션, 이크, 스티어링휠, 타이어, 차체, 샤시, 승객안 /

안락, 오염콘트롤 이들의 제조기술)

④ Information technology sector (디지털, 학 아날로그 컴퓨 하드웨어/소 트웨어(암호화, 음성

화상인식/ 로세싱, 데이터 장), 반도체제조 응용, 통신 련특허는 제외)

⑤ EPTL(Express Package Transportation and Logistics) (복합기술로 구분하기가 곤란함)

제1장 개요

8

구분하여 기술 치를 악한 것으로서, 미국의 특허 기술 컨설 회사인 CHI社에

서 작성하여 2003년 1월 29일에 미국 상무부 웹사이트3)를 통하여 게재되었다.

주요 내용

자동차 산업에서의 미국의 경쟁력을 분석하기 해 차세 자동차 분야의 요 요소를

11개의 카테고리로 분류하여 1983년부터 2001년까지 미국과 유럽에 등록 공개된 특

허데이터를 바탕으로 각 카테고리마다 4가지의 분석지표을 사용하여 분석을 수행하 다.◦ 분석지표

- 패 리특허 수(Patent Family) - 인용지수(Citation Index) - 과학지수(Science Index) - 신속도지수(Innovation Speed Index)]

◦ 기술별 카테고리(11개 기술 분야)- Automotive Fuel Cells- Hydrogen Storage- Advanced Batteries- Hybrid Electric Vehicles- Lightweight Materials- Ultracapacitors- Other Power Electronics (excluding Ultracapacitors)- Direct Injection Combustion- Emissions Control- New Combustion Regimes- Hydrogen Internal Combustion Engines (Hydrogen ICE)

2) The Technology Administration's Office of Technology Policy in cooperation with the U.S. Department

of Energy's Office of Freedom CAR and Vehicle Technologies

3) http://www.technology.gov/Reports.htm


9

2.1.5 국가 경쟁력 보고서 (호주)

개요

1999년 호주의 연구계획과 연구기 에 한 자문기 인 ARC(Australian Research Council)와 호주 최 의 국립과학연구기 인 CSIRO(Commonwealth Scientific and Industrial Research Organisation: 호주연방 산업과학연구 회)는 CHI Research Inc(미국)에게 특허정보 분석을 의뢰하여 특허 활동에 한 경향(Trend)과 국가별, 기술

별, 연구주체별로 호주인이 발명한 미국특허에 한 특허인용분석(Patent Citation Analysis)을 실시하 으며, 이를 바탕으로 2000년에 호주의 국가 경쟁력을 분석한“국가 경쟁력 보고서”가 발행되었다.

주요 내용

미국특허의 인용데이터를 바탕으로 호주인이 발명한 미국특허의 특허인용 분석과 특

허에 인용된 호주의 논문정보 호주인이 발명한 미국특허의 과학 기반 등에 한

분석결과를 통해 악된 호주의 기술 경향(Trend) 경쟁력 정보를 담고 있다.

2.1.6 특허유통지원차트 (일본)

개요

일본 발명 회는 독립행정법인 공업소유권 ․ 연수 의 탁을 받아 2001년부터 특허

유통지원차트를 작성해오고 있다. 특허유통지원차트는 소기업 등이 신규사업을 창출

하기 해 필요한 기술도입 기술이 활동을 지원하는 것을 목 으로 작성되고 있

으며, 기술별로 특허정보수집, 분석, 가공, 정리를 통해 기술개발동향과 특허출원 상

기업의 특허보유 황 등에 한 분석결과를 제공하고 있다.

주요 내용

특허유통지원차트는 다음과 같은 내용을 바탕으로 작성되고 있다.◦ 기술의 개요

◦ 특허정보의 엑세스

제1장 개요

10

◦ 기술개발활동의 황

◦ 기술개발의 과제와 해결방법

◦ 특허출원 상 기업의 특허활동

◦ 특허출원 상 기업의 기술개발거

한, 기술테마는 일본 발명 회 내에 구성되어 있는「특허유통지원차트 작성 원

회」에서 심의 후 결정하고 있으며, 참고로 2005년에는 새롭게 20개의 테마를 추가할

정에 있다.

2.2 국내 동향

2.2.1 한국의 특허동향 보고서 (특허청)

개요

특허청에서는 제10회 국가과학기술 원회에“기술 신역량강화를 한 특허정보 활용

확산방안”을 보고한 후, 동 보고의 후속조치로써 2002년부터 2004년까지 한국의 특허

동향 분석보고서를 발간하여 왔으며 재 한국의 특허동향 2005 작성 사업을 추진하

고 있는 이다.본 보고서는 국가과학기술정책 기업의 경 략 수립 시 문가 검토(Peer

Review)에 의존하던 기존의 방식을 보완할 수 있도록 체계 인 특허정보 분석을 제공

하여 보다 객 이고 합리 인 의사결정을 지원하고, 특허정보 활용 확산을 한 인

라를 구축하기 하여 발간된 특허정보 분석 활용 보고서이다.

주요 내용

국내 특허를 상으로 국가별, 출원인별, 기술별, 지역별 등 4가지 테마로 구분하여

각각의 동향을 나타낸 것으로, 특허 출원건수 등록건수를 바탕으로 주요 출원인 분

석, 국가 간 기술경쟁력 분석, 지역별 연구개발 산업클러스터 분석 등에 한 정보

를 제공하고 있다.


11

2.2.2 생명공학기술(BT) 특허동향 보고서 (특허청)

개요

본 보고서는 제13회 국가과학기술 원회(이하“국과 ”라 함)에서 의결된「BT분야

국가연구개발 심층평가」에 활용하기 하여 국과 의 요청에 의해 특허청이 추진한

시범사업으로 한국 생명공학분야의 기술개발 추세 기술수 을 악하고 국가연구개

발사업의 정책수립을 한 기 자료를 제공하기 해 작성된 보고서이다.

주요 내용

한국과 미국특허를 상으로 국내 생명공학분야의 기술수 과 기술개발 추이, 리더

융합기술의 황, 공동연구, 그리고 국내 연구개발사업의 성과 등에 한 내용을

주로 특허정보 분석을 실시하 다.

2.2.3 나노기술(NT) 특허분석 보고서 (특허청)

개요

나노기술의 경향(Trend) 시장 상황에 한 객 분석을 통하여 투자방향을

검하고 나노기술 산업화 정책수립에 반 하기 한 기 자료로서 발간된 특허정보 분

석 보고서이다.

주요 내용

주요 내용으로는 각 국의 나노기술에 한 동향과 세부기술 분야별 연구주체를 분석

하 으며, 주요국(한국, 미국, 일본, 유럽, PCT)의 특허를 상으로 거시 인 동향과

주요국 가운데 미국의 특허를 상으로 인용 분석을 통하여 한국의 기술경쟁력의 치

를 악하는 것을 주 내용으로 다루었다.

2.2.4 부품소재로드맵 보고서 (한국산업기술재단)

개요

한국산업기술재단(KOTEF)에서는 2005년에 부품소재와 련하여 특허분석이 반

제1장 개요

12

된 “부품소재로드맵”보고서를 발간하 다. 이 보고서는 특허정보를 활용하여 기술의

수 을 악하고 향후 기술개발 목표의 달성 가능성과 효율성을 타진하는 것을 목표로

하고 있다.

주요 내용

패 리 특허(Family Patent) 수와 삼극의 특허출원 권리 존속기간, 특허의 등록

여부 등을 기 으로 각각의 요도에 따라 가 치를 부여하여 특허의 요도를 반 하

는 분석방법을 사용하 다. 한, 특허정보를 활용하여 개발과제에 한 기술 수 을

비교하 으며, 특허의 요도를 계산하기 해 기술 특허의 험도를 수치화하여

부품소재에 한 기술 인 내용을 분석하 다.

2.2.5 GSM 휴대폰 특허동향 분석 (한국정보통신연구진흥원)

개요

최근 GSM 휴 폰의 핵심특허를 보유하고 있는 선진기업들이 후발업체인 국내업체들

에 한 시장진출을 쇄하고 경제 인 이익을 독 으로 얻기 하여 국내 업체에

해 특허침해 주장 많은 비용의 로열티를 요구하는 사례가 빈번하게 발생하고 있

다. 이와 같은 이유로 정보통신연구진흥원에서는 GSM 휴 폰과 련된 특허정보를 통

해 기술 인 동향을 분석하여 그 결과를 제공함으로써 련 업체들이 기술개발 략, 마 략, 수출 략 IPR 략 등을 수립하는데 도움을 주고자 본 보고서를 작성하

다.

주요 내용

한국, 미국, 일본, 유럽의 특허를 심으로 기술별, 출원인별 동향과 기술별 주요 기

업의 특허출원 동향 기술개발동향을 분석하 다. 한, 요도가 높은 것으로 단

되는 주요 특허를 선별하여 이들 기술의 인용 피인용 계를 분석함으로써 가장

향력 있는 기업 기업들 간의 의존도를 조사하 으며, 특허분쟁이 발생될 가능성이

높은 특허를 추출하여 이들 특허에 한 간략한 정성분석 결과와 함께, 기술표 과

련된 특허 리스트를 정리하여 제공하고 있다.


13

2.2.6 특허동향조사 보고서 (특허청)

개요

본 보고서는“국가과학기술 원회 후속조치 련 특허동향조사 시범사업”의 일환으로

국가연구개발 기획단계에서 특허정보를 분석하여 국가연구개발 정책수립을 한 기

자료로 사용되는 것을 목 으로 특허청과 한국특허정보원에서 작성된 보고서이다.

주요 내용

2005년 상반기 재, 산업자원부의 차세 , 성장동력 기거 연구개발사업에

포함된 로 , 바이오, 기 ․ 자 분야 등의 28개 기술 분야를 상으로 작성되었으며, 한국, 미국, 일본, 유럽 등의 특허를 상으로 국가별, 연구주체별, 기술별 특허동향에

한 분석결과를 제공하고 있다.

제1장 개요

14

특허분석 연구에 대한 국내 ․ 외 동향3

3.1 해외 동향

3.1.1 특허 4계보 (일본 IPB社)

개요

본 책자는 일본의 민간 컨설 기업인 IPB(Intellectual Property Bank)社에서 발간

하고 있는 간행물로서, 특허정보와 경 재무데이터를 상세하게 분석하여 기업의

황 악과 사업 략, 연구개발 략 지 재산 략 등의 수립에 도움을 수 있

도록 다양한 의 특허정보 분석방법과 분석결과들을 담고 있다.

주요 내용

본 보고서는 500개 기업을 상으로 각 기업의 재무데이터와 특허정보를 토 로 개

발한 평가지표를 사용하여 최근 특허출원내용 등에 한 상세한 분석을 수행하고, 특

허출원 포트폴리오의 일면을 추정함과 동시에, 이런 실 데이터로부터 짐작할 수 있

는 기술개발시장에서의 각 사의 경쟁력 등을 지수화하여 제공하고 있다.

3.1.2 특허통계 분석보고서 (미국 CHI社)

개요

CHI社는 과학기술 지표개발과 동향 분석을 주 업무로 하고 있는 조사 컨설 업체

로서 과학 기술력을 측정하는 다양한 분석지표(Indicators)들을 개발하 고, 미국과학

재단(NSF)의 연구용역 사업으로 특허정보 분석에 한 연구를 진행한 바 있으며, 자

체 인 특허지표를 사용한 분석보고서를 유상으로 매하고 있다.

주요 내용

CHI社는 미국등록특허를 보유한 31개국 1,600개 기업을 상으로 세부 인 통계를

작성하여 분석한 다양한 통계 보고서를 제공하고 있으며, 이 보고서들은 미국특허의 건

수에 따른 순 정보와 여러 지표들을 사용한 분석결과들을 담고 있다. 한, 미국특허


15

분류(USPC)를 기 으로 기업별 특허분포를 작성한「Patent Intelligence and Technology Report」, 자사의 특허 경쟁사의 특허를 보다 효율 으로 리하고 M&A작업에도

활용이 가능하도록 구성된「Patent Portfolio Service」등을 제공하고 있다.

3.1.3 COMPENDIUM OF PATENT STATISTICS (OECD)

개요

OECD에서는 과학과 기술 산업의 황을 악하기 한 측정지표로서 특허지표의

유용성을 인식하고, 특허통계에 한 일반 기 을 정립하기 해 삼극 특허청과 미국

과학재단과 함께 특허통계에 한 로젝트를 진행하고 있으며, 특허분석지표에 한

연구 수행의 결과로“COMPENDIUM OF PATENT STATISTICS”보고서를 발간하고 있다.

주요 내용

OECD에서는 특허지표를 정확하게 산출하기 하여 발명자의 주소 우선권 주장

일 등 지표산출의 기 을 정립하고 있으며, 이 연구 결과의 하나로서 EPO(유럽특허

청)와 USPTO(미국특허청)의 특허데이터에 한 통계 요약서를 발간하 다. 이 보고서

에서는 EPO 특허의 경우 우선권 주장년도를 기 으로 1999년까지, USPTO 특허의 경

우 1997년까지의 데이터에 해 분석한 결과를 제공한다.한 하나의 개별 국가 특허청에 출원된 특허정보를 사용하여 보고서를 작성할 경

우, 분석결과가 그 국가에게 유리하게 나타나는 상(home advantage) 등으로 인해

분석의 의미가 약해질 우려가 있고, 각 국의 특허제도에 차이가 있는 등의 문제를 고

려하여 OECD에서는 특허지표를 산출하는 데이터의 기 으로서 3극 특허(triadic patent families)를 심 으로 사용하여 특허분석을 실시하고 있다.

3.1.4 지적재산전략지표 연구 (일본 경제산업성)

개요

지 재산입국의 실 을 목표로 하고 있는 일본에서는「지 재산 략 강」(2002년

7월) 「지 재산의 창조, 보호 활용에 한 추진계획」(2003년 7월, 이하 「지

재산 추진계획」으로 지칭함)이 책정되어 경제 산업성에서는 2003년 10월부터 산업구

조심의회 지 재산정책부서 모임 아래에 경 ․ 정보개시 소 원회를 설치하여 지 재산

략지표에 한 검토를 진행하 다.

제1장 개요

16

주요 내용

국가 간의 경쟁력 비교를 수행할 수 있는 지 재산 략지표와 미시 인 에서

공개데이터에 근거하여 기업 간에 비교를 할 수 있는 지 재산 략지표 기업에서

의 략 지 재산 리를 한 지 재산 략지표(각 기업에 지표책정의 참고로 되

어야 할 가이드라인의 책정)를 심으로 연구개발과 지 재산 경제와의 상 계에

한 내용을 주요 내용으로 다루었다.

3.1.5 지적재산전략에 관한 종합적인 평가지표 (일본 문부과학성)

개요

본 보고서는 문부과학성에서「2003년 문부과학성 21세기형 산․학․ 의 연계방법 구

축에 한 로그램」의 탁을 받은 야마구 학의 산 ․ 학 ․ 연계 창업 지원기

구가 외부의 문가를 포함한 원회를 설치하여「 학의 지 재산에 련한 종합 인

평가지표」의 내용을 조사 검토한 결과를 종합한 것이다.

주요 내용

본 연구는「지 재산 추진계획」에 따라 각 학이 종합 인 평가지표를 선정하기

해 필요로 하는 과제를 조사 검토하는 것을 목 으로 하고 있다. 주요 연구내용

은 다음과 같다.◦ 지 재산의 가치평가와 련된 동향 과제

◦ 민간부분에 지 재산의 활용 평가의 상황 등을 조사·분석

◦ 학의 지 재산에 련한 종합 인 평가지표의 의미 검토

◦ 학의 데이터를 이용한 사례 연구의 실시

◦ 학의 특성에 따른 평가지표 모델 책정의 제안 등

3.1.6 해외선진국의 특허지표 활용사례

[표 1-1]은 해외선진국에서 통계분석자료로서 활용하고 있는 분석지표 가운데 특허

와 련된 지표를 선별한 후, 각 국의 연구기 을 상으로 지표항목들을 비교 분석하

여 살펴본 결과를 보여주고 있다.

제1절

연구

배경

17

해

외기

특허

지표

국제

특허

출원

(내외국

)

국제

특허

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표 1-1. 해외선진국의 특허지표 활용사례


19

3.2 국내 동향

3.2.1 특허맵 작성실무 (한국특허정보원)

개요

과거로부터 재에 이르기까지 반 인 기술의 흐름과 문제 을 해결하는 방법을

악하고 나아가 기술의 망과 신기술분야를 분석하여 미래의 기술에 처하기 하

여 한국특허정보원에서는 특허정보를 활용한“특허맵 작성실무”를 발간한 바 있다.

주요 내용

특허정보의 분류, 정리, 가공, 분석을 통해 산출된 자료를 도표나 그래 로 표 하여

사용자가 한 에 악할 수 있도록 하며, 체 인 기술 동향, 출원인 동향 복잡하

게 얽 있는 권리 계를 다각 으로 악할 수 있는 분석방법들을 주요 내용으로 하

고 있다.

3.2.2 특허분석지표 활용 가이드북 (한국특허정보원)

개요

과학기술의 활동을 이해하며 산업발 을 도모하기 한 수단으로 특허분석지표가 사

용되고 있는 상황에서 보다 체계 인 특허분석구축 시스템을 갖추기 하여 발간된 보

고서이다.

주요 내용

특허에 기재되어 있는 기술 인 내용을 통해 산업 과학기술의 동향을 분석하는

방법과 특허출원, 등록, 기술 분류 등의 다양한 서지정보를 통한 통계 분석방법, 거

시 ․ 미시 에서 기술의 흐름이나 분포를 악하기 한 다양한 특허분석지표를

설명하고 있으며, 특허와 아주 한 상 성이 있는 경제지표와의 연 성에 해서도

다루고 있다.

제1장 개요

20

3.2.3 국가혁신평가지표 개발 (과학기술부)

개요

과학기술부에서는 과학기술 심사회 구축 국가기술 신시스템 구축을 한 정책

의 효과 인 추진을 하여“기술 신본부”를 설치하고, 국가기술 신체제를 상시 으로

진단하고 미래의 방향성을 제시하는데 필요한 과학기술지표의 개발 운용에 한 보

고서를 발간하 다.

주요 내용

본 연구내용은 다음과 같이 크게 4가지로 나 어 볼 수 있다. ◦ 유럽, 미국, 일본 등 선진국의 기술 신지표에 한 조사 분석을 통하여

기본 인 지표항목들을 비교분석하 다.◦ 신뢰성 요건을 갖춘 측정항목에 한 상세한 설계를 수행하 다.◦ 국내의 지표항목별 자료 수집 분석에 한 주 부처 와 련부처간의

역할 분담 등 기술 신지표 운용체계를 설계하 다.◦ 기술 신지표 시스템 구축을 한 정책과제를 도출하 다.


21

기 타4

4.1 트리즈(TRIZ)를 활용한 방법4)

개요 정의

TRIZ는 구 소련에서 특허 업무를 담당하고 있던 Genrich S. Altshuller에 의해서 시

작되었다. 그는 발명들 사이에 어떤 계가 있다는 것을 발견하고 1946년부터 세계

특허를 분석하고 그 가운데 40만개의 신 인 특허들을 연구하여 신 이고 창의

발명 기법인 TRIZ를 개발하 다.“TRIZ”는 창의 문제해결 이론을 의미하는 러시아어(Теория Peшeния ИзобрeтeлЬс

ких Задач)의 머리문자를 쓴 것이고, 어로는 TIPS(Theory of Inventive Problem Solving)라고 한다. 구 소련시 부터 소련 내에서는 TRIZ에 한 교육이 등학교로부

터 학에 이르기까지 계속되고 있으며, 여러 가지 공학 문제를 해결하는데 TRIZ를

활용하고 있다.

주요 내용

트리즈를 활용한 기술진화 패턴과 그 사례를 통한 미래기술 측의 목표

◦ 개선되고 있는 시스템에 해서 새로운 아이디어 창조

◦ 시스템 발 방향의 측

◦ 특허 보호 장비를 만듦

◦ 경쟁회사의 특허 회피

트리즈를 활용한 기술진화 패턴과 그 사례를 통한 미래기술 측 방법으로 얻을 수

있는 것

◦ 기술진화 패턴을 따라서 분석 상에 해서 얻어진 정보의 조직화

◦ 주어진 기능을 구체화하는 유사시스템의 데이터베이스 얻기

◦ 발 하고 있는 시스템의 새로운 아이디어의 제공

4) 이경원 (2003), 기술 신이론, 트리즈에서의 기술 신, 기술진화 패턴과 비즈니스에의 응용, 제11회 한국

지식경 학회 학술심포지엄

제1장 개요

22

용 사례

국내에서의 표 인 트리즈 기술 진화 응용 사례 소개(한국아이템개발)◦ 유연성배 을 이용한 수형 양변기 배수 기술(국산신기술 NT, KT

인증, 세계 인 무동력 수, 소음 양변기 기술)- 고정된 물통 아래 S자 도기트랩(볼에 물을 담아 정화조에서 올라오

는 악취를 방지하나, 이 고정된 S자 트랩을 넘기는 물을 다량으로

소비하며 소음이 발생)- 그리하여 고정된 배 을 유연성이 있는 배 으로 교체하고 동 을

움직이게 매커니즘 복원 기구를 부착, 무동력 수(13리터→3리

터, 1/3 소음 발생)를 설치하 다.

출처 : 이경원 (2003), 기술혁신이론, 트리즈에서의 기술 혁신, 기술 진화 패턴과 비지니스에의 응용, 제11회 한국지식경영학회학술심포지엄

그림 1-1. 트리즈 기술진화 응용사례

4.2 데이터 마이닝(Data Mining)을 활용한 방법

개요 정의

데이터 마이닝이란 량의 실제 데이터로부터 묵시 이고 에는 알려지지 않았지만

잠재 으로 유용한 정보를 추출하는 것(Frawley et al, 1994)을 말하며, 규모 데이

터베이스 내에 포함된 량의 데이터 사이에 숨겨져 있는 상호 련성(relationship)과

로벌 패턴(parrern)에 한 탐색(Holshemier & Siebes, 1994)을 말한다.


23

주요 내용

량의 데이터로부터 패턴 인식기술과 통계기법, 수학 기법을 이용하여 의미있는

새로운 상 계, 패턴 그리고 추세(trends)를 발견하는 과정(Gartner Group)으로서, 량의 데이터로부터 쉽게 드러나지 않는 유용한 정보들을 추출하는 과정을 말하며,

결국 이 방법은 Bottom-up방식으로 데이터로부터 지식을 발견하는 것이다.

용 사례

◦ 데이터 마이닝을 이용한 특허 인용 분석 방법5)

- 본 사례는 서울 학교 산업공학과에서 연구한 것으로서, 특허 문서에

데이터 마이닝의 한 방법론인 텍스트 마이닝을 용하여 기존의 특허

인용 분석을 시스템 , 효율 으로 실행하 다.- 특허 문서에서 특허의 특징을 설명하는 주제어(Keyword)를 텍스트

마이닝을 통해 추출하고 이를 네트워크 분석을 이용하여 각 특허간

의 계를 살펴보았다.- CII(Current Impact Index)와 TCT(Technology Cycle Time)

TO(Technology Overlap) 등의 분석을 수행하 다.

출처 : 윤병운, 백재호, 박용태 (2001), 데이터 마이닝을 이용한 특허 인용 분석, 한국경영과학회/대한산업공학회춘계공동학술대회

그림 1-2. 데이터 마이닝을 활용한 특허 네트워크 구성

5) 윤병운, 백재호, 박용태 (2001), 데이터 마이닝을 이용한 특허 인용 분석, 한국경 과학회/ 한산업공학회

춘계공동학술 회.

제1장 개요

24

제2절 연구 목적 및 필요성

연구의 목적

특허정보의 활용에 한 국내외 동향 조사와 특허지표에 한 이해 증진 활용방

안에 한 지침의 제공, R&D 기획과 기술로드맵에 한 특허분석기법을 용한 방법

론의 제시 등 국가과학기술의 정책에 한 것을 기획할 경우, 보다 발 이며 구체

인 가이드라인을 제시하기 한 기 자료서의 제공을 목 으로 한다.세부 으로는 선진국(미국, 일본, 유럽 등)들이 개발 운용하고 있는 특허분석지표

들을 조사 분석하고, 특허분석지표의 개념을 정비한 후 분석 연구를 실시하여

향후, 기술로드맵의 보고서 작성 시 이를 효율 으로 이용 가능하도록 하는 것을 세부

목 으로 한다.

연구의 필요성

기술로드맵은 연구개발의 기획 시 활용되고 있으나, 좀 더 구체 인 방향성을 제시

하여 주고 정책에 효율 으로 반 하기 해서는 객 인 통계데이터를 근거로 하여

분석 연구를 실시한 자료의 필요성이 요구되고 있다.OECD, 미국 등 선진국들은 일 부터 특허분석지표에 한 연구를 수행하고 있으며,

국가과학기술정책의 기획 추진 시 이를 활용하는 등 지속 으로 개선 발 시키

고 있다. 이웃 국가인 일본에서도 특허분석지표에 한 분석 연구를 실시한 후, 이

를 국가과학기술정책의 기획 시에 활용하는 등 특허분석지표에 한 개발 연구 활

동은 시 한 과제라고 할 수 있다.재 국내에서는 이에 한 연구 활동이 이루어지고 있으나, 보다 체계 으로 정비

하고 활용이 가능한 단계까지는 아직까지 미치지 못하는 실정이므로 이를 극복하기

해서는 국내 여건에 부합하면서 기술로드맵에 유용하게 활용될 수 있는 특허정보 분석

지표에 한 연구가 필요한 것으로 단된다.


25


연구의 방법

본 연구수행을 하여 기본 으로 활용한 조사방법론으로는 인터넷 문헌조사를

실시하 고, 국내외 주요과학기술지표와 특허동향 보고서 기타 논문 등의 내용을

상세하게 분석하여 각 지표들의 의미 활용방법을 제시하 으며 향후, 기술로드맵에

효율 으로 활용할 수 있는 방안을 연구하 다.

연구보고서의 구성

개요

본 보고서는 특허정보를 이용하여 국내외 동향을 조사할 경우, 활용되는 특허지표에

한 이해 증진 활용방안에 한 지침 제공 연구개발 기획과 기술로드맵에 한

특허분석기법의 용 방법론 제시 등을 목 으로 하여 총 5장으로 구성하 다.

각 장의 주요 내용

◦ 특허분석의 개요

- 특허정보의 역사 발 과정과 특징, 장단 , 특허정보의 목 필

요성, 특허정보의 활용 분석에 한 국내외 동향 등을 나타내었다.◦ 특허지표

- 주요 특허지표를 사용 목 별로 분류하고, 각 지표별 정의, 개발배경

근거, 분석 의미와 용 역, 용방법, 장 약 을 서술하

고, 용사례를 소개함으로써 향후, 특허지표를 활용한 분석기법과

기술로드맵에의 용방법에 한 이해의 기반을 제공한다.◦ 특허분석기법

- 다양한 특허분석기법을 분석목 별로 분류하고, 각 분석기법의 분석

의미와 용방법 용사례를 시각화 도구들과 함께 제시함으

제1장 개요

26

로써, 정책 결정자의 분석결과에 한 이해도를 제고하고 분석실무자

에게는 특허분석의 지침을 제공한다.◦ 국내외 특허분석 용사례 평가

- 국내외 특허분석 사례를 조사하여 요한 분석사례들을 선정한 후, 사례별 특징을 분석 평가함으로써 향후, 기술로드맵과 특허분석

의 목 방법에 한 논의의 기틀을 제공한다.◦ 기술로드맵에의 특허분석 용방법

- 기술로드맵의 유형과 작성과정 작성기법을 확인하고, 유형별 는

목 별 기술로드맵에 용될 수 있는 특허분석기법과 용체계에

한 방법론을 제시한다.

연구보고서의 활용방법

본 보고서에서 언 한 분석지표의 내용 분석기법을 바탕으로 특허정보 분석에

한 이론 연구와 분석모델을 제공함으로써 향후, 기술로드맵 기타 정책보고서 작

성 시 기 자료로 활용될 수 있다.

제1절 특허건수의 계산 기준

제2절 기술혁신 활동의 집중도 분석지표

제3절 기술수준 분석지표

제4절 협력관계 및 지식흐름 분석지표

특허정보의 정량적 분석지표제2장

제1절 특허건수의 계산기준

29


일반인들이 많이 하게 되는 특허통계는 다음과 같은 내용들일 것이다.“11일 미국 특허청 발표에 따르면 삼성 자의 작년 미국 특허출원건수는

1,604건으로...”( 앙일보, 2005년 1월 12일자, E3면)“삼성 자는 지난해 미국에서 1,604건의 특허를 등록해 인텔을 제치고 6를 기록했었다”( 앙일보, 2005년 1월 17일자, E1면)

상기의 두 개 기사는 2005년 1월 11일에 미국특허청이 발표한 2004년 미국특허등

록 순 10개 기 을 근거로 보도된 내용이다. 왜 같은 발표내용에 한 기사가 하나

는 특허출원으로, 다른 하나는 특허등록으로 보도되고 있는가? 이와 같은 혼란이 발생

되는 것은 특허데이터가 제공하는 정보의 다양성에 한 이해의 부족에 그 원인이 있

다. 특허정보는 기술 신 활동, 특히 발명 활동과 련된 다양한 측면의 정보를 제공한

다. 그러나 이러한 특허정보의 다양성은 특허정보를 해석하는데 있어 세심한 주의와

특허제도에 한 반 인 이해를 요구하게 된다. 이하에서는 특허데이터가 제공하는

정보를 유형별로 구분하여, 특허건수를 계산하는 다양한 기 을 소개하고, 각각의 계산

기 이 가지는 분석 의미와 장단 을 살펴보기로 한다.

특허문헌의 서지정보

시간적 정보

• 우선일• 국제출원일• 통상의 출원일• 출원공개일• 특허등록일

주체적 정보

• 출원인• 발명자• 대리인• 심사관

기술분야 정보

• 국제특허분류• 국가, 지역별 특허분류

번호정보

• 출원번호• 공개번호• 우선권번호

분석기준의 선택

시간적 기준

• 각각의 時的 정보에 담겨있는 의미는 무엇인가?• 분석의 목적은 무엇인가?• 어떠한 時的 정보를 사용할 것인가?

주체적 기준

• 각각의 人的 정보에 담겨있는 의미는 무엇인가?• 분석의 목적은 무엇인가?• 어떠한 人的 정보를 사용할 것인가?

분석대상 집단의 구성

• 분석대상을 구성하는 가능한 방법들은?- 전세계 특허를 통합하여 분석- 개별 국가 또는 지역 특허별로 분석- 특허패밀리로 분석

• 각각의 방법들의 특징과 장단점은?• 분석의 목적은 무엇인가?

계산의 방법

• 복수의 데이터로 구성된 항목의 계산기준은 무엇인가?- 복수 출원인(공동출원)- 복수 발명자(공동발명)- 복수 기술분류

특허문헌의 서지정보

시간적 정보

• 우선일• 국제출원일• 통상의 출원일• 출원공개일• 특허등록일

주체적 정보

• 출원인• 발명자• 대리인• 심사관

기술분야 정보

• 국제특허분류• 국가, 지역별 특허분류

번호정보

• 출원번호• 공개번호• 우선권번호

분석기준의 선택

시간적 기준

• 각각의 時的 정보에 담겨있는 의미는 무엇인가?• 분석의 목적은 무엇인가?• 어떠한 時的 정보를 사용할 것인가?

주체적 기준

• 각각의 人的 정보에 담겨있는 의미는 무엇인가?• 분석의 목적은 무엇인가?• 어떠한 人的 정보를 사용할 것인가?

분석대상 집단의 구성

• 분석대상을 구성하는 가능한 방법들은?- 전세계 특허를 통합하여 분석- 개별 국가 또는 지역 특허별로 분석- 특허패밀리로 분석

• 각각의 방법들의 특징과 장단점은?• 분석의 목적은 무엇인가?

계산의 방법

• 복수의 데이터로 구성된 항목의 계산기준은 무엇인가?- 복수 출원인(공동출원)- 복수 발명자(공동발명)- 복수 기술분류

그림 2-1. 특허의 서지정보와 분석기 의 선택

제2장 특허정보의 정량적 분석지표

30

시간적 기준1

시간 개념과 련되는 특허정보는 매우 다양하다. 우선일, 국제출원일, 통상의 출

원일, 출원공개일, 특허등록일은 물론, 심사청구일, 권리소멸일 등이 그것이며, 이러한

정보들은 특허제도의 차 특징과 한 계를 이루고 있다.

1.1 특허취득의 절차

[그림 2-2]는 발명이 특허권으로 형성되는 과정을 도식 으로 간략히 보여주고 있

다. 선으로 표시된 우선권 주장과 국제출원의 국내단계 진입 차는 출원인의 결정에

따른 선택 차로서 필수 인 차는 아니다(우선권 주장이 없는 경우에는 우선일

인정에 따르는 기간의 이익을 받을 수 없으며, 국제출원에 한 국내단계 진입 차를

밟지 않으면 해당 국가 는 지역에서 특허권을 발생시키지 못한다). 이하에서는 각각

의 차와 련된 시간 정보들의 개념과 특징을 살펴보기로 한다.

국제출원(국제출원일)

국제공개(국제공개일)

우선권 주장의 기초출원(最先출원)(우선일)

국제조사

개별국ㆍ지역 출원(통상의 출원일)

특허등록(특허등록일)

출원공개(출원공개일)

국제출원 개별국ㆍ지역출원





우선권 주장의 기초출원(最先출원)(우선일)

국제조사국제조사







국제출원 개별국ㆍ지역출원

그림 2-2. 특허출원ㆍ등록의 일반 진행 차


31

우선일(Priority date)외국에 특허출원을 하는 경우 출원인은 최 출원( 부분 자국 출원)을 기 로 리

조약에 의한 우선권 주장을 할 수 있다. 우선권 주장은 최 출원일로부터 1년 이내에

가능하며, 출원인은 일정한 특허요건 심사 시 최 출원일에 해당 특허청에 출원된 것

으로 간주되는 “기간의 이익”을 릴 수 있다.국제출원일(PCT application date)특허 력조약(PCT)에 의한 국제출원을 하고자 하는 경우, 출원인은 수리 청에 국

제출원서를 제출함으로써 국제단계(International Phase)에 진입하게 된다. 국제출원일

(우선권 주장이 있는 경우 우선일)로부터 30개월 이내에 출원인은 지정국에 진입하기

한 차를 밟아야 하며, 진입 차가 이루어진 지정국에서는 해당 국가의 법 차

에 따라 특허심사 차(국내단계, National Phase)가 진행된다.통상의 출원일(Application date)일반 인 의미에서의 특허 출원일로서, 개별 국가( 는 지역)의 특허청에 출원서류

가 제출된 날을 의미한다. 국제출원의 경우 지정국에서 요구하는 번역문 등이 제출됨

으로써 국내 단계에 진입이 이루어진 날을 의미한다.출원공개일(Publication date)

부분의 국가들은 특허등록 이 일정 시 (일반 으로 우선일로부터 18개월 후)에

특허출원의 내용을 공개하는 제도를 운 하고 있다. 출원공개일은 이러한 제도에 의해

특허공개공보가 발간된 날짜를 의미한다. 미국의 경우 2001년 이 에는 출원공개제도

를 도입하지 않았음에 유의하여야 한다.특허등록일(Grant date)특허출원이 심사를 거쳐 특허요건을 모두 갖춘 것으로 인정되는 경우, 해당 출원은

특허등록이 됨으로써, 발명에 한 독 권리인 특허권을 발생시키게 된다. 특허등록

일은 특허권이 발생된 날짜를 의미한다(국가에 따라 특허등록일과 특허등록공보의 발

행일이 다를 수도 있다).


32

1.2 분석 기준시점의 선택

앞에서 살펴본 여러 가지 시간 정보들은 각자 나름 로의 분석 의미를 지니고

있다. 를 들어 등록년도를 기 으로 특정 연도의 등록건수를 계산한 결과는 해당 연

도에 그 국가에서 특정 기업 는 특정 국가의 법 권리가 어느 정도 확장되었는가를

보여주게 된다.지 까지 국내외의 주요 특허통계들은 보편 으로 특허건수를 출원년도와 등록년도

를 기 으로 계산하여 왔다. 그 이유로는 여러 가지가 논의될 수 있으나, 가장 큰 이유

는 이들 데이터가 상 으로 입수가 용이하며, 특허데이터에 본질 으로 내재되어 있

는 “시의 성(Timeliness)”과 련된 문제를 가려주기 때문이었을 것이다. 그러나 특

히 2001년 이 까지 출원공개제도를 채택하지 않았던 미국의 경우 등록년도를 기 으

로 특허통계가 작성될 때 실제 발명의 완성시 과 분석결과 간에 시간 격차가 발생

될 수 있다는 문제 들이 지 되어 왔으며, OECD도 출원년도와 등록년도 기 의 특허

통계에 한 문제 을 지 해 왔다.미국특허를 등록년도 기 으로 분석하는 경우의 문제 에 해 B. H. Hall(2001)은

등록년도보다는 출원년도가 발명의 완성시 에 더 가깝고, 출원시 부터 등록시 까지

의 경과기간은 특허청의 운 정책 등 여러 요소에 의해 향을 받으며 출원마다 큰 편

차를 나타낸다는 을 지 하고, 특허분석의 기 시 은 특허출원일이 되어야 한다고

주장하 다6).그러나 OECD(2001)는 이보다 한 발 더 나아가, 등록일을 사용한 통계의 문제 과 함

께 출원일 기 의 통계 한 우선일 기 의 통계보다는 발명의 완성시 과 시간 으로

더 거리가 있다는 을 지 하고, 기술 신 활동의 측정 지표로서 특허데이터를 사용하

는 경우에는 우선일을 통계의 기 시 으로 사용해야 한다고 결론내리고 있다7). 이후

지 까지 OECD의 특허통계에 한 일련의 보고서들은 OECD 특허통계의 공식 인 시간

기 으로 “우선일”을 사용하고 있다8).

6) B. H. Hall, A. Jaffe and M. Trajtenberg (2001), The NBER Patent Citations Data File: Lessons,

Insights and Methodological Tools, NBER Working Paper, 8498.

7) H. Dernis, D. Guellec and B. van Pottelsberghe (2001), Using Patent Counts for Cross-Country

Comparisons of Technology Output, STI Review, 27, OECD.

8) 실제로 한국특허 분석 시 국내특허청에 한 출원일을 기 으로 특허건수를 계산하는 경우에는, 리조

약에 의한 우선권 주장 출원과 한국을 지정국으로 하여 국내단계에 진입하는 PCT출원이 한국 특허청에

한 출원일 기 으로 계산되므로 외국인의 기술 신 활동이 내국인에 비하여 상 으로 늦게(최 30

개월까지) 나타나는 것처럼 보이는 일종의 “착시 상”이 나타나게 된다.


33

0

50,000

100,000

150,000

200,000

1985 1986 1987 1988 1989 1990 1991 1992 1993 1994 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 20030

50,000

100,000

150,000

200,000

priority date(partial data after 1998)

filing date(partial data after 1999)

date of grant

※ priority date(우선일), filing date(출원일), date of grant(등록일)

출처 : OECD (2004), Compendium of Patent Statistics 2004.

0

50,000

100,000

150,000

200,000

1985 1986 1987 1988 1989 1990 1991 1992 1993 1994 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 20030

50,000

100,000

150,000

200,000

priority date(partial data after 1998)

filing date(partial data after 1999)

date of grant

※ priority date(우선일), filing date(출원일), date of grant(등록일)


그림 2-3. 기 시 별 미국특허 등록건수

1.3 우선일 기준 사용시 고려사항

우선일 기 을 사용할 경우 가장 문제가 되는 은 최근의 특허출원(발명 활동 는

기술 신 활동) 황을 알 수 없다는 것이다9). 이러한 문제는 발명자의 이익보호를

해 발명의 내용이 공개되기까지의 유 기간(일반 으로 18개월), 우선권 주장을 한

유 기간(12개월) 국제출원의 지정국 진입까지의 유 기간(30개월)을 보장하는 특

허제도의 특성이 복합 으로 작용하여 최근 3~4년간의 특허출원 공개되지 않은 특

허출원이 존재하게 되는 제도 원인에 기인한다. 이러한 문제는 특허정보가 최근의

기술 신 활동을 반 하지 못한다는 부정 견해의 논거로 이용되기도 하며, 특허분석

가들이 출원일이나 등록일을 분석 기 시 으로 선호하는 주요한 이유이기도 하다.

9) 출원일 기 을 사용하는 경우에도 같은 문제 이 있으나, 우선일 기 을 사용하게 되면 미공개 데이터가

존재하는 “최근”의 기간이 보다 길어지게 된다.


34

그러나 일반 으로 특허는 련되는 제품이나 로세스가 실제 시장에 용되기 이

에 등록되는 것이 보통이므로 제조나 거래 련 정보에 비하여 신활동에 한 보

다 최신의 정보를 제공한다10). 한 기술 신 활동의 측정도구로서 특허지표만의 유일

하고 풍부한 장 한 분명히 유효하다. 이러한 이유로 OECD에서도 기술 신 활동

측정을 한 최 의 기 시 인 우선일을 특허통계의 기 으로 사용하고, 그로 인해

발생되는 “최근 정보의 부족”문제는 특허건수의 측기법으로 보완하려는 입장을 견지

하고 있다11).

1.4 특허건수의 예측기법

앞에서 살펴본 바와 같이 특허통계를 출원일 는 우선일 기 으로 산출하는 경우, 미공개 출원 는 국제출원의 국내단계 진입여부 불확정 등의 원인으로 “최근 정보의

부족” 는 “시의 성(Timeliness)의 부족” 문제가 발생된다. 이러한 문제를 보완하

는 방법으로서 특허(출원)건수의 측기법을 도입하는 방안을 생각해 볼 수 있다.특허출원량을 측하는 기법은 주로 산과 사업계획의 수립 문제와 연 되어 각국

의 특허청에서 사용되고 있다. 특허출원량은 경제 , 기술 , 제도 요인들에 의하여

향을 받으므로, 그에 한 측기법 한 다양한 방법으로 근될 수 있다. 를 들

어, 유럽특허청은 기사업계획(MTBP, Medium Term Business Plan)의 수립과 련

하여 산 재무계획 수립을 한 기 작업으로 특허출원 건수의 측작업을 수행

하고 있으며, 그 략 인 근방식은 3가지 정도로 구분될 수 있다12).․ 경향분석(Trend Analysis) - 과거의 출원경향에 한 정보를 바탕으로

외삽법 등의 정량 분석을 통하여 출원량을 측한다. 시계열 분석을

한 다양한 모델들이 용될 수 있다.․ 확산모델(Transfer Model) - 유럽, 미국, 일본에서 이루어진 최 특허출

원 정보를 활용하여 세계의 특허출원 건수를 추정하고, 이들 유럽특

허청에 (우선권 주장, PCT 출원 등을 통해)출원되는 비율을 이용하여 유

10) OECD (1994), Using Patent Data as Science and Technology Indicators - Patent Manual 1994,

OCDE/GD(94)114.

11) M. Khan and H. Dernis (2005), Impact of Patent Cooperation Treaty Data on EPO Patent Statistics

and Improving the Timeliness of EPO Indicators, STI Working Paper, 2005/2, OECD.

12) M. Nicolas and P. Hingley (2003), Forecasting the Number of European Patent Applications at the

European Patent Office, paper presented at the WIPO-OECD Workshop on Statistics in the Patent

Field, Geneva.


35

럽특허청에 한 미래 출원량을 측한다.․ 출원인 설문조사(Applicant Survey) - 출원인에 한 설문조사를 통하여

출원량 측을 한 기 정보를 수집하고, 이를 바탕으로 유럽특허청에

한 미래 출원량을 측한다.이밖에도 다양한 측기법이 고려될 수 있으며, OECD, WIPO 등의 국제기 과 유럽

특허청, 미국특허청 등의 주요 특허청에서는 이와 련된 연구가 계속 으로 진행

에 있다13)

※ Actual Filings(실제 출원건수), Long Term Trend(1980~2002년 추세선), Mid Term Trend(1992~2002년 추세선)

출처 : M. Nicolas and P. Hingley (2003), Forecasting the Number of European Patent Applications at the European Patent Office, WIPO-OECD Workshop on Statistics in the Patent Field.

※ Actual Filings(실제 출원건수), Long Term Trend(1980~2002년 추세선), Mid Term Trend(1992~2002년 추세선)

출처 : M. Nicolas and P. Hingley (2003), Forecasting the Number of European Patent Applications at the European Patent Office, WIPO-OECD Workshop on Statistics in the Patent Field.

그림 2-4. 경향분석에 의한 EPO 특허출원량 측사례(직 외삽법 용결과)

13) 각주 11), 12) C. Dehon and B. van Pottelsberghe (2003), Implementing a Forecasting Methodology

for PCT Applications at WIPO, paper presented at the WIPO-OECD Workshop on Statistics in the

Patent Field, Geneva.


36

주체적 기준2

특허데이터가 제공하는 주체 는 인 (人的) 정보는 크게 2가지로 나 어 볼 수

있다. 첫 번째는 특허(출원)에 한 권리의 주체인 특허출원인( 는 소유권자) 정보이

며, 두 번째는 특허의 내용을 구성하는 발명(기술 신) 활동의 주체인 발명자 정보이

다. 그 밖에 필요한 경우에는 해당 특허출원과 련되는 리인(변리사 등) 정보와 담

당 심사 정보 등도 제공받을 수 있다.

2.1 출원인과 발명자 정보의 분석적 의미

특허출원인( 는 소유권자)은 특허출원에 한 권리( 는 특허권)의 주체를 의미한

다. 발명에 한 소유권은 원칙 으로 발명자에게 귀속되나, 직무발명과 련된 계약사

항 등을 원인으로 발명에 한 권리가 소속 기업이나 기 는 국가에게 양도되는 경

우가 많이 발생한다. 따라서 특허출원인과 련된 데이터는 해당 기술에 한 법 권

리정보로서의 의미를 가지며, “기술 신 성과의 귀속 황”에 한 정보를 제공한다.이와 비교하여, 발명자 데이터는 실제 기술 신 활동을 수행한 발명자의 성명과 거

주지 국가( 는 국 ) 지역정보를 제공한다. 따라서 발명자 데이터를 사용한 특허

분석결과는 분석 상 기술분야의 주요 발명자 악, 특정 국가 는 지역의 “기술 신

활동 황” 악을 한 유용한 정보로 활용될 수 있다.

2.2 국가(지역)별 기술혁신 활동의 측정

특정 국가( 는 지역)의 기술 신 활동 황을 악하기 해 특허분석을 진행하는

경우, 국가별 분포는 어떠한 기 으로 계산되어야 하는가? 이러한 분석을 한 계산기

은 크게 3가지로 나 어 볼 수 있으며, 각각의 기 이 가지는 분석 의미를 고려하

여 분석목 에 따라 선별 으로 사용되어야 한다.․ 출원인 거주지 국가 - 특허의 소유 황, 즉 기술 신 성과의 국가별 귀속

황에 한 정보를 제공한다.․ 발명자 거주지 국가 - 발명활동의 지역 분포, 즉 기술 신 활동이 실제

로 이루어진 국가별 황에 한 정보를 제공한다.․ 우선권 기 출원 국가 - 발명에 한 출원이 최 로 이루어진 국가를 의

미한다. 특허 데이터의 인 데이터가 아닌 우선권 련 데이터로부터 추

출되며, 국가별 시장 매력도, 특허보호 수 , 특허획득 차와 특허청 심사

행정의 우수성 등에 한 정보를 제공한다.


37

상기의 3가지 기 어떠한 기 을 사용하여 분석하는가에 따라 매우 다른 분석결

과가 나올 수 있다. 물론 3가지 기 모두 나름 로의 분석 의미를 가지고 있으므로

분석가가 분석을 수행하는 목 에 따라 기 을 선택하여야 하지만, 일반 으로는 실제

각 국가에서 이루어지는 “기술 신 활동의 황”을 악하는 것을 목 으로 하는 경우

가 많으며, 이 경우에는 발명자 거주지 국가를 기 으로 선택하는 것이 좋다. 참고로

OECD는 일련의 보고서를 통해 특허통계를 한 국가별 분석기 으로 발명자 거주지

국가정보를 사용할 것임을 밝히고 있다14).

국우선권주장국가 발명자국 출원인국1985 1994 1985 1994 1985 1994

호주 0.00 0.01 1.13 0.71 1.07 0.65오스트리아 1.23 0.89 1.37 1.10 1.21 0.96벨기에 0.46 0.60 0.92 1.22 0.79 0.88캐나다 0.00 0.00 0.98 1.10 0.88 0.98체코 0.00 0.00 0.00 0.04 0.00 0.03덴마크 0.49 0.63 0.54 0.72 0.51 0.71핀란드 0.40 1.08 0.42 1.11 0.42 1.14

랑스 8.63 7.95 8.68 8.09 8.42 7.78독일 22.38 21.01 21.97 20.26 21.57 19.75그리스 0.01 0.04 0.02 0.05 0.01 0.04헝가리 0.00 0.00 0.27 0.07 0.27 0.05아이슬랜드 0.11 0.10 0.01 0.02 0.00 0.00아일랜드 0.07 0.09 0.09 0.13 0.07 0.15이탈리아 3.33 3.53 3.44 3.78 3.28 3.40일본 15.54 16.81 15.57 16.58 15.45 16.33한국 0.26 0.27 0.04 0.57 0.04 0.56룩셈부르크 0.22 0.04 0.08 0.04 0.19 0.10멕시코 0.11 0.04 0.00 0.02 0.00 0.01네덜란드 2.30 1.33 2.73 2.41 3.42 3.18뉴질랜드 0.50 0.26 0.10 0.10 0.10 0.10노르웨이 1.07 0.68 0.30 0.29 0.29 0.31폴란드 0.01 0.01 0.05 0.03 0.04 0.02포르투갈 0.01 0.02 0.01 0.02 0.01 0.02스페인 0.24 0.51 0.29 0.62 0.25 0.52스웨덴 2.19 2.12 2.25 2.14 2.20 2.20스 스 3.09 2.40 3.54 2.77 4.06 3.44터키 0.06 0.05 0.00 0.01 0.00 0.00

국 8.69 6.51 7.58 5.72 7.15 4.99미국 28.61 33.01 27.37 29.74 28.06 31.30OECD 100 100 100 100 100 100출처 : H. Dernis, D. Guellec and B. van Pottelsberghe (2001), Using Patent Counts for Cross-Country

Comparisons of Technology Output, STI Review, 27, OECD.

표 2-1. 분석기준 변화에 따른 국가별 EPO 출원 점유율

14) H. Dernis, D. Guellec and B. van Pottelsberghe (2001), Using Patent Counts for Cross-Country

Comparisons of Technology Output, STI Review, 27, OECD. ; H. Dernis and M. Khan (2004), Triadic

Patent Families Methodology, STI Working Paper, 2004/2, OECD.


38

2.3 기관(업체)별 기술혁신 활동의 측정

일반 으로 특정 기업 는 연구기 의 기술 신 황을 특허정보로 악하기 해

서는 출원인 데이터를 사용하여 분석이 이루어져야 한다. 재 특허 데이터에는 출원

인(소유권자) 정보와 발명자 정보가 포함되어 있으나, 양자 간의 계(발명자의 소속

기 정보 등)에 한 정보는 포함되어 있지 않으므로 발명자 정보를 사용하여 특정

기 의 기술 신 활동을 측정할 수는 없다.다만, 특정 기업의 연구개발 활동의 지역 분포나 핵심 연구개발자를 확인하고자

하는 경우에는 해당 기업이 출원( 는 소유)한 특허에 한 발명자의 거주지 국가와

주소 정보 는 발명자명에 한 분석을 통해 원하는 정보를 간 으로 얻을 수 있다.


39

복수 데이터에 대한 계산기준3

앞서 살펴본 바와 같이 특허분석과 련된 시간 , 주체 기 은 다양한 에서

설정되고 분석될 수 있다. 그러나 실제 분석과정에서는 결정되어야 할 복잡한 문제가

더 남아 있다. 이 문제는 하나의 특허출원에 한 특정 데이터 항목이 복수의 데이터

를 포함할 수 있다는 에 기인한다.우선, 하나의 특허출원에는 복수의 특허출원인과 발명자가 계되어 있을 수 있다. 를 들어, 어떤 특허출원의 출원인이 삼성 자와 IBM 2개 기 (두 업체의 공동소유)

일 경우, 이 특허출원은 통계분석 시 어느 업체의 연구 성과 는 기술 자산으로 계산

되어야 하는가? 해당 출원의 발명자가 한국 거주자 2명과 미국 거주자 3명(공동발명)이라고 할 때, 이 특허출원은 통계분석 시 어느 국가의 기술 신 활동을 반 하는 지

표로 계산되어야 하는가?마찬가지로 특정 특허출원이 속하는 기술분야와 련하여 같은 문제가 발생된다. 기

술의 복잡화와 융합화가 심화되고 있는 추세에 따라, 근래의 특허출원 기술은 특정한

하나의 기술분야에만 국한되는 경우를 찾아보기 어렵다. 오히려 여러 기술분야에 용

이 가능한 기술들이 상당 부분을 차지하며, 실제로 많은 국가들이 하나의 특허출원에

해 둘 이상의 기술분류 코드를 부여하고 있는 실정이다. 이 경우 해당 특허는 어떠

한 기술분야로 계산되어야 하는가?

3.1 공동출원(발명)의 계산방법

공동출원 는 공동발명에 한 계산방법은 여러 가지 기 에 따라 정해질 수 있다. 이하에서는 공동발명에 한 계산방법에 해 논의하고자 하며, 공동출원의 계산방법

도 같은 맥락에서 이해될 수 있을 것이다.우선, 공동발명에 한 계산방법은 다음과 같은 방법들이 제시될 수 있을 것이다.

․ 제1 발명자 기 - 일반 으로 가장 많은 기여를 한 발명자는 첫 번째 기

재된 발명자라는 가정 하에 제1 발명자 정보를 기 으로 분석을 수행한다.․ 복수 가산법(multiple counting) - 각 발명자에 해 특허 1건을 가산한

다. 이 방법을 사용하는 경우 발명자별 특허건수의 합계는 체 특허건수

를 넘어서게 된다.


40

․ 분율 가산법(fractional counting) - 각 발명자에게 평균 인 비율을 가산

한다. 를 들어 특허 1건에 발명자가 2명인 경우, 각각의 발명자에게는

특허 0.5건이 가산된다. 이 경우에는 발명자별 특허건수의 합계가 체 특

허건수와 일치하게 된다.가장 이상 인 방법은 출원인별 소유권 지분이나 발명자별 기여도에 따라 분율을 분

배하여 가산하는 방법일 것이다. 그러나 이러한 정보는 기업의 내부 비 정보 등으로

서 실 으로 얻기 곤란한 정보이므로, 상기의 3가지 기 최 의 기 을 선택해

야만 한다.상기의 3가지 방법 , 지 까지 많은 통계분석 보고서들은 제1 발명자 기 을 사용

하여 왔다. 그 이유는 통계 처리가 비교 간단하고, 체 건수의 합계가 실제 특허

건수의 합계와 일치하며, 특허 1건이라는 개념이 분석결과의 수요자들에게 명확히

달되는 장 이 있기 때문이었다. 그러나 이 기 이 제1 발명자 이외의 발명자들의 기

여부분을 무시하는 치명 인 단 이 있다는 은 부인할 수 없다. 한 복수 가산법의

경우, 각 발명자들의 특허건수 합계가 실제 특허건수보다 많아지게 되므로 실제 특허

활동이 과 평가되는 문제 이 있게 된다.이러한 문제 들에 한 인식을 바탕으로, OECD는 복수 발명자와 련되는 특허출

원 건수의 계산기 으로 상 으로 단 이 고 합리 인 것으로 단되는 분율 가산

법을 사용할 것임을 밝히고 있으나, 분석목 에 따라 복수 가산법이 사용되어야 하는

경우도 있다15).

3.2 복수 기술분류의 처리방법

앞에서 언 한 바와 같이, 많은 경우 하나의 특허출원은 여러 기술분야와 계를 갖

고 있으며, 실제로 하나의 특허출원에 여러 가지의 기술분류 코드가 부여되어 있는 경

우가 부분이다. 이러한 경우, 기술분야별 특허활동을 분석할 때 해당 특허출원을 어

떤 분야에 어떠한 방식으로 분배할 것인가의 문제가 발생한다.이러한 경우에도 앞서 살펴본 공동발명의 계산방법과 같은 처리방법들이 고려될 수

있을 것이다.


OCDE/GD(94)114. ; H. Dernis and M. Khan (2004), Triadic Patent Families Methodology, STI

Working Paper, 2004/2, OECD. ; OECD (2004), Compendium of Patent Statistics 2004.


41

․ 제1 기술분류 기 - 일반 으로 가장 연 성이 큰 기술분야는 첫 번째 기

재된 기술분야라는 가정 하에 제1 기술분류를 기 으로 분석을 수행한다.․ 복수 가산법(multiple counting) - 각 기술분야에 해 특허 1건을 가산한

다. 이 방법을 사용하는 경우 기술분야별 특허건수의 합계는 체 특허건

수를 넘어서게 된다.․ 분율 가산법(fractional counting) - 각 기술분야에 평균 인 비율을 가산

한다. 를 들어 특허 1건에 2개의 기술분류 코드가 부여되어 있는 경우, 각각의 기술분류에는 특허 0.5건이 가산된다. 이 경우에는 기술분야별 특

허건수의 합계가 체 특허건수와 일치하게 된다.복수의 기술분류를 처리하는 방법은 공동출원이나 공동발명의 처리방법과는 달리 고

려해야 할 사항이 더욱 많고, 복잡한 문제들이 련되어 있다. 특정 특허를 어떠한 기

술분야에 분류하는가는 분석목 ( 를 들어, R&D 투입에 분석 을 두는 경우와 기

술 신의 성과가 미치는 향에 분석 을 두는 경우)에 따라 분류기 이 달라질 수

있고, 지 까지 이와 련된 많은 연구들이 진행되어져 왔음에도 불구하고 명확한 기

이 제시되지 못하고 있다16). 실제로 다수의 특허 련 통계들은 다양한 계산기 을

용하고 있으며17), OECD 한 1994년의 매뉴얼18)에서 분율 가산법을 언 한 바 있

으나, 이후의 OECD 보고서들은 아직까지 복수 기술분류와 련된 계산기 에 해 명

확한 입장을 제시하고 있지 않다.

16) 이 문제와 련된 사례로서, 1970년 반 미국특허상표청(USPTO)에 의하여 설립된 OTAF(Office of

Technology Assessment and Forecast)는 미 과학재단(NSF)과의 계약에 의해 표 산업분류(SIC)에 의한

특허통계를 산출하는 업무를 수행한 바 있다. 이 작업을 해 OTAF는 특허분류와 표 산업분류 간에

응 계를 구성하 는데, 창기 이 응 계는 하나의 특허분류가 여러 개의 SIC에 연결되도록 구성

되어 있었으며, 각각의 SIC에 특정 특허가 복수 가산되어 통계수치가 산출되도록 하 다. 그 결과 당시

의 산업 황과는 달리 일본이 항공산업분야에서 특허활동이 증하는 것으로 나타나는 등 통계 오류

가 발견되어 많은 비 을 받은 바 있다. 이후 OTAF는 1985년 통계부터 분율 가산법을 도입하 으나,

분류와 련된 근본 인 문제는 해결되지 못한 것으로 평가되고 있다(Z. Griliches (1990), Patent

Statistics as Economic Indicators - A Survey Part Ⅰ, NBER Working Paper, 3301, NBER)

17) USPTO의 PTMD(Patent Technology Monitoring Division, OTAF의 後身)는 미국특허분류(USPC)별 통

계자료에 제1 분류 기 을 용하고 있으며, 유럽연합의 특허통계(Statistics in Focus, National Patent

Indicators, 2004. 9., Eurostat) 한 제1 국제특허분류(IPC)를 기 으로 사용하고 있다.


OCDE/GD(94)114.


42

삼극특허 패밀리4

지 까지 부분의 특허통계 자료들은 특정 국가( 는 지역)의 특허청에 출원된 특

허를 상으로 삼고 있다. 그 이유로는 자료의 입수와 분석이 용이하고, 해당 국가의

시장상황과 자국 내의 기술 신 활동을 잘 반 한다는 을 들 수 있을 것이다. 그러

나 이러한 통계결과들은 국가 는 기업 간의 기술경쟁력 비교와 평가를 한 지표로

사용할 경우 본질 인 결함을 갖고 있으며, 이러한 결 을 극복하기 한 해결책으로

특허 패 리를 이용한 통계분석 방법이 제시되고 있다. 이하에서는 최근 OECD가 특허

통계분석 방법으로 제시하고 있는 삼극특허 패 리에 한 내용을 간략히 소개하여 보

고자 한다19).

4.1 특허 패밀리의 정의

“특허 패 리”는 단일한 정의를 가진 개념은 아니며, 사용하는 주체와 상황에 따라

그 의미가 달라질 수 있는 개념이다. 따라서 어떠한 정의를 사용하는가에 따라 특허

패 리의 통계분석 결과는 매우 다른 분석 의미를 가지게 된다. 참고로 특허 패 리

에 한 유럽특허청(EPO)과 더웬트(Derwent)社의 정의를 소개해보기로 한다.․ EPO - 하나의 출원을 기 로 우선권 주장이 이루어진 특허출원의 집합체

로서, 우선권 주장의 기 출원 그 자체와 그것을 기 로 세계에 출원

된 모든 특허출원을 포함한다.․ Derwent Information Ltd. - 둘 이상의 국가에서, 는 둘 이상의 특허청

을 통해 보호를 요구하는 경우, 소 특허 패 리라는 개념이 형성된다.상기의 두 가지 정의 간에 가장 큰 차이 은 EPO의 정의에 따르면 하나의 국가 내

에서 우선권 주장 출원이 이루어지는 경우(국내우선권 주장 출원)에도 특허 패 리가

형성되는 반면, Derwent의 정의에 따르는 경우에는 반드시 둘 이상의 국가( 는 특허

청)에 특허출원이 이루어지는 경우에만 특허패 리가 형성된다는 이다. OECD는 기

술 신 성과의 측정을 한 지표로서의 특허지표의 질 측면과 국제 에서의 비

교가능성을 제고시키기 해서는 특허 패 리의 개념을 2개 국가( 는 특허청) 이상에

출원된 경우로 한정시키는 것이 바람직하다고 단하고, 삼극특허 패 리 분석을 한

19) H. Dernis and M. Khan (2004), Triadic Patent Families Methodology, STI Working Paper, 2004/2,

OECD.


43

기 작업으로 특허 패 리의 개념을 다음과 같이 정의하고 있다.“동일한 발명의 보호를 해 다양한 국가( 는 특허청)에 (우선권 주장 등

을 통해) 수된 특허들의 집합체”

4.2 특허 패밀리 통계의 장점

특정 국가의 특허에 한 통계결과가 가지는 결함 가장 잘 알려진 것은 소 자

국 우 에 의한 오류(home advantage bias)이다. 이 밖에도 개별국 특허에 한 통계

결과는 여러 가지 결 을 지니고 있다. 이하에서는 특허 패 리가 상 으로 이러한

결 들에 해 가지는 장 들을 살펴보도록 한다.자국 우 문제(home advantage)의 극복

일반 으로 개별 국가의 특허 데이터를 분석하게 되면, 자국인의 특허활동이 상

으로 과 평가되는 경향이 나타난다. 이러한 결 은 자국인이 외국인에 비해 지리 , 언어 , 제도 측면에서 상 으로 유리한 입장에 있다는 에 기인하며, 발명 활동

(기술 신 활동)이 활발한 국가일수록 이러한 상이 크게 나타난다. 특허 패 리는 2개국 이상에 출원된 특허출원들의 집합이므로 이러한 문제 을 감소 는 제거시킬 수

있게 된다.복수 가산 문제(double counting of multiple counting)의 극복

세계 범 에서의 특허활동 황 분석을 해 하나의 발명에 한 복수 국가로

의 특허출원을 각각 개별 특허출원처럼 계산할 경우 복수로 계산하게 되는 문제가 발

생된다. 특허 패 리는 하나의 발명에 한 특허출원들의 집합체이므로, 패 리 단 로

특허활동을 계산하는 경우에는 복수 가산의 문제를 피할 수 있게 된다.특정 국가 간의 특수한 계로부터 발생되는 문제의 감소

특정 국가의 특허 데이터를 분석하는 경우, 그 국가와 경제 , 제도 으로 특수한

계에 있는 외국의 특허활동이 과 는 과소평가되는 경우가 발생한다. 캐나다는 미

국에서 특히 활발한 특허활동을 펼치고 있으며, 일본은 독일에서 같은 경향을 보이는

것이 그 일례이다. 특허 패 리를 사용하는 경우에는 이러한 문제를 어느 정도 감소시

키는 효과를 얻을 수 있다.


44

특허 간의 가치 불균등 문제(skewed distribution of patents' value)의 감소

특허 데이터의 일반 단 으로 지 되는 것 하나는 개별 특허들의 기술 , 경제

가치가 크게 다르다는 것이다. 특허 패 리는 2개국 이상에 출원된 특허들의 집합

체이므로 이러한 결 을 어느 정도 감소시키게 된다. 왜냐하면, 특허 출원인이 외국에

특허를 출원하는 경우는 해당 특허의 가치가 그에 소요되는 비용과 노력 등을 상회한

다고 단한 것으로 볼 수 있으므로, 특허 패 리는 통상의 특허출원보다는 가치가 높

은 것으로 추정될 수 있기 때문이다.국가 간 특허제도의 차이 으로부터 발생하는 문제의 극복

재 모든 국가의 특허제도가 동일한 차와 법 요건을 사용하고 있지는 않다. 이

러한 제도 차이 은 국가별 특허통계 결과에도 차이 을 발생시키는 요인이 된다. 특허 패 리를 사용하는 경우 2개국 이상의 특허데이터가 사용되게 되므로, 이러한 문

제 을 극복할 수 있게 된다.

4.3 삼극특허 패밀리의 지역적 범위

OECD는 삼극특허 패 리를 명확히 정의하기 한 기 을 두 가지 측면에서 검토하

다. 하나는 지역 범 와 련된 기 (Geographical filter)이며, 나머지 하나는 하

나의 특허 패 리에 포함시켜야 할 개별 특허들의 구성범 (Consolidation filter)와

련된 기 이다. 이하에서는 먼 지역 범 와 련된 부분을 살펴보도록 한다.OECD는 삼극특허 패 리의 지역 기 을 설정하기 하여 3가지 정의를 가정한

후, 각각의 정의를 용할 때 발생되는 분석결과의 차이를 평가하 다. 그 3가지 정의

는 다음과 같다.․ 정의 A : 일본특허청(JPO), 미국특허청(USPTO) 유럽특허청(EPO)에 모

두 출원된 특허출원

․ 정의 B : JPO와 USPTO에 출원되고, 유럽지역에 해서는 유럽특허청에

출원되었거나 랑스, 독일, 국의 3개국 특허청에 모두 출원

된 특허출원

․ 정의 C : JPO와 USPTO에 출원되고, 유럽지역에 해서는 유럽특허청,


45

랑스 특허청, 독일 특허청 는 국 특허청 한 곳에라도 출

원된 특허출원

OECD는 상기 3가지의 정의가 개념 으로 내포하는 장단 들을 비교하고, 정의 A를

사용한 경우의 통계결과에 해 정의 B와 정의 C를 사용한 통계결과를 비교하여 국가

별 건수와 유율 순 변화의 정도를 평가하 다. 이러한 평가 차를 거친 결과, OECD는 정의 A를 향후 삼극특허 패 리의 지역 기 으로 사용할 것으로 결론내리

고 있다.

4.4 삼극특허 패밀리의 구성범위

삼극특허 패 리의 지역 기 과 함께 검토되어야 할 하나의 문제는 삼극특허

패 리를 구성하는 개별 특허들의 범 를 어떻게 한정지어야 하는가의 문제이다. 이러

한 문제가 논의되어야 하는 주요한 원인은 하나의 출원이 여러 개의 우선권 주장을 수

반할 수 있으며, 하나의 우선권 주장 기 출원으로부터 여러 개의 우선권 주장 출원

이 후속 출원될 수 있다는 에 있다. 이러한 제도 특징은 우선권 주장 간의 첩이

라는 문제를 야기한다.[표 2-2]는 우선권 주장 간의 첩 문제가 발생되는 일례를 보여주고 있다. 이와

같은 경우에 삼극특허 패 리는 어떻게 구성되어야 하는가?

USPTO 특허 JPO 특허 EPO 특허

U1 : {우선권 P1, 우선권 P2}U2 : {우선권 P2, 우선권 P3}

J1 : {우선권 P1}J2 : {우선권 P2}J3 : {우선권 P3}

E1 : {우선권 P1, 우선권 P2}E2 : {우선권 P2}E3 : {우선권 P3}

※ U1 등으로 표기된 항목은 각각의 특허청에 출원된 우선권 주장 출원을 의미하여 호 내에 기재된

사항은 해당 특허출원이 기 로 하고 있는 우선권 주장의 기 출원을 의미한다.출처 : H. Dernis and M. Khan (2004), Triadic Patent Families Methodology, STI Working Paper

2004/2, OECD.

표 2-2. 우선권 주장 사례

이러한 경우에 OECD는 특허 패 리 구성에 한 두 가지의 방법을 상정하고 있다. 하나는 분석 상 집단의 우선권 주장의 기 출원을 심으로 패 리를 구성하는 것

으로서, 이 경우에는 우선권 주장의 기 출원 수가 특허 패 리 수가 된다. 다른 하나

는 통합 기 (Consolidation Filter)이라는 개념을 용한 것으로서, 우선권 주장의


46

기 출원 간에 간 인 련성이 있는 경우까지도 하나의 특허 패 리로 구성하는

방법이다.․ 일반 특허 패 리(Basic Patent Families) - 3개의 특허 패 리

P1 ⊂ {U1, J1, E1}P2 ⊂ {U1, U2, J2, E1, E2}P3 ⊂ {U2, J3, E3}

․ 통합 특허 패 리(Consolidated Patent Families) - 1개의 특허 패 리

[P1, P2, P3] ⊂ {U1, U2, J1, J2, J3, E1, E2, E3}통합 기 (Consolidation Filter)을 용하는 경우, 특허 패 리의 개수는 크게 감

소하게 된다. OECD는 이 기 의 용을 통해 동일하거나 유사한 발명에 한 복수 가

산의 문제 과 국가별 특허제도의 특징이나 특허 략의 특징으로부터 발생되는 오류를

극복함으로써, 국제 차원에서의 국가 간 비교가능성을 제고시킬 수 있는 것으로 보

고 있다. 앞서 살펴본 삼극특허 패 리의 지역 기 과 통합 기 을 종합해보면, OECD의 삼극특허 패 리는 다음과 같이 정의될 수 있다.

“EPO, JPO USPTO에 모두 출원되고, 하나 이상의 우선권 기 출원을

공유하는 특허출원의 집합체”

출처 : H. Dernis and M. Khan (2004), Triadic Patent Families Methodology, STI Working Paper 2004/2, OECD.출처 : H. Dernis and M. Khan (2004), Triadic Patent Families Methodology, STI Working Paper 2004/2, OECD.

그림 2-5. 1997년 삼극특허 패 리의 국가별 유율


47

4.5 삼극특허 패밀리 분석 시 고려사항

우선, OECD의 삼극특허 패 리 정의에 한 지역 기 의 측면을 살펴보면, OECD는 가정된 3가지 정의 간에 분석결과의 차이가 크지 않다는 을 제로 하고 있다.

부분의 주요 국가들은 이러한 제를 만족시키지만, OECD도 지 하 듯이 한국의

경우 독특한 상이 나타난다. 삼극특허 패 리의 지역 범 를 EPO, JPO

USPTO로 한정할 경우 한국은 상 으로 특허활동이 과소평가되는 결과를 보인 것이

다. 이는 한국의 출원인들이 유럽지역에 특허출원을 하는 경우에 유럽특허청(EPO)을

통한 출원보다는 랑스, 국, 독일 등의 개별국 특허청에 특허출원을 하는 경향이 상

으로 강하다는 것을 의미한다. 물론 이러한 성향은 차 어들고 있으나, 재로

서는 OECD 기 에 따라 삼극특허 패 리 분석을 수행하는 경우에는 한국이 상 으

로 평가될 수 있다는 을 인식하고 있어야 한다.한 특허 패 리 분석을 하는 경우에 일반 으로 발생될 수 있는 문제 으로는 우

선권 주장에 의해 묶여진 패 리 내에는 모두 같은 발명내용으로 구성된 특허들만 존

재하는 것은 아니라는 이다. 최 출원을 기 로 개량된 내용의 발명이 우선권을 주

장하며 출원될 수도 있음을 고려하여 볼 때, 우선일을 기 으로 특허 패 리를 계산하

는 경우에는 개량발명의 발명완성 시 이 실제보다 앞당겨진 상태로 평가되는 문제가

내재되어 있다. 더욱이 OECD의 통합 기 (Consolidation Filter)을 용하게 되면 이

러한 문제는 보다 심각해진다.


48


모든 국가는 나름 로의 특징 인 산업구조를 가지고 있으며, 모든 기업은 자신이 주

로 활동하는 산업분야가 있기 마련이다. 이러한 동향은 국가별 수출입 황, 시장구조

등에 한 분석을 통해 그 윤곽을 악하는 것이 일반 이다. 그러나 산업구조가 신

구조, 특히 기술 신 활동과 련된 R&D구조를 직 으로 보여주는 것은 아니다.특허정보를 통한 기술특화 황 분석은 기술 신 활동의 구조를 악하기 한 유용

한 도구를 제공한다. 특히 특허데이터를 사용한 기술 신 활동의 집 도 분석은 신성과

의 측면에 이 맞추어진 신활동의 특화(specialization) 황과 신성과의 독과

황에 한 정보를 제공한다.이번 에서는 크게 두 가지 의 기술 집 도 분석 지표를 소개하기로 한다. 첫

째로는 특정 주체, 즉 특정 국가 는 기업이 어느 기술분야에 집 으로 신활동을

개하고 있는가를 살펴보기 한 지표를 소개할 것이며, 둘째로는 시장의 에서

기술 신 성과가 특정 국가 는 기업에게 어느 정도 집 되고 있는가, 즉 기술독

황에 한 분석지표를 소개하기로 한다.

기술영역 A

기술영역 B

기술영역 C

.

.

.

혁신주체?

기술영역

혁신주체 A

?혁신주체 B

혁신주체 C

.

.

.

기술특화현황분석

기술독점현황분석

• 현시기술우위 지수(RTA)

• 현시특허우위 지수(RPA)

• 집중률 지수(CRn)

• 허핀달 지수(HHI)

기술영역 A기술영역 A

기술영역 B기술영역 B

기술영역 C기술영역 C

.

.

.

혁신주체혁신주체?

기술영역기술영역

혁신주체 A혁신주체 A

?혁신주체 B혁신주체 B

혁신주체 C혁신주체 C

.

.

.

기술특화현황분석

기술독점현황분석

• 현시기술우위 지수(RTA)

• 현시특허우위 지수(RPA)

• 집중률 지수(CRn)

• 허핀달 지수(HHI)

그림 2-6. 기술 신 활동의 집 도 분석 지표


49

현시기술우위 지수(Revealed Technological Advantage)1

1.1 개요

시기술우 지수(RTA)는 기술 특화(specialization) 황의 악을 해 가장 많이

사용되는 지수 하나로서, 우리가 심의 상으로 삼는 특정 주체가 다른 주체와

비교하여 상 으로 어떠한 기술분야에 기술 신 활동을 집 하고 있는가에 한 정

보를 제공한다. RTA 지수는 일반 으로는 특허활동지수(AI, Activity Index)로 알려져

있으며, 특화지수(Specialization Index), 기술비교우 지수(TCA, Technological Comparative Advantage), 기술 시비교우 지수(TRCA, Technological Revealed Comparative Advantage) 등 다양한 명칭으로 사용되고 있다.

1.2 정의

RTA 지수는 다음과 같은 수식으로 산출된다. 아래의 수식에서 분자는 j의 특허에서

i 분야가 차지하는 비율을 의미하며, 분모는 분야의 특허에서 i 분야가 차지하는 비

율을 의미한다.

(Pij는 i 분야에 한 j의 특허 수)

1.3 배경 및 근거

RTA 지수는 국제무역의 국가별 특화(Specialization) 황을 분석하기 해 B. Balassa가 제시한 시비교우 지수(RCA, Revealed Comparative Advantage)20)로부터 발

된 개념이다21). 이 지수는 주로 SPRU(Science Policy Research Unit at the 20) B. Balassa (1965), Trade Liberalization and Revealed Comparative Advantage, The Manchester School

of Economics and Social Studies, 32(2).

21) L. Soete (1980), The Impact of Technological Innovation on International Trade Patterns - The

Evidence Reconsidered, paper presented to a OECD Science and Technology Indicators Conference,

Paris. ; L. Soete (1981), A General Test of Technological Gap Trade Theory, Weltwirtschaftliches

Archiv, 117. ; L. Soete (1987), The Impact of Technological Innovation on International Trade

Patterns - The Evidence Reconsidered, Research Policy, 16, 101-130.


50

University of Sussex)의 연구자들(Soete, Pavitt, Patel)과 리딩 학(University of Reading)의 J. Cantwell과 같은 연구자들을 심으로 연구되어 이후 다양한 형태의 지

수로 변형, 발 되었다.

1.4 분석적 의미 및 적용영역

RTA 지수는 0부터 무한 까지의 범 에 분포하게 되며, 그 수치에 따라 다음과 같

은 분석 의미를 갖는다.RTA = 1이 경우에는 심의 상이 되는 국가 는 기업의 특허에서 특정 기술

분야가 차지하는 비율이 체 기술분야에서 해당 기술분야가 차지하는

평균 비율과 같다는 것을 의미한다. 즉, 분석 상 국가 는 업체가

특정 기술분야에 집 하는 정도가 체 산업계의 평균 인 수 인 것으

로 해석되는 경우이다.RTA < 1RTA 값이 1보다 작은 경우는 상 국가 는 기업이 해당 기술분야에

상 으로 덜 집 하고 있는 경우이다.RTA > 1이 경우는 상 국가 는 기업이 해당 기술분야에 업계의 평균 인 수

이상으로 집 하고 있는 경우이며, 그 값이 클수록 특정 기술분야에

특화된 정도가 높다는 것으로 해석될 수 있다.RTA 지수는 심의 상인 국가 는 기업이 특정 기술분야에 상 으로 어느 정

도 특화되어 있는가를 악하고자 하는 경우에 유용하게 사용될 수 있다.

1.5 장점 및 약점

단순한 특허 유율이나 특허 건수만으로는 특정 국가 는 기업의 특화 분야를

악하는 것이 곤란하다. 를 들어 A社의 화학분야 특허 건수 는 화학분야에서 A社 특허가 차지하는 유율만으로는 A社의 기술 신 활동이 화학분야에 어느 정도 집 되

고 있는가를 평가할 수 없다. 한 A社의 특허 화학분야 특허가 차지하는 비율은


51

이 분야에 한 A社의 집 도를 보여주지만, 산업분야에서 화학분야가 차지

하는 비율이 고려되지 않은 상태의 정보만을 제공해 다. 이에 반하여 RTA 지수는

산업분야에 한 각 기술분야의 평균 인 유율이 고려된 상 특화 황에 한

정보를 제공한다.그러나, RTA 지수는 특정 국가 는 기업의 기술경쟁력이나 기술 우 를 직

으로 보여주는 지표는 아니다. 시기술우 지수라는 명칭에서 “우 ”라는 표 은 질

우 를 의미하는 것도, 양 우 를 의미하는 것도 아님에 주의해야 한다. RTA 지

수는 앞에서도 강조되었듯이 산업분야에서 각 기술분야가 차지하는 비율을 고려하

여 계산된 특정 국가 는 기업의 기술분야별 상 특화(Specialization) 황에

한 정보를 제공하는 지표라는 을 명심해야 한다.한, 일반 으로 RTA 지수는 J. Cantwell22)이 지 한 바와 같이 분석 상 집단의

규모가 작을 경우에는 통계 의미를 갖기 어렵게 된다. 통계 으로 만족할만한 결과

를 얻기 해서는 분석 상 집단이 최소 30개 분야에 걸쳐있는 1,000개 정도의 특허

들로 구성되어 있어야 하는 것으로 추정되고 있다23).마지막으로, RTA 지수는 1을 심으로 0부터 무한 값까지 분포되므로 그 값이 비

칭 (skewed)으로 나타나는 문제 이 있다. 이 문제 을 해결하기 한 다양한 연구

결과들과 지표( 를 들어, RPA)들이 제시되고 있으며, 이에 한 구체 인 내용은 해

당 부분에서 서술하기로 한다.

22) J. Cantwell (1993), Transnational Corporations and Innovatory Activities, London, Routledge.

23) Y. Uchida and P. Cook (2004), The Effects of Competition on Technological and Trade Competitiveness

- A Preliminary Examination, CRC Working Paper, 72, Centre on Regulation and Competition.


52

1.6 적용방법

RTA 지수를 이용한 분석은 일반 인 기술분야별 분석 지표들과 마찬가지로 상 기

술분야를 어떻게 정의하는가에 따라 그 결과가 다르게 나올 수 있으므로, 분석목 등

을 고려하여 기술분야를 신 하게 정해야 한다. 한 분석의 시간 기 을 정함에 있

어서 우선일을 기 으로 하는 경우와 출원일 는 등록일을 기 으로 하는 경우는 그

분석결과가 내포한 의미가 달라질 수 있음은 앞에서 논의한 바와 같다.

1.7 적용사례

2004년 특허청과 한국특허정보원은 한국과 미국특허를 상으로 생명공학분야에

한 국가별, 기술별 연구개발 동향 경쟁력 분석을 수행하 다. [그림 2-7]은 그 분

석결과 일부로서, 1986년부터 2001년까지 한국에 출원된 각 국가들의 생명공학분

야 특허를 상으로 RTA 지수24) 분석을 수행한 결과이다.아래의 분석결과는 한국과 일본에 비해 미국과 유럽의 여러 국가들이 생명공학분야

에 특허출원이 상 으로 집 되고 있다는 사실을 직 으로 보여주는 것이며, 이를

통해 우리는 미국과 유럽 주요 국가들의 기술 신 활동이 생명공학분야에 상 으로

집 되고 있다는 것을 간 으로 확인할 수 있다.한, 아래의 분석결과를 통해 RTA 지수의 비 칭성을 확인할 수 있다. 평균 인

특화수 을 의미하는 값인 1을 기 으로 RTA 값이 1이상의 방향으로 편향되어 나타

나있으며, 이는 1 이상의 값과 1 이하의 값이 각각 1로부터 떨어져 있는 거리를 통해

특화의 정도를 상 으로 단하기 어렵다는 RTA 지수의 단 을 보여주는 것이다.

24) 이 보고서에서는 RTA 지수가 특허활동지수(AI, Activity Index)라는 명칭으로 사용되었다.


53

1. 제1 출원인 국적 및 제1 IPC(국제특허분류) 기준2. '85~'01년 다출원 10개국

0.80

2.592.02

1.57

3.152.77

1.62 1.29

9.16

0.680.00

2.00

4.00

6.00

8.00

10.00

12.00

14.00

16.00

한국 미국 일본 독일 영국 스위스 프랑스 네덜란드 덴마크 이탈리아

86~89

90~93

94~97

98~01

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), 생명공학 특허동향.

1. 제1 출원인 국적 및 제1 IPC(국제특허분류) 기준2. '85~'01년 다출원 10개국

0.80

2.592.02

1.57

3.152.77

1.62 1.29

9.16

0.680.00

2.00

4.00

6.00

8.00

10.00

12.00

14.00

16.00

한국 미국 일본 독일 영국 스위스 프랑스 네덜란드 덴마크 이탈리아

86~89

90~93

94~97

98~01


그림 2-7. 국가별 생명공학분야 특허활동지수(Activity Index)

하나의 사례로서, [그림 2-8]은 유럽특허청 데이터를 사용하여 49개 기술분야에

해 스 스의 RTA 지수를 분석한 결과를 보여주고 있다. 아래의 그래 에서 생명공

학 분야(12번)를 로서 살펴보면, 80년 반에는 스 스가 생명공학분야에 기술

신 활동을 상 으로 집 하지 않고 있었으나, 90년 반에는 이 분야에 한 스

스의 상 인 기술 특화도가 높아진 것으로 나타났다25).

25) 원문은 분석결과를 다음과 같이 표 하고 있다. “A special mention deserves the case of

biotechnology(12). Although relevant weakness were present at the beginning of the 80s, Switzerland

has recovered lost ground in this emerging technology which has become an area of relative

specialisation for the country."


54

출처 : S. Breschi, R. Helg (1996), Technological Change and International Competitivness – The Case of Switzerland, Liuc Papers, 31, Serie Economia e Impresa 7.

그림 2-8. 80년 와 90년 반 스 스의 RTA 분석결과


55

현시특허우위 지수(Revealed Patent Advantage)2

2.1 개요

시특허우 지수(RPA)는 RTA 지수와 마찬가지로 특정 기술분야에 한 집 도

는 특화(Specialization) 황을 보여주는 지표이다. 분석 의미는 RTA 지수와 동일

하나, RTA 지수의 비 칭성(Skewness)을 극복하고 지수의 정규성(normality)을 확보

하기 해 고안되었다.

2.2 정의

RPA와 RTA의 계 RPA 값을 산출하는 수식은 다음과 같다.


RPA 지수는 시경쟁우 지수(RCA)와 시기술우 지수(RTA)의 문제 을 해결

하기 한 일련의 연구과정의 결과로 개발되었다. RTA 지수는 RCA 지수로부터 발

된 개념이며, 계산방법도 사용 변수만 틀릴 뿐, 실제로는 동일한 구조의 지표임은 앞서

살펴본 바와 같다. 따라서 RTA 지수가 가지는 비 칭성(skewness)의 문제는 사실

RCA 지수가 가지는 단 하나 으며, RCA 지수의 비 칭성 문제를 해결하기 한

연구성과들26)은 RPA 지수의 탄생과정과 한 연 을 가지고 있다.H. Grupp27)은 RCA 지수의 비 칭성 문제를 해결하기 해 제시된 칭성 시경쟁

26) RCA의 비 칭성 문제를 해결하기 해 RCA의 로그값을 사용한 지표가 제안되었다. 그러나 ln(RCA)값

은 RCA값의 변화에 매우 민감하게 반응한다는 문제 이 지 되었으며, 이 문제를 극복하기 해 RCA

에 은 값을 가산시키는 방법이 제시되었다(ln(RCA+0.1)). 그러나, 이 방법도 가산되는 값의 크기에

한 기 이 모호하다는 단 을 가지고 있었다, Laursen과 Engedal은 이러한 문제들을 해결하기 해

칭성 RCA(RSCA)라는 지수를 제안하 다((RCA-1)/(RCA+1))


56

우 지수(RSCA, Revealed Symmetric Comparative Advantage)와 매우 유사한 RPA 지수를 제안하여 RTA 지수의 비 칭성 문제를 해결하 다. 참고로 RTA 지수의 비

칭성 문제 해결을 한 지표로 칭성 기술경쟁우 지수(STCA, Symmetric Technological Comparative Advantage)가 사용되기도 하는데, 이 지수는 RSCA와 같은 개념의 지표

이다28)29).


RPA 지수는 RTA 지수와 분석 의미 용 역이 동일하다. 다만, 차이가 있는

것은 RTA 지수의 경우 1을 기 으로 0과 무한 사이에 비 칭 으로 분포하게 되나, RPA 값은 0을 기 으로 -100과 100 사이에 칭 으로 분포한다는 이다.


RPA 지수는 RTA 지수와 마찬가지로 산업분야에서 각 기술분야가 차지하는 비율

이 고려된 특정 주체의 기술 특화 황에 한 유용한 정보를 제공한다. 한, RTA 지수의 문제 으로 지 되는 비 칭성의 문제도 가지고 있지 않다.

그러나, 분석 상 집단의 규모가 작은 경우에 통계 의미를 가지지 못한다는 과

지표 값이 제공하는 분석 의미가 기술의 질 우 와 양 우 를 직 으로 보여

주는 것은 아니라는 은 RTA 지수와 동일하다.

2.6 적용방법

RPA 분석과정 분석 시 주의사항은 RTA 값을 정규화시키기 한 과정을 제외하

고는, 기본 으로 RTA 분석과정 주의사항과 동일하다.

27) H.Grupp (1994), The Measurement of Technical Performance of Innovations by Technometrics and

Its Impact on Established Technology Indicators, Research Policy, 23, 175-193.

28) Y. Uchida and P. Cook (2004), The Effects of Competition on Technological and Trade Competitiveness

- A Preliminary Examination, CRC Working Paper, 72, Centre on Regulation and Competition.

29) RSCA는 SRCA(Symmetric Revealed Comparative Advantage), STCA는 SRTA(Standardized Revealed

Technological Advantage) 등의 다양한 명칭으로 사용되고 있다(M. Fleischer (2003), Regulation and

Innovation in the Chemical Industry - A Comparison of the EU, Japan and the USA, Surface Coating

International Part B, 86, B1.).


57

2.7 적용사례

아래의 사례는 1975년부터 1997년까지의 화학분야 미국특허를 상으로 세부 분야

별 RPA 분석을 실시한 결과이다. RPA 지수는 RTA 지수와는 달리 0을 기 으로

-100과 100까지 값이 칭 으로 분포되어 있음을 확인할 수 있다.이 분석결과를 통해 유럽의 기술특화 황을 살펴보면, 유럽은 유기화학(C07), 보건

(A61), 농업(A01) 염료 등(C09)의 분야에 상 으로 집 하고 있는 반면, 인쇄

(B32)와 기(H01) 분야에서는 약세를 보이고 있는 것을 확인할 수 있다.

출처 : M. Fleischer (2003), Regulation and Innovation in the Chemical Industry – A Comparisonof the EU, Japan and the USA, Surface Coating International Part B, 86, B1.

그림 2-9. 화학분야 미국특허에 한 국가별 RPA(1975-1997)

참고로, RPA 지수와 유사한 지수인 SRTA 지수를 이용한 사례를 소개해 본다. [그

림 2-10]은 유럽특허청과 OECD의 데이터를 사용하여 1990년부터 1992년까지 37개

기술분야에 한 스 스의 SRCA와 SRTA 분석을 실시한 결과이다.체 으로는 무역의 에서 바라본 경쟁우 (SRCA)와 기술의 에서 바라본

경쟁우 (SRTA)가 양의 상 계를 나타내고 있다. 그러나 무기분야(47번)와 같이

기술 신 활동이 집 되고는 있으나, 이것이 무역(수출)에서의 경쟁우 로 연결되지

못하고 있는 분야가 있으며, 그 반 의 상이 나타나는 분야( 기시스템, 41번)도 나

타났다.


58

출처 : S. Breschi, R. Helg (1996), Technological Change and International Competitivness – The Case of Switzerland,Liuc Papers, 31, Serie Economia e Impresa 7.

그림 2-10. 1990년～1992년 스 스의 SRCA SRTA 분석결과


59

집중률 지수(CRn, Concentration Ratio n)3

3.1 개요

집 률 지수(CRn)는 원래 시장에서의 독과 수 을 평가하기 해 사용되는 지표이

다. 우리는 이 지표를 특허정보에 응용함으로써 특정 산업부문에서 기술 독과 에

한 정보를 얻을 수 있으며, 이를 통해 해당 산업부문에서의 기술경쟁의 강도를 가늠해

볼 수 있게 된다. CRn 지수는 Cn 지수로도 불린다30).

3.2 정의

원래 CRn 지수는 하나의 산업부문에서 시장 유율 상 n개사의 시장 유율의 합을

의미한다. 시장측면에서 기술측면으로 을 돌려, 기술의 경쟁강도를 악하기 해

시장 유율 신 특허 유율을 사용하면 다음과 같이 정의될 수 있다.

×

(Si는 i社의 특허 유율, Ni는 i社의 특허건수, N은 체 특허건수)


CRn 지수를 사용하는 표 인 일례로서, 독일연방카르텔청(German Federal Cartel Office)은 독일 경쟁제한방지법(Act against Restraints of Competition)의 기 31)에

따라 이 지수의 개념을 사용하여 기업들이 시장에서 독과 을 형성하고 있는가의 여부

를 단하고 있다. 한 F. Malerba와 L. Orsenigo는 특허 데이터를 활용한 C4 지수를

기술집 황을 보여주는 지표로 사용하여 기술 신의 구조를 분석한 바가 있다32).

30) 시장의 집 도 분석은 CRn 이외에 Herfindahl-Hirschman Index, Lorenz-curve, Gini coefficient 등의

다양한 근방법이 사용되고 있다.

31) GWB(Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen) §19 (3).

32) F. Malerba and L. Orsenigo (1996), Schumpeterian Patterns of Innovation are Technology-Specific,

Research Policy, 25, 451-478.


60


CRn 지수 가장 많이 사용되는 것은 상 4개사의 시장 유율 합계인 CR4 지수

이다. 이 지수는 0에 가까울수록 시장의 독과 수 이 낮다는 것을 의미한다. 0에 가

까운 수치로 나타난다는 것은 상 4개사의 시장 유율이 매우 낮다는 의미이므로, 결

국 시장이 심한 경쟁 상태에 있다고 해석될 수 있다. 일반 으로는 CR4 지수가 40 는 45에서 60일 경우가 새로운 기술의 용을 유발시키는 최 의 시장경쟁 상태로 평

가된다33).CR4 지수의 시장 유율을 특허 유율로 치환하여 용하게 되면, 특정 산업부문에서

기술경쟁의 강도를 악할 수 있게 된다. 특허출원의 유율을 이용한 CR4 분석은 특

허출원, 즉 기술 신 활동의 독과 수 과 경쟁 강도에 한 정보를 제공하게 되고, 등록특허의 유율을 사용한 CR4 분석은 해당 기술분야에서 특허권의 독과 수 에

한 정보를 제공함으로써, 해당 기술분야에 한 상 4개사의 기술 향력과 시장

진입에 한 법률 장벽의 높이를 간 으로 악할 수 있도록 해 다.


CRn 지수는 특허 유율이라는 비교 사용하기 쉽고, 이해가 용이한 지표를 통해 기

술경쟁의 독과 황과 기술경쟁의 강도를 악할 수 있도록 해 다.그러나, CRn 지수는 상 n개 기업과 련된 정보만을 이용함으로써 해당 산업부문

의 모든 기업들에 한 정보를 포함하지 않고 있다는 단 이 있다. 한, CRn 지수만

으로는 산업 내부에서의 기업 간 기술경쟁력의 규모에 한 분포 황을 알 수가 없

다. 상 n개 기업 간의 특허 유율이 크게 변동되더라도 CRn 지수는 같게 나타날 수

있기 때문이다.

3.6 적용방법

CRn 지수를 산출하는 과정에서 고려해야 할 것은, 분석 상 집단을 신 하게 정의해

33) W. G. Shepherd (1987), Concentration Ratios. In John Eatwell et al., eds. The New Palgrave - A

Dictionary of Economics, London, MacMillan. ; F. M. Scherer and D. Ross (1990), Industrial Market

Structure and Economic Performance, Third Edition, Boston, MA, Houghton Mifflin.


61

야 한다는 이다. 특허출원인( 는 특허 소유권자)은 기업일 수도 있으나, 개인이나

정부, 공공기 는 비 리 단체 등이 될 수도 있으므로, 분석가는 분석목 등을 고

려하여 분석 상에 포함되는 집단을 결정해야 한다. 를 들어, 기업들 간의 기술 경쟁

환경을 살펴보고자 하는 경우에는 분석 상을 기업의 특허(출원)에 한정시켜야 할 것

이다. 그러나 일반 으로 체 인 시장 는 기술의 경쟁상황을 악하려고 하는 경

우에는 분석 상 집단을 특별히 한정하는 것보다는 해당 분야의 체 인 특허(출원)를 상으로 분석을 진행하는 것이 바람직할 것이다.

한, CRn 분석은 분석 상 산업의 정의가 분석결과에 향을 크게 미친다. 를 들

어 자동차 제조 산업을 분석 상으로 하는 경우와 트럭 제조 산업을 분석 상으로 하

는 경우는 그 결과가 크게 다르게 나타날 수 있다. 따라서 분석가는 해당 산업의 범

를 신 히 설정해야 한다.

3.7 적용사례

다음의 사례는 F. Malerba와 L. Orsenigo가 슘페터 유형에 한 연구34)를 해 산

출한 4개 지표35)의 분석결과이다. HERF는 허핀달 지수36)로서 기술 신 구조의 칭

성을, Size는 신주체의 규모를, SPEATOT와 SPEACORE는 신 계층구조의 안정성

을, ENTRY는 신규 신주체의 진입 황을 보여주는 지표들이다(이들에 한 구체

인 설명은 생략하기로 한다).분석결과를 살펴보면, 독일은 기술 신 구조의 집 도(C4)와 비 칭성(HERF)이 상

으로 높게 나타나고 있다. 반 로 미국은 집 도와 비 칭성이 상 으로 낮게

나타나고 있는 것을 볼 수 있다37).

34) F. Malerba and L. Orsenigo (1996), Schumpeterian Patterns of Innovation are Technology-Specific,


35) 상기의 연구과정에서는 49개 기술분야에 해 신활동의 집 도, 신주체의 규모, 신 계층구조의

안정성 새로운 신주체의 진입에 한 4가지 지표를 특허데이터를 이용하여 산출하 다. 한 슘

페터 제1유형(Schumpeter Mark Ⅰ)에 속하는 신구조는 낮은 집 도와 낮은 비 칭성, 신주체 순

의 비안정성, 새로운 신주체의 높은 진입률 신주체의 소규모성으로 특징 지워지며, 슘페터 제2

유형(Schumpeter Mark Ⅱ)은 그 반 의 경향으로 특징 지워진다고 보았다. 슘페터 제1유형은 팽창

(widening), 제2유형은 심화(deepening)로 표 되기도 한다.

36) 허핀달 지수에 해서는 해당 부분에서 상세히 후술하기로 한다.

37) 그 밖의 지수들에 한 분석결과로부터 F. Malerba와 L. Orsenigo는 독일을 형 인 슘페터 제2유형에

속하는 국가로 보았다.


62

Germany France United Kingdom Italy Japan United StatesC4 Av 36.70 32.90 34.00 37.60 34.90 29.50

Std 19.70 15.20 18.60 20.10 16.50 17.70HERF Av 0.07 0.05 0.07 0.08 0.07 0.06

Std 0.08 0.05 0.10 0.09 0.08 0.09SIZE Av 52.30 43.90 45.90 33.60 - -

Std 15.80 14.90 18.20 19.60 - -SPEATOT Av -0.13 -0.29 -0.36 -0.35 -0.06 -0.23

Std 0.17 0.20 0.19 0.33 0.26 0.19SPEACORE Av 0.55 0.46 0.47 0.37 0.56 0.52

Std 0.20 0.21 0.20 0.50 0.26 0.18ENTRY Av 0.33 0.45 0.46 0.65 0.41 0.34

Std 0.18 0.19 0.20 0.20 0.22 0.18※ AV=Averages, Std=Standard deviation.출처 : F. Malerba and L. Orsenigo (1996), Schumpeterian Patterns of Innovation are Technology-Specific,


표 2-3. 국가별 혁신활동의 유형(49개 기술분야의 평균값)


63

허핀달 지수(HHI, Herfindahl Index)4

4.1 개요

허핀달 지수(HHI)도 CRn 지수와 마찬가지로 원래는 시장의 독과 황과 경쟁 강

도를 평가하기 해 사용되는 지표이다. 앞서 CRn 지수를 특허정보를 이용하여 변형시

킨 것과 같은 방식으로 HHI 분석에 특허데이터를 사용하게 되면 기술 측면의 독과

상황과 기술경쟁의 강도에 한 유용한 정보를 얻을 수 있게 된다. 허핀달 지수는 허

핀달-허쉬만 지수(HHI, Herfindahl-Herschman Index)로도 불린다.

4.2 정의

특허 데이터를 이용한 HHI를 계산하는 식은 다음과 같다.

×

(Si는 i社의 특허 유율, m은 산업부문의 체 기업 수, Ni는 i社의 특허건수, N은 체 특허건수)


HHI는 미 법무부(USDOJ, U.S. Department of Justice)와 연방거래 원회(FTC, Federal Trade Commission)가 기업 간의 합병에 한 평가 기 으로 사용하고 있는

지표이다38). 기업 간 수평 합병에 한 평가는 합병 후의 HHI 값과 HHI 값의 증가

량 두 가지를 기 으로 이루어진다39).

38) Horizontal Merger Guidelines, U.S. Department of Justice and the Federal Trade Commission

(http://www.usdoj.gov/atr/public/guidelines/horiz_book/15.html)

39) 기업 간 합병 후 HHI 값이 1,000 미만인 경우에는 해당 시장에 집 상이 존재하지 않으며, 합병이

경쟁환경에 부정 향을 주지 않는 것으로 단하여 더 이상의 분석을 진행하지 않는다. 그러나 합병

후 HHI 값이 1,000에서 1,800 사이로 나타나면 다소의 집 상이 있는 것으로 보게 된다. 이 경우에

는 합병에 의한 HHI 값의 증가가 100 이하인 경우 경쟁환경에 부정 향을 미치지 않는 것으로 보

지만 그 이상일 때에는 경쟁환경에 향을 미칠 잠재 가능성이 있는 것으로 단한다. 마지막으로

1,800 이상의 값이 될 경우에는 HHI의 증가량이 50 이상인 경우 경쟁환경에 향을 미칠 잠재 가능

성이 있는 것으로 단하고, 100 이상일 때에는 특별한 반증이 없는 한, 시장지배력을 형성 는 강화

하여 경쟁환경에 부정 향을 미치는 것으로 추정한다.


64


HHI는 CRn 지수와 기본 으로 같은 분석 의미를 갖는다. 시장 유율 신 특허출

원 유율을 사용하여 계산한 HHI 값이 0에 가깝게 나타난다면, 기술 신 활동이 해

당 산업 내에서 다수의 기업들에 의해 분산되어 이루어지고 있는 경우로서, 기술개발

경쟁이 극심하다고 해석될 수 있을 것이다. HHI는 최 10,000의 값을 가질 수 있는

데, 이는 하나의 기업이 해당 산업분야에서 특허출원을 독 하고 있는 경우(특허출원

유율이 100%인 경우)로서, 기술경쟁이 존재하지 않는 경우이다.HHI는 앞서 CRn 지수 부분에서 설명한 바와 같이 특허출원 데이터와 특허등록 데

이터를 사용하여 계산할 수 있으며, 특허출원 유율을 사용하는 경우에는 분석결과가

기술 신의 “활동”에 한 정보를 제공하게 되며, 특허등록 유율을 사용하는 경우에

는 특허권의 독과 수 과 같은 법 인 측면에 이 맞추어지게 된다.


HHI는 CRn 지수와 마찬가지로 특허 유율이라는 비교 간단한 지표를 사용하여

기술의 독과 황과 기술경쟁 환경에 한 정보를 제공해 다. 한 HHI는 CRn 지

수와는 달리 모든 기술 신 주체들에 한 정보를 담고 있으며, 각 주체들의 특허 유

율의 제곱값을 사용함으로써, CRn 지수가 보여주지 못하는 기술의 집 상황을 보여

다. 를 들어, A 산업부문 내의 기업별 특허 유율이 65, 5, 5, 5, 5, 5, 5, 5일 경우

CR4는 80, HHI는 4,400의 값을 갖는다. 그러나 B 산업부문 내의 기업별 특허 유율

이 20, 20, 20, 20, 5, 5, 5, 5일 경우 CR4는 80의 값을 갖게 되나 HHI는 1,700으로

나타나게 된다. 결국, CR4는 A 산업부문과 B 산업부문 간에 내부 인 기술집 상황

의 차이를 보여주지 못하지만, HHI를 사용하게 되면 A 산업부문이 보다 기술집

상이 두드러진다는 을 악할 수 있게 되는 것이다40).그러나, HHI는 체 는 특정 산업부문에서의 기술 독과 황과 기술경쟁의 강도

만을 보여주는 지수임을 명심해야 한다. 구체 인 경쟁의 양상이나, 경쟁의 주체 각

주체들의 경쟁 략을 악하기 해서는 보다 세부 인 분석이 뒤따라야 한다.

40) NIST (2003), Technology Adoption Indicators Applied to ATP Flow-Control Machining Project,

NISTIR 6888.


65

4.6 적용방법

HHI도 CRn 지수와 마찬가지로 분석 상의 범 (기업, 개인, 정부, 공공기 등)를

어디까지로 할 것인가에 따라 분석결과가 다르게 나타난다. 를 들어, 순수한 기업들

간의 기술 경쟁환경을 분석하고자 할 경우에는 체 특허를 기업들이 출원 는 등록

한 특허로 한정하여 분석이 진행되어야 한다. 한 HHI도 분석결과가 분석 상 산업의

정의에 향을 크게 받으므로, 분석 상 산업의 범 를 신 히 정해야 한다.

4.7 적용사례

아래의 사례는 미국에서 등록된 특허데이터를 이용하여 농업 식품분야의 HHI를

분석한 결과이다. 통상 HHI는 백분율(%)을 사용하여 최 10,000까지 나타나도록 계

산하는 것이 일반 이나, [표2-4]의 사례에서는 분율 개념을 사용하여 계산하 다(이

경우 최 값은 1까지 나타날 수 있다).분석결과로부터 악되는 황을 간략히 요약해보면, 기계분야와 기타분야의 경우

상 으로 낮은 HHI 값을 갖는 것으로 나타났다. 이러한 결과는 이 분야에 한 기술

개발 활동이 많은 기업들에 의하여 이루어지고 있다는 것을 보여주는 것이며, 이는 결

국 이 분야에서의 기술경쟁이 보다 치열하다는 것으로 해석될 수 있다. 반 로, 담배, 제약 화학분야는 기술 신 활동이 보다 집 되어 있으며, 상 으로 경쟁강도가

낮다는 것을 의미한다. 이 경우는 일부 기업군이 기술을 독과 하고 있는 상황일 수

있으므로, 이 분야에 새로이 진입하려는 기업들로서는 기술 측면의 진입장벽이 문제

가 될 수 있다. 다른 표 으로는 공정한 기술경쟁 환경이 해되고 있다고도 할 수

있을 것이다.

Technology Field HHIAgriculture 0.083Bioengineering 0.100Chemistry 0.192Drugs 0.244Food 0.084Instruments 0.120Machinery 0.076Others 0.064Packaging and Printing 0.101Refrigeration 0.139Tobacco 0.369TOTAL 0.080

출처 : O. Alfranca, R. Rama and N. von Tunzelmann (2003), Technological Fields and Concentration of Innovation among Food and Beverage Multinationals, paper prepared for the 13th Annual World Food and Agribusiness Forum and Symposium "Strategy Development in Turbulent Times" IAMA.

표 2-4. 농업식품분야 Herfindahl Indices(1969년～1994년).


66


기술수 에 한 평가는 다양한 에서 이루어질 수 있다. 해당 기술의 경제 가

치와 연결하여 평가될 수도 있으며, 신과정에 기여하는 기술 요성 는 효

과에 을 맞추어 평가될 수도 있다. 한 기술의 질 인 측면에 한 분석 이외에

도 기 과학과의 련성이나 신활동이 이루어지고 있는 역의 기술개발 속도에

한 정보는 신의 과정이나 구조에 한 보다 풍부한 정보를 제공해 다.기술의 향력이나 요성 는 신성과의 가치와 련하여 가장 많은 논의가 이루

어지고 있는 분야는 특허와 논문의 인용분석 분야이다. 특허의 인용정보는 신성과의

기술 요성과 향력에 한 유용한 정보를 제공한다. 그러나 재 인용정보를 충

분히 활용할 수 있는 특허문헌은 미국특허에 한정된다. 따라서 인용분석 이외에 청구

항 수와 패 리 규모 같은 정보를 활용하여 기술수 을 분석하고자 하는 시도들이 있어

왔다. 본 에서는 이와 같은 변수들을 활용한 기술수 분석지표를 소개하기로 한다.

기술수준의

분석

인용관계(Citation)

특허청구항(Claim)

특허패밀리(Family)

피인용 가중 특허 수(WPC)

특허 당 피인용 수(CPP)

특허영향 지수(PII)

현재영향 지수(CII)

기술력 지수(TS)

기술순환주기 지수(TCT)

과학연계 지수(SL)

특허 당 청구항 수(AvgClaims)

패밀리 규모(FS)

• 기술의 중요성이 가중된 특허 수

• 단위 혁신성과의 평균적 중요도ㆍ영향력

• 단위 혁신성과의 상대적 중요도ㆍ영향력

• 과거 5년의 혁신성과가 현재 미치는 영향력

• 질적, 양적 측면이 모두 반영된 기술경쟁력

• 기술혁신 활동의 속도

• 기초과학과의 연계도

• 실질적인 혁신성과의 양적 규모

• 혁신성과인 특허의 지역적 보호범위

기술수준의

분석













기술수준의

분석




















• 기술의 중요성이 가중된 특허 수

• 단위 혁신성과의 평균적 중요도ㆍ영향력

• 단위 혁신성과의 상대적 중요도ㆍ영향력

• 과거 5년의 혁신성과가 현재 미치는 영향력

• 질적, 양적 측면이 모두 반영된 기술경쟁력

• 기술혁신 활동의 속도

• 기초과학과의 연계도

• 실질적인 혁신성과의 양적 규모

• 혁신성과인 특허의 지역적 보호범위

그림 2-11. 기술수 분석지표의 구성


67

피인용 가중 특허 수(Patent Count Weighted by Citations)1

1.1 개요

피인용 가 특허 수는 기술 신 활동의 양 인 측면을 보여주는 특허건수에 신성

과의 요성 는 가치와 련을 맺고 있는 인용정보를 조합함으로써, 신성과의 기

술 측면을 평가하기 한 보다 의미있는 정보를 제공한다. 피인용 정보를 가 시키

는 방법은 여러 가지가 제안될 수 있으나, 이하에서는 가장 간단한 가 방식을 사용한

M. Trajtenberg의 가 특허 수(WPC, Weighted Patent Counts)를 심으로 소개하기

로 한다.

1.2 정의

M. Trajtenberg가 사용한 가 특허 수(WPC, Weighted Patent Counts)는 다음과

같이 계산된다41).

(nt은 t 연도에 등록된 특허 건수, Ci는 i특허의 피인용 수)


개별 특허의 기술 , 경제 가치는 특허마다 매우 큰 차이를 가지고 있다. 따라서

단순한 특허 건수는 기술수 는 기술 가치를 보여주는 지표로서 부 하다. 특

허와 련된 인용정보들은 오래 부터 특허의 요성 는 가치를 악하기 한 정

보로서 인식되어 왔으며, 이러한 아이디어는 과학기술 논문의 인용데이터를 사용한 계

량서지학(Bibliometrics)의 연구들과 깊은 계를 맺고 있다.그러나, 미국특허 공보에 표시되는 인용문헌 목록은 특허권의 범 를 제한하는 법

41) M. Trajtenberg (1990), A Penny for Your Quotes - Patent Citations and the Value of Innovation,

Rand Journal of Economics, 21(1), 172-187. ; A. Jaffe and M. Trajtenberg (2002), Patents, Citations and

Innovations - A Window on the Knowledge Economy, MIT Press.


68

인 역할을 하며, 특허출원인과 리인 특허청 심사 의 합작품이라는 에서 논문

의 인용데이터와는 그 성격이 다르다. 특허 인용정보의 이러한 특성은 특허의 피인용

수가 해당 특허의 기술 요성과 련된 모종의 잠재 정보를 제공할 것이라는 가

정에 더욱 좋은 근거를 제공한다.M. Trajtenberg는 가 특허 수(WPC)를 사용하여 특허 인용데이터와 신활동의

가치(the value of innovations) 간의 계에 한 연구를 진행한 바 있으며, 이 실증

연구의 결과로서 특허의 인용데이터가 신활동의 가치에 한 지표로서 사용될 수

있다는 결론을 내리고 있다.


WPC는 본래 단순한 특허건수보다는 인용정보가 신성과의 가치와 보다 한 연

성을 가지고 있음을 증명하기 한 연구의 도구로서 사용된 지표이다. 그러나, 실제

기술 신 활동을 측정, 평가하기 한 분석도구로서 활용된 사례는 많이 찾아볼 수 없

는 실정이다.

1.5 장점 및 단점

WPC는 기술 신 활동의 양 측면과 신성과의 질 측면이 모두 반 된 정보를

제공함으로써, 단순한 양 지표인 특허건수나 평균 인 질 지표로서의 인용정보가

가지는 문제 을 상호 보완한 정보를 제공한다. 한 특허건수와 피인용 회수를 단순

히 합산하는 방식으로서 지표의 계산이 비교 용이하다.그러나 WPC는 양 정보인 특허건수와, 질 정보인 피인용 회수에 동등한 가 치

를 부여함으로써, 결과 으로는 분석 상 집단의 체 피인용 회수와 체 특허건수를

합산한 값으로 나타나게 된다. 이것은 결국 1건의 특허라는 양 성과와 1회의 피인용

회수라는 질 성과에 동등한 가치를 부여한 것이며, 각각의 피인용 회수에 해서도

동등한 가치를 부여한 것이나, 이러한 가 의 방식이 올바른 것인가에 해서는 의문

이다42).

42) M. Trajtenberg도 이러한 을 인식하고, 각주 41)의 논문에서 비선형성에 한 문제 을 함께 검토하 다.


69

특허 당 피인용 수(CPP, Cites per Patent)2

2.1 개요

특허 당 피인용 수(CPP)는 분석 상(국가, 기업 등)의 특허가 이후의 기술 신 활

동에 어느 정도의 향을 미쳤는가를 보여주는 지표이다. 우리는 이 지표를 통해 개별

특허의 기술 요성과 특정 국가 는 기업의 기술 신 활동의 수 신성과의

가치를 살펴볼 수 있다. CPP라는 명칭은 미국의 CHI社43)에서 주로 사용하는 명칭이

나, CHI社에서 자체 으로 개발한 지표라기보다는 오래 부터 다양한 명칭으로 사용

되어진 개념의 지수이다.

2.2 정의

CPP는 다음과 같이 계산된다.

(nt은 t 연도에 등록된 특허 건수, Ci는 i특허의 피인용 수)결국, CPP는 특정 연도( 는 기간)에 등록된 특허들이 이후의 특허들에 의해 평균

으로 인용된 회수를 의미한다.


특허의 인용정보는 신성과의 기술 요성과 직 으로 련되어 있는 지표이

다. 어떠한 특허가 장기간동안 다른 특허들에 의해 많이 인용되었다는 사실은 그 특허

가 이후의 기술개발 활동에 요한 기여를 하고 있다는 것을 의미한다. 한 그 분야

에서 다른 이들이 연구개발 활동을 펼치고 있으며, 그 분야가 경제 가치를 창출할

43) CHI Research, Inc. 1968년에 Computer Horizons Inc.라는 명칭으로 설립된 과학기술 지표의 분석

개발 문 컨설 회사로서, 재는 ipIQ라는 명칭으로 사명이 변경되었다. 이하에서는 CHI社로 표기

하기로 한다.


70

수 있는 분야로 인식되고 있다는 것을 의미하는 것이기도 하다44).특허의 인용정보 분석은 과학기술 논문에 한 인용분석에 그 뿌리를 두고 있다. 과

학기술 논문에 한 인용분석이 본격 으로 이루어진 것은 1950년 E. Garfield의 연

구가 시 라고 보는 것이 일반 이다45). E. Garfield는 1960년 에 SCI(Science Citation Index)를 만들었으며, 재 SCI는 연구성과에 한 가장 보편 인 평가 기

으로 자리잡고 있다. 이후 과학기술 논문에 한 인용분석은 특허에 해서도 용이

시도되기 시작하 다46). 한 특허의 인용정보가 실제 요한 기술성과들과 연결되는

것인가에 한 실증 연구들이 뒤따랐으며47), 지 까지 다양한 측면의 연구결과들은

특허의 피인용정보가 기술의 요성과 신성과의 가치, 기업의 시장가치 등과 한

계가 있음을 보여주고 있다.


CPP는 해당 연도의 기술 신 성과의 요도 는 가치를 평가하기 해 사용될 수

있다. 를 들어 특정 기술분야에서의 1998년 한국의 CPP는 그 기술분야에서 1998년

당시 한국의 연구개발 성과의 질 수 을 보여 다.


CPP는 단순한 특허건수와는 달리 특정 주체가 보유한 특허 포트폴리오의 기술

향력 는 기술 가치에 한 정보를 제공하여 다.그러나 이때의 기술 향력 는 신성과의 가치는 “평균 ”가치를 의미함에 주의

해야 한다. CPP는 특허 1건의 평균 피인용 회수이므로, 기술개발 활동의 양 측면

은 보여주지 않는다.한 피인용 정보의 가장 큰 특징 하나는 피인용 데이터가 의미있는 정보를 제공

하기 해서는 어느 정도 기간의 경과가 필요하다는 것이다. 따라서 CPP를 사용하여

44) J. Lanjouw and M. Schankerman (1999), The Quality of Ideas - Measuring Innovation with Multiple

Indicators, NBER Working Paper, 7345.

45) F. Narin (1999), Tech-Line Background Paper, CHI Research, Inc.

46) P. Reisner (1963), A Machine Stored Citation Index to Patent Literature Experimentation and Planning,

Proceedings of Automation and Scientific Communications Annual Meeting 1963 (American Documentation

Institute, 1965)

47) M. P. Carpenter, F. Narin and P. Woolf (1981), Citation Rates to Technologically Important Patents,

World Patent Information, 3(4), 160–163.


71

최근의 기술성과를 평가하는 경우에는, 분석 상 특허들이 장기 으로 미치는 기술

향력이 악될 수 없게 된다. [그림 2-12]는 이러한 문제 과 이를 해결하기 해

일종의 측기법을 사용하여 보정된(corrected) CPP 값의 추이를 보여주고 있다48). 실제 CPP 지수(raw)는 증가되는 경향을 보이다가 어떠한 시 부터 재에 가까워질수

록 감소되는 경향을 보인다. 이는 앞서 설명된 바와 같이 최근 연도에 가까워질수록

해당 연도의 특허들은 상 으로 피인용 회수에 한 연도가 상 으로 짧아지

고, 이는 미래에 피인용될 가능성이 반 되지 못하고 있다는 것을 의미한다.

출처 : B.H. Hall, A. Jaffe and M. Trajtenberg (2000), Market Value and Patent Citations - A First Look,NBER Working Paper, 7741

그림 2-12. 보정 의 CPP와 보정 후의 CPP

2.6 적용방법

CPP를 통해 기술 향력을 비교 평가하는 경우에는, 반드시 분석의 기 시 을

고정시켜 비교하여야 한다. 피인용 회수는 본질 으로 시간의 경과에 따라 으로

증가하기 때문이다. 를 들어 2004년까지의 특허데이터를 상으로 분석을 실시하는

경우, 1998년의 CPP는 6년간의 평균 피인용 회수를 의미하는 것임에 비해, 2000년

의 CPP는 4년 동안의 평균 피인용 회수만을 의미하는 것이다. 따라서 CPP를 시계열

48) B. H. Hall, A. Jaffe and M. Trajtenberg (2000), Market Value and Patent Citations - A First Look,

NBER Working Paper, 7741


72

으로, 즉 다른 시 의 CPP 값을 비교 평가해서는 안 된다.한 특정 기술분야 내에서 CPP로 기술수 을 평가하는 경우에도 주의가 필요하다.

분석 상 특허들을 인용한 특허의 범 를 특정 기술분야의 특허로 한정시킬 경우, 타

기술분야에 한 기술 향력이 배제될 수 있기 때문이다.

2.7 적용사례

[표 2-5]와 [표 2-6]은 나노분야의 미국특허를 상으로 국가별 CPP 지수를 분석

한 결과이다49). 이 분석에서는 CPP를 특정 연도가 아닌 구간 범 (1976년~2002년)를 상으로 분석을 실시했다.

분석결과를 살펴보면 나노분야의 특허건수에서는 미국이 압도 인 우 를 차지하고

있는 것을 볼 수 있다. 한 CPP 값도 미국이 가장 높은 것으로 나타났으며, 이는 개

별 특허들의 평균 인 기술 요성 는 기술수 에서도 미국이 상 으로 우 를

가지고 있다는 것으로 해석된다.

국가 특허 수 CPP(특허 당 피인용 수)미국 56, 828 3.95일본 7,574 3.28유럽 4,046 3.09기타 2,241 2.65

출처 : Z. Huang et al. (2003), Longitudinal Patent Analysis for Nanoscale Science and Engineering - Country, Institution and Technology Field, Journal of Nanoparticle Research, 5, 336-363.

표 2-5. 소유권자 국 별 나노분야 미국특허 분석결과(1976～2002)

분석 상을 개별 기업 는 기 단 로 하여 분석한 결과는 [표 2-6]에 나타나있

다. 나노기술 분야에서 CPP가 가장 높은, 즉 상 으로 수 이 높고 요한 기술

49) Z. Huang, H. Chen, A. Yip, G. Ng, F. Guo, Z. Chen and M. C. Roco (2003), Longitudinal Patent

Analysis for Nanoscale Science and Engineering - Country, Institution and Technology Field, Journal

of Nanoparticle Research, 5, 336-363.


73

성과를 산출하고 있는 기업은 3M, Dow Chemical, CALTECH 등으로 나타났으며, 주

로 미국의 기업들이 나노분야의 신리더로서 활동하고 있는 것으로 분석되었다.

소유권자 CPPMinnesota Mining and Manufacturing Company 6.4The Dow Chemical Company 6.1California Institute of Technology 6.1Xerox Corporation 5.2Genentech, Inc. 4.9PPG Industries, Inc. 4.9E. I. DuPont de Nemours and Company 4.8International Business Machines Corporation 4.7AT&T Bell Laboratories 4.6Micron Technology, Inc. 4.4출처 : Z. Huang et al. (2003), Longitudinal Patent Analysis for Nanoscale Science and Engineering

- Country, Institution and Technology Field, Journal of Nanoparticle Research, 5, 336-363.

표 2-6. 소유권자별 나노분야 미국특허 분석결과(1976～2002)


74

특허영향 지수(PII, Patent Impact Index)3

3.1 개요

특허 향 지수(PII)는 특정 국가 는 기업의 기술 신 성과의 질 수 을 평가하

기 해 사용될 수 있는 지표이다. 우리는 PII 분석을 통해 우리가 분석의 상으로 삼

은 특정 국가 는 기업이 해당 분야의 평균 인 기술 수 에 비해 어느 정도로 요

한 기술 성과를 이루어내고 있는가를 악할 수 있게 된다.

3.2 정의

PII는 분석 상 기술분야의 체 특허들이 평균 으로 인용되는 회수에 해 특정

국가 는 기업의 특허가 인용되는 회수의 상 인 비율로써 계산된다.

(Ca는 a의 특허의 피인용 수, Na는 a의 특허 수, Ct는 체 특허의 피인용 수, Nt는 체 특허 수)


PII는 지수의 정의와 계산식으로부터도 알 수 있듯이, 새로이 고안되거나 도입된 지

수개념은 아니다. 실질 으로 이 지수는 특허건수를 이용한 시기술우 (RTA) 지수

와 그 구조가 매우 유사하다. 다만 RTA 지수는 특허건수와 특정 분야의 특허 유율

을 사용하여 어떠한 국가나 기업의 상 인 기술 집 도를 살펴 으로써 양 측면의

기술 특화 황을 평가하기 해 사용되는데 반하여, PII는 특허건수와 피인용 회수를

사용함으로써 특정한 주체의 상 인 기술 수 의 우 를 가늠해 보고자 하는 경우에

사용될 수 있다.


75


앞서 살펴본 바와 같이 PII는 특허의 피인용 회수를 특정 기술분야 내에서의 상

인 값으로 환시킨 지수이다. 따라서 CPP와 같이 단순한 평균 피인용 수와는 달리 해

당 산업부문의 특성과 다른 경쟁주체의 기술수 이 고려된 “상 인” 기술 요도

는 신성과의 가치 정보를 제공받을 수 있게 된다.PII 값이 1로 나타나는 경우는 해당 국가 는 기업의 기술수 이 평균 인 수 임

을 의미하는 것이며, 1 이상일 경우에는 질 수 의 우 를, 1 이하일 경우에는 열

를 갖는 것으로 해석될 수 있다.다만, PII 분석결과의 해석 시 유의할 은 PII도 CPP와 마찬가지로 양 측면의 정

보는 담고 있지 않다는 이다. PII는 평균 이고 상 인 기술수 에 한 정보를 제

공하지만, 신성과의 양 인 규모에 해서는 언 하지 않는 지수임을 명심해야 한다.


PII는 여러 번 강조되었듯이 인 피인용 지수만으로는 확인할 수 없는 상

기술수 의 우열을 확인할 수 있도록 해 다.그러나 CPP와 마찬가지로 기술 신 활동의 규모에 한 양 정보를 담고 있지 않으

며, 피인용 데이터 자체가 가지고 있는 문제 도 가지고 있다. 즉, 피인용 데이터가 충

분한 의미를 가지기 해서는 어느 정도 기간의 경과가 필요하므로, 최근의 PII 값에는

장기간에 걸치는 기술 향력이 어느 정도 배제되어 있게 된다.

3.6 적용방법

PII는 실질 으로 CPP의 상 인 값을 의미하므로, 분석을 진행할 때 주의할 사항

은 CPP의 경우와 거의 유사하다.


76

그러나 CPP가 시간의 경과에 따라 으로 증가하는 피인용 정보의 특성에 의해

서로 다른 시 의 CPP 값을 비교평가해서는 안 됨에 비하여, PII는 이러한 문제가 다

소 완화되어 있다고 볼 수 있다. 이는 PII가 상 화된 지수라는 에 기인하는 것으로

서, 를 들어 1990년 반의 PII와 2000년 반의 PII를 비교하여 기술수 의 우

가 강화되었는가 아니면 약화되었는가를 살펴보는 분석도 가능할 것이다. 다만 이

경우에 2000년 반의 PII 분석결과에는 장기 인 기술 향력과 련된 요인이

상 으로 게 고려되고 있음은 앞서 언 한 바와 같다.

3.7 적용사례

[표 2-7]은 2004년에 특허청과 한국특허정보원에서 발간한 "NT특허분석보고서" 내

용 일부분을 발췌한 것이다. 나노바이오 ․ 보건 분야에 한 국가별 기술 신 활동과

기술경쟁력을 특허정보를 이용하여 평가하 으며, 특허 유율, 특허활동 지수, 특허

향 지수 기술력 지수50)의 4개 지표에 한 분석이 이루어졌다.분석결과 PII 값을 살펴보면, 주요 11개 국가 PII 값이 1을 넘는 국가는 미국

과 네덜란드뿐인 것으로 나타났다. 미국은 PII 값이 1.13으로 네덜란드보다는 낮은 것

으로 나타났으나, 양 인 측면을 고려한 기술력 지수(TS)에서는 압도 인 우 를 가진

것으로 나타났다. 이러한 결과가 나타난 것은 본 분석 상이 미국특허인 을 감안할

때, 미국은 양 인 면에서는 자국 우 상(home advantage)에 따른 이익을, 네덜란

드는 외국 특허의 질 우 경향에 따른 이익을 어느 정도 받은 데에도 하나의 원인

이 있는 것으로 추정될 수 있을 것이다. 한국은 분석결과에서 볼 수 있듯이 나노바이

오 ․ 보건 분야에서 주요 국가들에 비해 열세를 면치 못하고 있다.

50) 일반 으로 기술력 지수(TS, Technology Strength)는 CHI社에서 주로 사용하고 있는 지표로서, 주로

재 향 지수(CII, Current Impact Index)와 재 연도의 특허건수의 곱으로 정의된다. 여기에서 사용되

고 있는 TS는 CII를 PII로 체하고, 재 연도의 특허건수는 분석 상 기간의 체 특허건수로 체하

여 계산한 결과로서 CHI社에서 사용하는 TS와는 분석 의미가 다소 다르다. CII와 TS에 해서는 뒷

부분에서 구체 으로 논의될 것이다.


77

국가

유율(Patent Share) 특허활동지수(AI) 향력지수(PII) 기술력지수(TS)순 PS 순 AI 순 PII 순 TS

미국 1 71.32 9 1.03 2 1.13 1 3144.48 랑스 2 10.01 1 2.63 9 0.42 3 164.90

독일 3 3.98 7 1.20 7 0.51 5 78.39 캐나다 4 3.29 2 2.09 6 0.63 4 80.76 일본 5 1.90 19 0.13 5 0.67 6 49.94 네덜란드 6 1.26 4 1.73 1 4.59 2 224.67 스 스 7 1.26 3 1.79 4 0.68 7 33.18

국 8 1.13 8 1.06 10 0.35 9 15.41 이스라엘 9 0.69 5 1.46 3 0.70 8 18.96 이탈리아 10 0.67 6 1.24 8 0.48 10 12.53 한국 19 0.23 18 0.23 19 0.06 19 0.51 출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), NT특허분석보고서(요약서)

표 2-7. 국가별 나노바이오 ․ 보건 분야 특허분석 결과


78

현재영향 지수(CII, Current Impact Index)4

4.1 개요

재 향 지수(CII)는 우리가 심의 상으로 삼고 있는 특정 주체의 과거 5년 동

안의 기술 신 성과가 재 시 (연도)에 미치고 있는 기술 향력에 한 정보를

제공한다. 우리는 이 지수를 통해 특정 주체의 근래 기술 신 성과의 기술 요성과

기술 역량을 엿볼 수 있다.

4.2 정의

CII는 재 시 을 기 으로 이 5년 동안에 산출된 특정 주체(국가 는 기업 등)의 특허가 재 시 (연도)에 얼마나 인용되었는가를 체 인 인용빈도에 하여 상

인 값으로 표 한 지수이다. CII는 다음과 같이 계산된다(아래의 수식에서는 분석

상으로 삼고자 하는 특정 국가 는 기업을 A로 표 하기로 한다).

t : 재 연도를 기 으로 과거 5개 연도

rt : A의 t연도 특허가 재 연도에 평균 으로 인용된 회수

Rt : t연도의 체 특허가 재 연도에 평균 으로 인용된 회수

ct : A의 t연도 특허가 재 연도에 인용된 체 회수

nt : A의 t연도 특허건수

Ct : t연도의 체 특허가 재 연도에 인용된 체 회수

Nt : t연도의 체 특허건수

이해를 돕기 해 CII의 실제 계산사례를 들어보기로 한다51).아래의 표는 가상의 기업인 A社의 1991년도 CII를 구하기 해 필요한 이 5개 연

도(1986년~1990년)의 련 정보들을 보여주고 있다.51) F. Narin (1999), Tech-Line Background Paper, CHI Research, Inc.


79

정 보 항 목 1986 1987 1988 1989 1990연도별 체 특허건수 71,662 72,860 81,954 76,542 95,530개별연도 특허가 1991년 체 특허에 인용된 회수 35,321 36,854 50,765 40,970 52,635개별연도 특허 1건당 1991년 체 특허에 인용된 평균회수 0.49 0.51 0.62 0.54 0.55A사의 연도별 특허건수 104 250 125 180 285A사의 개별연도 특허가 1991년 체 특허에 인용된 회수 62 130 65 102 165A사의 개별연도 특허 1건당 1991년 체 특허에 인용된 평균회수 0.60 0.52 0.52 0.57 0.58

표 2-8. CII 계산사례를 한 가상 특허데이터

이 경우, A社의 1991년 CII는 다음과 같이 계산된다.


CII는 미국의 CHI社에서 개발한 지표로서, 특정 국가 는 기업의 재 시 에서의

기술 향력을 악하기 해 주로 사용되고 있다.


우선, CII는 기 값이 1이 된다. 즉 특정 기업의 CII가 1로 나타날 경우에는 그 기업

이 재 미치고 있는 기술 향력이 평균 인 수 이라는 것을 의미한다. 물론, 그

이상일 경우에는 해당 기업의 기술 향력이 높은 것으로 평가된다.CII는 CPP, PII 등과 같은 일반 인 피인용 분석 지표와는 해석의 이 다르다.

일반 인 피인용 지표들은 특허가 출원, 공개 는 등록되는 시 을 기 으로 이후의

특허들에 어느 정도 인용되었는가를 분석함으로써, 분석 상의 기술 수 이나 신

성과의 가치를 단한다. 이에 반해, CII는 재의 시 을 기 으로 일정 기간 이 에

등록( 는 공개)된 특허기술이 재 어느 정도의 기술 향력을 미치고 있는가를 평

가하는 지표라는 에서 분석시각의 방향이 다르다. 즉, 재 향 지수라는 명칭에서 “


80

재”라는 표 에 주목해야 하는 것이다.한, CII는 오래 의 기술 신 성과가 재 미치고 있는 향은 배제한다. 오로지

최근(5년)의 기술개발 성과만으로 재의 기술 향력을 평가함으로써, 근래의 해당

주체의 연구개발 동향 는 기술 신 성과에 매우 민감하게 반응하도록 설계된 지표라

는 에 주목해야 한다.CII는 기본 으로 해당 주체가 “ 재”에 미치고 있는 “기술 향력”에 을 맞추

어 해석되어야 한다. 신성과의 가치는 상당한 기간이 흐른 후에 나타날 수 있으므로

CII만으로 특정 연도 는 기간 동안의 신성과의 가치나 기업의 시장가치를

단하는 것은 바람직하지 않다.


과거 5년간 등록된 특허만으로 재에 미치는 기술 향력을 평가할 수 있는가에

해서는 논란의 소지가 있을 수 있다. 다만, J. Lanjouw와 M. Schankerman(1999)은

특허성과의 가치를 측정하기 해 아주 오랜 기간 동안의 피인용 정보를 사용해야만

하는 것은 아니라고 보았으며52), 이러한 연구결과는 CII가 과거 5년의 정보만을 이용

하는 것에 한 정당성을 지지하는 근거가 될 수 있을 것이다. 그러나, CII는 과거 5년

간의 피인용 정보를 으로 활용하는 것이 아님을 명심해야 한다. CII는 오로지

재 시 (연도)에 한 피인용 정보만을 사용하는 지수이며, 과거 5년 동안 이루어진

인 피인용 데이터는 고려하지 않는다.한 특정 주체의 과거 5년 동안의 특허에 한 시 의 인용 정보로 측정된 재

기술 향력을 기업의 시장가치와 직 으로 연결시키는 것은 험하다. 특히 제약분

야와 같이 특허의 등록시기와 실제 제품이 매되는 시기 간의 시간 인 차이가 큰 분

야에서는 CII의 의미를 신성과의 (경제 측면의)가치와 직 으로 연결시키는 것

은 곤란하다. 특정 시 의 기업의 시장가치는 그 시 이 의 해당 기업 특허의 피인

용 정보보다는 그 시 이후의 피인용 데이터와 더 한 계가 있다는 연구결과53)를

고려하여 볼 때 더욱 그러하다.

52) J. Lanjouw와 M. Schankerman(1999)은 특허출원일로부터 5년, 10년 15년 동안의 3가지 피인용 데이

터를 사용하여 이 문제에 한 검토를 한 결과, 10년, 15년 동안의 피인용 데이터를 사용함으로써 보다

더 틍계 으로 의미있는 정보를 얻을 수 있는 것은 아니라는 결론을 내렸다. 그러나 장기간 후에 나타

나는 피인용 상의 요성을 간과하고 있지는 않다.

53) B. Hall, A. Jaffe and M. Trajtenberg (1999), The NBER-Case Western Reserve University R&D-Patents

Master File, 1959-1995, Cambridge, Ma. : NBER. ; J. Lanjouw and M. Schankerman (1999), The

Quality of Ideas - Measuring Innovation with Multiple Indicators, NBER Working Paper, 7345.


81

4.6 적용방법

CII 분석을 하는 경우에는 피인용 회수가 재 시 (연도)의 특허에 한 피인용 회

수에 제한되는 것이며, 5년 동안의 인 피인용 회수를 사용하는 것이 아니라는

을 명심해야 한다.한 분석 상의 범 는 분석목 등을 고려하여 신 하고 세심하게 정해져야 한다.

를 들어 특정 산업부문 내에서의 주요 기업들에 한 CII 분석을 실시하고자 하는

경우에는 미국 체특허를 상으로 하는 것보다는 해당 산업부문 일정 범 의 기

업군을 체 분석 상으로 삼는 것이 보다 의미있는 결과를 얻을 수 있다.

4.7 적용사례

1998년 미국 상무부은 CHI社와 함께 보건, 재료, 자동차, 정보기술 포장분야에

한 특허분석을 실시하 다. 이 보고서54)에서는 CII를 특정 국가가 특정 기술분야에

서 보유하고 있는 특허 포트폴리오의 질 수 을 보여주는 지표로 사용하고 있다55).아래의 사례는 상기 보고서 CII 분석결과 일부를 발췌한 것이다. [그림 2-13]에

서 보건분야를 살펴보면 주요 국가 에서는 미국의 CII가 가장 높게 나타나 미국의

보건분야 특허기술의 향력이 가장 높은 것으로 악되었다. 흥미로운 은 주요 국가 이

외의 국가인 아일랜드와 한국의 1997년 CII(1992~1996)가 미국보다 높게 나타나고 있는

것이다. 이것은 미국에서 등록되고 있는 한국의 특허들이 평균 으로는 미국의 특허보

다 기술 향력이 크다는 것을 의미한다. 이 결과를 한국의 보건분야에 한 기술

역량 는 특허기술의 수 이 미국보다 높다는 결론으로 연결시킬 수 있을 것인가? 참

고로, 1992년부터 1996년까지 한국의 보건분야 미국특허 수는 74건이고, 미국은

13,457건이었다. 이로부터 CII만을 사용한 분석의 한계를 알 수 있다. CII는 개별 특허

에 한 “평균 ” 향력을 보여주는 지수이므로, 분석 상 건수가 은 국가의 경우에

는 피인용 수가 매우 높은 소수의 특허에 의해 CII가 민감하게 반응할 가능성이 높다. 한 기술의 평균 향력은 악될 수 있으나, 신성과의 양 인 측면에 해서는

아무런 정보를 제공해주지 않는다. 이러한 문제를 해결하기 한 방법은 다음 부분에

서 설명하기로 한다.

54) U.S. Department of Commerce (1998), The New Innovators - Global Patenting Trends in Five

Sectors.

55) 원문은 다음과 같이 표 하고 있다. “CII is an indicator of the quality of a country's patent portfolio

in a particular sector."


82

출처 : U.S. Department of Commerce (1998), The New Innovators - Global Patenting Trends in Five Sectors.

그림 2-13. 분야별, 국가별 ,구간별 CII


83

기술력 지수(TS, Technology Strength)5

5.1 개요

기술력 지수(TS)는 특정한 국가 는 기 의 기술 역량을 살펴보기 해 사용되

는 지표이다. TS 지수를 통해 우리는 개별 기술성과들의 평균 수 과 기술성과에

한 양 인 측면이 모두 고려된 특정 국가 는 기 의 기술역량에 한 정보를 제공받

을 수 있다.

5.2 정의

특정 연도의 TS는 CII에 특허건수를 곱한 값으로 정의된다.

×

(CIIi는 해당 연도의 i의 CII값, Ni는 해당 연도의 i의 특허건수)


TS 지수는 미국의 CHI社에서 개발한 지표로서, 특정 국가 는 기업의 기술 향

력을 악하기 해 주로 사용되고 있다.


TS 지수는 특허기술의 평균 향력을 표 하는 CII 값에 특허건수라는 양 지표

를 도입함으로써, 기술의 질 인 측면과 양 인 측면을 모두 고려한 기술 향력

는 기술 역량에 한 정보를 제공한다. 기본 으로는 CII 값을 포함하고 있으므로, TS도 재 시 에 한 기술 향력에 이 맞추어져 있음에 주목해야 한다. TS가 내포하고 있는 기술의 질 측면에 한 분석 의미와 해석상의 주의 은 CII와

동일하다고 할 수 있다.


84


TS 지수는 CPP 지수와 같은 단순한 피인용 빈도 지수나, PII, CII와 같은 상 인

기술수 측정지표와는 달리 기술 신 활동의 양 규모와 질 수 이 모두 고려된

분석결과를 보여 다.그러나 TS 지수는 지표의 내부 구조에 논리 인 모순 을 가지고 있다. TS 지수에

포함되어 있는 CII는 재 시 을 기 으로 과거 5년 특허의 피인용 정보를 사용하고

있으나, 이 값에 곱해지는 특허건수는 재 시 의 특허건수이기 때문이다. 따라서 TS지수로 재 시 의 기술수 을 평가한다는 것은 근본 으로 재 시 의 평균 인 특

허 향력이 과거 5년 특허들의 평균 인 기술 향력과 유사할 것이라는 가정에 기

를 두고 있다는 것을 의미한다.

5.6 적용방법

TS 분석을 진행할 때, 가장 유의해야 할 은 특정 연도의 CII와 그 당해 연도의 특

허건수를 곱해야 한다는 것이다. 즉, CII분석을 한 과거 5개 연도의 특허건수의 합을

곱하는 것이 아니다. 이는 TS가 과거 5개 연도의 신성과가 재 미치는 기술 향

력과 재 시 의 기술성과가 앞으로의 기술발 에 미치게 될 향력이 유사할 것이라

는 가정 하에 재 시 의 특허건수(양 정보)와 CII를 결합시킨 지표이기 때문이다.다만, 앞에서 설명된 TS 지수를 다소 변형시켜 사용하는 경우도 있다. 를 들어,

CII를 PII로 체하고, 재 연도의 특허건수를 PII 분석구간의 체 특허건수로 체

하는 방법이 표 인 이다. 이 게 변형된 TS 지수는 CHI社의 TS 지수와 분석

의미가 달라지게 된다. PII와 분석 상 구간의 특허건수를 사용한 변형 TS 지수는

시 의 기술 향력을 보여주는 지표라기보다는, 분석 상 기간에 걸쳐진 신활

동의 성과를 양 , 질 측면을 모두 고려하여 으로 보여주는 성격의 지표로 변

하게 된다.

5.7 적용사례

다음의 사례는 CII 해설부분에서 로 들었던 용사례와 동일한 미국 상무부의 특

허분석 보고서 일부를 발췌한 것이다56). 이 보고서에서는 TS 지수를 특허의 양 정

보와 질 정보를 사용하여 특정 국가의 기술력을 평가하기 한 지표로 사용하고 있다57).


85

먼 , 앞서 살펴본 CII 분석에서는 보건분야에서 미국이 주요 국가들 에서는 가장

높은 질 기술수 을 보 으나, 한국과 아일랜드의 경우 미국보다 높은 CII 값을 나타

낸 것을 기억해 보기로 한다. TS 분석에서는 어떠한 결과가 나타났는가? 1992년부터

1996년까지 보건분야에 한 분석결과를 살펴보면, 미국은 TS 지수가 12,246으로 나

타나 압도 인 기술력의 우 를 보이고 있다. 반면에 한국은 동일 기간의 TS가 97, 아

일랜드는 41을 기록하 다. 기술 신의 규모와 기술수 을 모두 고려하여 볼 때, 한국

은 미국에 비해 극히 낮은 기술력 수 에 머무르고 있다는 것이 명확하게 드러난 결과

로 해석될 수 있을 것이다.


그림 2-14. 분야별, 국가별, 구간별 TS


Sectors.

57) 원문의 표 은 다음과 같다. "The TS indicator provides a quality-weighted measure of a nation's

technological strength, using both the size and quality of a nation's patents."


86

기술순환주기 지수(TCT, Technology Cycle Time)6

6.1 개요

기술순환주기(TCT) 지수는 기술발 의 속도, 즉 신활동의 속도에 한 정보를 제

공한다. 특정 기술분야의 기술발 속도나 특정 주체의 기술 신 활동의 기반이 최근

의 연구성과에 기 하는가 아니면 오래 의 연구성과에 기 하는가를 살펴볼 수 있

다. TCT 지수는 기술수명주기 지수 등 다양한 명칭으로 사용되고 있다.

6.2 정의

기술의 순환주기는 다양한 방법으로 측정될 수 있다. 여기에서는 CHI社가 정의한

TCT 지수를 심으로 기술순환주기를 측정하는 방법을 소개하기로 한다58). CHI社의

TCT 지수는 다음과 같이 정의된다59)."인용된 특허들의 발행연도와 인용한 특허의 발행연도와의 차이값들

의 간값(median age)"이해를 돕기 해 계산사례를 하나 들어보기로 한다.미국특허 6,175,824호의 공보 상에는 다음과 같은 인용문헌(미국특허)들이 기재되어

있다. 미국특허 6,175,824호의 TCT 값은 어떻게 나타날까? 참고로 미국특허

6,175,824호는 2001년 1월 16일에 발간되었다.피인용 미국특허 특허번호 발행연도 연도차

(Backward Citation) 5,761,442 1998 35,819,238 1998 35,934,674 1999 25,978,778 1999 26,035,286 2000 1

이러한 경우 TCT는 연도차 값들의 간값인 “2”가 된다.

58) F. Narin (1999), Tech-Line Background Paper, CHI Research, Inc.

59) 미국 국립과학재단(NSF, National Science Foundation)의 과학기술통계 자료에서도 동일한 정의를 사용하고

있다(NSF (1996), Science and Engineering Indicators -1996)


87


TCT 지수는 CHI社에서 개발한 지표로서, 기술 신의 속도를 측정하고자 하는 경우

에 주로 사용된다. 기술순환주기를 측정하는 방법으로는 피인용 특허들의 발행연도와

인용 특허의 발행연도와의 차이값의 평균(average age)을 사용하는 방법도 생각해 볼

수 있으나, CHI社에서는 간값(median age)을 사용하고 있다. 이는 피인용 특허 에

하나의 특허가 매우 오래된( 를 들어 1800년 말이나, 1900년 에 발행된 특허) 문헌일 경우에 발생될 수 있는 과 편향의 가능성을 이기 한 것이다.


TCT 지수는 인용문헌들의 발간시 을 활용하여, 해당 기술분야의 발 속도나 특정

국가 는 기업의 기술 신의 속도를 측정하기 해 고안된 지표이다. 따라서 TCT 값

이 작게 나타난다는 것은 해당 기술이 보다 최근의 선행기술에 기반을 두고 있다는 것

을 의미하며, TCT 값이 크게 나타난다는 것은 보다 오래된 기술들에 기반을 두고 있

다는 것으로 해석될 수 있다.그러나, TCT 지수를 기술수 과 직 으로 연결시켜 해석하는 것은 무리가 있다.

최근의 선행기술을 기반으로 기술 신이 진행된다는 것은, 경쟁자들보다 빠른 기술발

을 이루고 있다고 해석될 수는 있으나, 그 성과의 기술 요성이나 가치가 높다는

것을 직 으로 의미하는 것은 아니기 때문이다.일반 으로 TCT 값은 기술분야에 따라 큰 차이를 보인다. 선박기술 분야와 같은

통 산업부문은 TCT 값이 상 으로 크게 나타나며, 정보통신 분야는 상 으로

작게 나타난다.


TCT는 기술 신의 속도를 측정하기 해 가장 유용하고 빈번히 사용되는 지표이다. 그러나, 앞서 설명된 바와 같이 기술수 과 직 으로 연결시켜 해석하는 것에는 무

리가 있다.


88

6.6 적용방법

TCT 분석을 진행하는 경우와 분석결과를 해석하는 경우에는 특히 기술분야별 특성

에 주의하여야 한다. 를 들어 단순히 한국과 미국의 TCT 지수를 비교하여 양국의

기술 신의 속도차를 논해서는 안 된다는 것이다. 한국의 주요 기술분야와 미국의 주

요 기술분야가 다를 수 있으며, TCT 값의 차이는 한국과 미국의 신속도의 차이에도

기인할 수 있겠지만, 기술분야별 특성에 의해서도 향을 받을 수 있기 때문이다. 따라

서 복수의 국가나 기업들의 기술개발의 신속성을 측정하고자 하는 경우에는 동일한 산

업부문 는 기술분야 내에서 상호 비교평가를 하는 것이 바람직하다.

6.7 적용사례

[그림 2-15]는 1996년 미국 국립과학재단(NSF, National Science Foundation)의「Science & Engineering Indicators」에 실린 특허분석 사례의 일부로서, 주요 6개 산

업에 해 미국, 유럽, 아시아의 CII, TCT, SL60) 분석을 수행한 결과이다.이 TCT 분석결과를 살펴보면, 미국은 컴퓨터 분야를 제외한 5개 산업분야에서

모두 유럽과 아시아보다 TCT 값이 높게 나타났다. 이는 “ 신의 속도”라는 측면에서는

유럽과 아시아가 보다 기술개발의 속도가 빠르다는 것을 의미한다. 그러나 술한 바

와 같이, 이것을 기술 역량 는 수 과 직 으로 연결시켜 해석해서는 안 된다. 한, 아래의 분석결과는 특허분류를 산업분류와 연결시켜 분석이 이루어진 결과로서,

분류간의 응 계 등을 고려하여야만 올바른 해석을 얻어낼 수 있게 된다.

60) 과학연계 지수(SL, Science Linkage). 구체 인 내용은 후술하는 SL 지수에 한 부분에서 설명하기로

한다.


89

출처 : NSF (1996), Science and Engineering Indicators - 1996

그림 2-15. 주요 산업별 CII, TCT, SL 분석 사례


90

과학연계 지수(SL, Science Linkage)7

7.1 개요

과학연계 지수(SL)는 특허에 담겨진 기술이 과학의 연구성과들과 얼마나 한

련을 맺고 있는가를 보여 다. 우리는 SL 지수를 통해 어떠한 국가나 기업이 해당 산

업부문에서 선도 인 치에 있으며, 기 연구 는 원천기술의 개발에 주력하고 있는

가를 간 으로 살펴볼 수 있다.

7.2 정의

SL은 분석 상 특허들이 인용한 과학기술논문 개수의 평균값으로 정의된다61).

(nt은 t 연도에 등록된 특허 건수, Si는 i특허가 인용한 과학기술 논문 수)


기 과학의 연구성과는 기술 신의 원동력이 된다. 학과 연구기 에서의 연구성과

는 상업 기술로 발 되고, 결국에는 새로운 시장의 창출과 경제 부의 축 을 이룰

수 있게 되는 것이다. 따라서 특정 국가나 기업의 특허가 학과 연구기 의 연구성과

와 보다 한 계를 가지고 있다는 것은 그 국가 는 기업이 첨단 분야에서 활동

하고 있거나, 해당 기술분야에서 선도 치를 하고 있다는 것을 간 으로 시사

61) 미국특허 공보 상에 표시되는 인용문헌은 크게 세 부분으로 나 어진다. “U.S. Patent Documents",

"Foreign Patent Documents", "Other Publications"가 그것이며, “Other Publications" 부분에는 특허 이

외의 인용문헌 목록이 기재되어 있다. SL 지수를 엄격하게 설명하면 특허 이외의 인용문헌 , 과학기

술 논문의 개수를 추출하여 계산되는 지수이다. 그러나 이러한 분석은 별도로 가공된 특허 데이터베이

스에 근이 가능한 경우에 이루어질 수 있으며, 보다 용이한 분석방법은 ”Other Publications"에 기재

된 문헌의 개수를 이용하여 분석하는 것이다. 이 경우에는 통상 비특허인용 지수(NPR, Non-Patent

References)로 표 되며, 과학기술 논문 이외의 자료들이 포함되므로 SL보다는 다소의 오류(bias)가 존

재할 수 있다.


91

한다고 볼 수 있다.SL 지수는 CHI社에서 개발한 지표로 알려져 있다. CHI社에서는 SL 지수를 이용하

여 학과 공공부문의 기 연구가 산업에 어떠한 향을 미쳤는가를 정량 으로 분석

한 바가 있다62). 이 연구결과에서는 미국특허에 기재된 과학기술 논문 75%가 학, 정부 비 리 연구기 으로부터 발생된 것으로 나타났다.


SL 지수는 해당 기술이 기 는 학술 연구 성과들과 어느 정도로 가까운 계에

있는가에 한 직 인 정보를 제공한다. 앞서 언 된 바와 같이, 해당 기술이 과학기

술 논문을 많이 인용하고 있다는 것은 보다 기 이고 원천 인 기술일 가능성이 높

다는 것을 의미한다. 한 개별 국가나 기업의 SL 지수가 높은 수치를 보인다는 것은

경쟁 국가나 기업에 비해 보다 선도 지 를 차지하고 있을 가능성이 높은 것으로 해

석될 수 있을 것이다.


SL 지수는 기본 으로 기술개발 활동의 방향성 는 성격을 규명하기 해 사용하는

지표이다. 즉, 기 기술의 개발에 주력하는가, 아니면 응용기술의 개발에 주력하는가를

살펴볼 수 있는 도구인 것이다. 물론 SL 지수가 함축한 이러한 의미는 해당 기술의

요성과 가치로 연결되어 해석될 수도 있으나, SL 지수 자체는 기술의 요성이나 수

, 가치에 직 으로 연결되어 있는 지수로 보기는 어렵다.

7.6 적용방법

SL 값은 기술분야에 따라 큰 차이를 보인다. 일반 으로 생명공학, 의약 기술은 과

학과 매우 높은 연계도를 가지나, 기계나 기 기술은 상 으로 과학과의 연계도가

낮게 나타난다. 따라서 SL 분석을 진행하는 경우에는 기술분야별로 나타나는 특성을

고려하여야 한다.

62) F. Narin, K. S. Hamilton and D. Olivastro (1997), The Increasing Linkage between U.S. Technology

and Public Science, Research Policy, 26(3), 317-330.


92

7.7 적용사례

[그림 2-16]은 SL 지수와 유사한 개념의 지수인 NPR 지수를 TCT 지수와 함께 도

식 으로 분석한 결과를 보여주고 있다63). 미국은 5개 산업분야 모두 과학과의 연계도

가 강화된 것으로 나타났다(NPR 값의 증가). 한 5개 산업분야 보건분야를 제외

한 4개 분야는 기술 신 속도가 상승한 것을 확인할 수 있다(TCT의 감소).


그림 2-16. TCT vs. NPR 분석사례


Sectors.


93

특허 당 평균 청구항 수(Average Claims per Patent)8

8.1 개요

청구항 수는 해당 특허의 발명의 폭과 권리의 범 를 측정하기 한 지표로 많은

심을 끌어왔다. 그러나 재까지 청구항 수만으로 기술수 을 측정하려는 시도는 많지

않으며, 주로 다른 지표들(피인용 지수, 패 리 지수 등)과 함께 특허의 가치 는 분

쟁의 가능성을 측정하기 한 도구로 사용하려는 시도가 주를 이루고 있다.

8.2 정의

특허 당 청구항 수는 분석 상 특허들의 평균 인 청구항 수로 계산된다.

(nt은 t 연도에 등록된 특허 건수, Ci는 i특허의 청구항 수)


청구항 수는 신성과를 측정하는 지표로 고려될 수 있다. 이러한 가능성은 특허의

실질 인 발명들이 청구항으로 기재되어 있으므로 단순한 특허 수보다는 청구항 수가

기술 신 활동에 한 올바른 정보를 제공하여 것이라는 논리 추론에 기반한다. 결국 특허의 청구항 수가 많다는 것은 보다 많은 발명, 즉 넓은 기술 범 에 한

보호가 선언된 것으로 볼 수 있다64). X. Tong과 J. D. Frame은 특허건수 청구항

수와 과학, 기술, 경제지표들 간의 상 계에 한 연구를 통해 단순한 특허 수보다는

특허 청구항 수가 기술 신 활동에 한 보다 정확한 정보를 제공한다고 결론지었

다65).64) 그러나 일반 으로 청구항을 구성하는 단어와 문장의 수가 을수록 청구항의 보호범 가 넓을 가능성

이 높은 것으로 본다(마쿠쉬 형식의 청구항은 제외).

65) X. Tong and J. D. Frame (1994), Measuring National Technological Performance with Patent Claims

Data, Research Policy, 23, 133-141.


94

한 J. Lanjouw와 M. Schankerman은 청구항 수가 분쟁의 발생 가능성과 련되어

있다는 것을 밝 낸 바가 있으며66), 특허의 피인용 수와 청구항 수를 신성과의 가치

와 보다 한 련을 가진 지표로 평가하 다67).


청구항 수는 법 으로는 특허권이라는 독 권리가 발생되는 발명의 개수를 의미

한다. 따라서 특허 당 청구항 수는 실질 인 발명단 들의 수량 규모를 보여주며, 그

수가 많다는 것은 보다 세부 이고 다각 인 에서 발명이 보호받고 있다는 것을

의미한다. 즉, 특허청구항 수는 신성과로서의 단 발명들의 양 규모에 한 정보

를 제공한다. 그러나 특허 청구항 수를 개별특허의 질 수 이나, 기술 요성과 직

으로 연결시키는 것은 곤란하다. 물론 가치측정의 도구로서 청구항 수를 사용한

연구사례들이 있으나, 청구항 수만으로 신성과의 가치를 측정하기에는 재까지 이

론 , 실증 기반은 다소 부족한 것으로 보인다.


지 까지 청구항 수와 련된 연구들은 주로 미국의 등록특허를 상으로 이루어져

왔다. 청구항 수는 다른 특허지표들에 비해 상 으로 국가별 특허제도와 문화 요

소, 특허출원인의 출원 략 사법부의 결경향 등과 같은 여러 요인들로부터 많은

향을 받는다는 을 생각해 볼 때, 한국 특허청에 출원된 특허와 등록된 특허의 청

구항 수에 한 실증 연구들이 아직까지 많이 이루어지지 않고 있다는 은 한국특

허를 상으로 이 지수를 극 으로 활용하는데 있어 제약요소가 되고 있다.

8.6 적용방법

청구항 수는 크게 두 가지로 나 어 볼 수 있다. 특허출원인이 출원시에 작성한 청

구항의 개수와 최종 으로 등록된 특허에 포함되어 있는 청구항의 개수가 그것이다.

66) J. Lanjouw and M. Schankerman (1997), Stylized Facts of Patent Litigation - Value, Scope and

Ownership, NBER Working Paper, 6297.




95

출원 청구항 수는 출원인 는 발명자가 보호를 요구하고자 하는 발명의 범 를 나타

낸다. 반면에 등록 청구항 수는 실제로 보호가 이루어지는 발명의 범 를 나타내므로, 분석가는 분석목 에 따라 어떠한 지수를 사용할 것인지를 결정하여야 한다.

한, 청구항 수는 기술분야에 따라 그 값이 달라지는 경향을 보인다. 따라서, 국가

는 기업과 같은 주체별 비교평가를 할 경우에는 기술분야를 한정하여 상호 비교하는

것이 바람직하다.

8.7 적용사례

청구항 수는 학술 목 의 연구에서 사용된 사례는 있으나, 실제 기술수 의 측정

을 해 단독 인 지표로 사용된 사례를 찾아보기는 힘들다. 이는 청구항 수가 가진

암시 의미가 분명히 있음에도 불구하고, 앞서 살펴본 바와 같이 여러 요인들에 의해

향을 받는 지수이기 때문일 것이다.다음의 사례는 X. Tong과 J. D. Frame의 분석결과 일부를 발췌한 것이다. 표에

서도 볼 수 있는 바와 같이 평균 청구항 수는 기술분야별로 차이가 있다. 한 반

으로 미국이 가장 많은 청구항 수를 기록하고 있으며, 일본은 평균 청구항 수가 게

나타나고 있다. 몇몇 경우를 제외하고는 시계열 으로 보았을 때 평균 청구항 수가 증

가하고 있는 것을 확인할 수 있다.

France Japan UK US W. Germany1980 1990 1980 1990 1980 1990 1980 1990 1980 1990

Internal Combust Engines Couns 24 8 231 370 21 27 244 268 119 109AvgClaims 8.2 5.4 8.6 9.8 9.8 14.7 11.8 12.4 9.8 11.6

Electric Computer & DP Couns 11 48 102 785 20 41 540 1,351 27 73AvgClaims 12.0 9.9 9.6 10.3 10.5 10.5 13.6 15.6 9.6 12.2

Aeronautics Couns 14 23 4 14 7 16 115 147 12 28AvgClaims 8.1 10.2 5.8 7.5 7.4 12.8 9.8 13.7 6.8 10.8

※ 본 분석결과는 미국특허를 상으로 임의추출(Random Sampling)한 데이터를 사용한 결과임.출처 : X. Tong and J. D. Frame (1994), Measuring National Technological Performance with Patent Claims Data, Research Policy, 23, 133-141.

표 2-9. 주요 3개 기술분야에 한 국가별 특허 수 평균 청구항 수


96

패밀리 규모(Family Size)9

9.1 개요

특허 패 리의 규모는 직 으로는 해당 특허의 지역 보호범 를 나타내며, 간

으로는 해당 특허가 가지는 기술 요성과 신성과로서의 가치에 한 정보를 제

공한다.

9.2 정의

특허 패 리의 규모를 측정하는 방법은 다양하게 정의될 수 있다. 그러나 여기에서는 특

허 패 리가 형성되어 있는 국가의 개수로 정의하여 사용하기로 한다68).

(N은 특허 건수, Fi는 i특허의 패 리가 형성되어 있는 국가 수)


일반 으로 외국에 특허를 출원하고 등록을 유지하려면 공 수수료, 번역료, 법

비용 등이 소요되므로, 소수의 특허만이 외국에 출원되고, 다시 그 일부만이 보다 넓은

지역에서의 법 보호조치가 강구된다. 따라서 패 리 규모는 신활동의 성과물을 보

호함으로써 얻을 수 있는 기 가치와 계를 갖게 되고, 결국에는 신활동 자체의 가

치와 련을 맺게 된다69). 이것은 다시 신성과의 기술 요성과 시장에서의 기회

와 연결된다.한 특허 패 리 정보와 련하여 J. Lanjouw와 M. Schankerman은 신활동의 가

치는 몇 개의 국가에 패 리를 형성시킬 것인가의 결정보다는 외국에 출원할 것인가의

결정 자체와 보다 한 계가 있으며, 따라서 일종의 문턱효과(threshold effect)가

존재한다고 보았다70).

68) D. Harhoff, F. Scherer, and K. Vopel (2003), Citations, Family Size, Opposition and the Value of

Patent Rights, Research Policy, 32(8).

69) J. Putnam (1996), The Value of International Patent Rights, Ph. D. thesis, Yale University.


97


특허권은 속지주의 원칙에 따라 개별 국가 내에서만 그 권리가 인정되므로, 각각의

국가에서 보호조치가 이루어져야 한다. 따라서 발명자 는 출원인은 개발된 기술을

보호받기 해 개별 국가마다 권리획득을 한 차를 밟아야 하며, 이러한 과정의 결

과로서 하나의 기술에 한 여러 국가에서의 특허(출원), 즉 특허 패 리가 형성되게

되는 것이다.특허 패 리는 해당 특허의 보호범 가 지역 으로 어느 정도까지 미치고 있는가를

직 으로 보여주는 지표이다. 한, 패 리 형성에 따르는 비용과 노력 등을 고려하

여 볼 때, 패 리 규모가 큰 특허는 기술 요성과 가치가 높은 특허로 추정될 수

있다.


특허 패 리의 규모와 함께 패 리가 형성된 국가가 어디인가도 요한 요인으로 작

용한다. 미국 시장과 아 리카 시장이 갖는 경제 의미는 분명이 다를 것이기 때문이

다. 이러한 요인은 다른 측면으로도 향을 미친다. 를 들어, 미국시장의 규모와

요성을 고려하여 볼 때, 일반 으로 한국을 포함한 유럽이나 다른 국가의 특허 패 리

규모는 미국특허의 자국인 특허 패 리 규모보다는 해당 특허의 가치와 보다 한

련을 가질 것이다71).

9.6 적용방법

일반 으로 특허 패 리 수는 해당 특허가 출원 는 등록된 국가의 수와 일치하지

않는다. 이는 특허 패 리 데이터에는 자국 내에서의 연속 는 우선권 주장 출원 등

이 포함되어 있고, 동일한 특허의 공개, 등록 정보가 뒤섞여 있기 때문이다. 따라서 패

리 분석을 해서는 분석이 가능한 형태의 데이터를 확보해야만 한다.



71) D. Harhoff, F. Scherer, and K. Vopel (1999), Citations, Family Size, Opposition and the Value of

Patent Rights, Working paper.(http://emlab.berkeley.edu/users/bhhall/harhoffetal99.pdf) ; D.

Harhoff, F. Scherer, and K. Vopel (2003), Citations, Family Size, Opposition and the Value of Patent

Rights, Research Policy, 32(8).


98

한 특허 패 리 분석은 분석목 에 따라 사용 데이터를 신 히 선정하여야 한다. 일반 으로는 해당 특허가 출원된 국가의 수로서 분석이 진행되나, 순수하게 특허권이

형성된 범 에 분석의 이 맞추어져야 하는 경우에는 최종 으로 등록이 이루어진

국가의 수로서 분석이 이루어져야 한다.추가 으로, 특허 패 리 규모를 이용하여 신성과의 가치를 측정하고자 하는 경우

에는 기술분야별 특성을 고려해야 한다. 를 들어 제약이나 화학 분야의 특허들은

자나 기계분야보다 외국에 특허 패 리를 형성하는 경향이 강하다.

9.7 적용사례

아래의 사례는 2004년 특허청과 한국특허정보원이 작성한 NT특허분석보고서 요약

서의 내용 일부이다. 이 분석결과는 주요 국가별로 CPP 지수를 통한 평균 기술수

과 패 리 규모 지수를 통한 시장확보 황을 보여주고 있다. 패 리 규모는 특허의

기술 요성 는 기술 가치와도 연결되어 해석되므로 CPP 지수와 패 리 규모

간에는 일정한 상 계가 존재할 것으로도 상할 수 있다. 그러나 아래의 분석에서

는 패 리 규모를 시장 확보력을 악하기 한 지수로 사용하고 있다.

한국

독일

일본

영국

미국

호주

캐나다

네덜란드

0.0

3.0

6.0

9.0

12.0

-30.0 0.0 30.0 60.0 90.0

PFS

CPP

질적수준은 높지만시장성은 낮은 국가

질적수준이 높고시장성이 큰 국가

질적수준이 낮으며시장성이 적은 국가

질적수준이 낮지만시장성이 큰 국가

평균인용수:5.97

평균Fami l y Si ze:10.76

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), NT특허분석보고서(요약서)

그림 2-17. 주요 국가별 시장력과 피인용비


99


기술 신 과정에는 다양한 주체들이 참여한다. 어떠한 분야에서는 정부가 주도 으

로 신과정을 이끌어가는 경우가 있고, 어떤 분야에서는 시장의 경쟁에 의하여 신

활동이 진되기도 한다. 한 연구개발 과정에서 다양한 주체들의 력이 이루어지기

도 한다. 정부와 기업간의 력이나 학과 기업간의 력은 성공 인 기술개발의

요한 요인으로 인식되고 있다. 따라서 연구개발 과정에서의 다양한 력 계를 악하

고, 최 의 력체계를 구축하는 것은 과학기술에 한 정책수립자들의 주요한 심

사 하나이다.신과정에서의 력 계와 맥락을 같이 하는 하나의 요한 이슈는 지식의 확산

는 흐름에 한 황을 악하는 것이다. 지식흐름에 한 분석은 연구개발의 성과

로부터 발생되는 가치가 귀속되는 계나 지식의 창출이 미치는 효과 등과 같이

력 계 분석만으로는 악될 수 없는 유용한 정보를 제공한다.본 에서는 신활동의 력 계 악을 한 공동발명 지표와 연구성과의 공유

황 악을 한 공동출원 지표를 소개하여 신과정에서의 력 계 분석에 한 기반

을 제공하고, 이와 더불어 인력 측면의 유입, 유출 황과 지식 자체의 유입, 확산과정

에 한 분석 지표를 소개하기로 한다.

투입(Input)

R&D

인력 협력관계

유입ㆍ유출현황

지식 유입현황

ㆍ공동발명 분석ㆍSalton’s Index 등

ㆍ출원인 및 발명자 정보 분석

ㆍBackward Citation 분석

성과(Output)

소유 소유권의 공유

지식 확산현황

ㆍ공동출원(소유) 분석ㆍSalton’s Index 등

ㆍForward Citation 분석

투입(Input)

R&D

인력인력 협력관계협력관계

유입ㆍ유출현황유입ㆍ유출현황

지식지식 유입현황유입현황

ㆍ공동발명 분석ㆍSalton’s Index 등

ㆍ출원인 및 발명자 정보 분석

ㆍBackward Citation 분석

성과(Output)

소유소유 소유권의 공유소유권의 공유

지식지식 확산현황확산현황

ㆍ공동출원(소유) 분석ㆍSalton’s Index 등

ㆍForward Citation 분석

그림 2-18. 력 계 지식흐름의 분석 개념


100

공동출원 ․ 발명 특허 수(Number of Patents with co-applicants, with co-inventors)1

1.1 개요

공동특허 수는 기술 신 활동과 련된 연구주체간 력 황에 한 양 정보를 제

공한다. 공동특허 수는 크게 두 가지로 나 어 볼 수 있다. 하나는 신성과의 소유에

한 력 계, 즉 소유권이 공유되어 있는 특허의 수와 실질 인 기술 신 활동의 력

계, 즉 공동발명으로 이루어진 특허의 수가 그것이다.

1.2 정의

공동특허 수는 2가지로 정의될 수 있다.공동소유(출원) 특허 수

“2 이상의 주체가 공동으로 소유(출원)한 특허 수”공동발명 특허 수

“2 이상의 발명자가 공동으로 발명한 특허 수”


앞서 설명되었던 바와 같이 특허정보에 포함된 인 정보는 크게 2가지가 있다. 하나는

특허권과 련된 권리 주체에 한 정보인 특허출원인( 는 소유권자) 정보이며, 나머

지 하나는 발명활동의 주체에 한 정보인 발명자 정보이다.따라서, 특허의 출원인( 는 소유권자)이 복수의 주체들로 구성되어 있는 특허를

상으로 분석이 이루어지면 특허권의 공유 계가 형성된, 즉 권리측면의 력 계에

한 정보를 얻을 수 있게 된다72). 한 특허의 발명자가 복수인 특허들에 한 분석은

공동연구가 이루어진 발명활동에 한 황을 악할 수 있도록 해 다.

72) 그러나, 이는 공시되지 않는 내부 인 지분 계나 라이센스 계약과 련된 정보를 담고 있지 않다는

에 주의해야 한다.


101


먼 공동발명에 한 분석결과는 실질 인 연구 활동의 력 계에 한 정보를 제

공한다. 특허 데이터에 담긴 발명자 련 정보는 발명자의 성명, 거주지 국가 주소

정보이다. 따라서 공동발명에 한 분석이 가능한 범 는 발명자 간의 력 계73), 국

가 간의 연구개발의 력 계 지역 간의 력 계에 한정된다.반면에 공동출원에 한 분석결과는 권리의 공유 계에 한 분석 의미를 담고 있

다. 일반 으로 기업, 학, 연구소와 같은 기 수 에서의 력 계는 공동출원된 특

허를 통해서만 악될 수 있다. 재 보편 인 특허 데이터에는 발명자의 소속기 에

한 정보가 들어있지 않기 때문이다.공동특허에 한 분석결과는 력 계의 양 정보만을 제공하며, 방향성에 한 정

보는 제시하지 않는다. 즉, 력을 통해 산출된 신성과들이 어떠한 방향으로 흘러 들

어가는가, 아니면 어떠한 곳에서 지식의 유출이 발생되고 있는가는 확인할 수 없다. 이

러한 정보를 얻기 해서는 지식흐름에 한 추가 인 분석이 이루어져야 한다.


공동출원에 한 분석결과가 권리의 공유 계에 한 정보를 제공할 수는 있으나, 공시되지 않는 내부 인 지분 계나 사 계약에 의한 라이센스 체결과 같은 보다 구

체 인 정보는 담고 있지 않다는 에 유의하여야 한다. 한 공동발명에 한 분석결

과만으로는 발명의 기여정도에 따른 가 치가 용된 력 계까지는 악할 수 없으

며, 공동발명에 한 분석이 보다 세부 으로 진행되기 해서는 발명자 성명과 주소

등이 일정한 형식에 따라 정비되어 있는 데이터베이스에 근할 수 있어야 한다는

은 앞서 설명한 바와 같다.

73) 이 분석은 발명자 성명에 한 정비가 되어있는 데이터베이스의 존재를 제로 한다. 한 동명이인의

존재에 따른 오류가 발생될 수 있으며, 이 경우 발명자의 주소 등을 참고로 하여 오류를 최소화시키기

한 추가 인 작업이 요구된다.


102

1.6 적용방법

권리 측면 는 기술 신 활동의 측면에 한 력 계는 다양한 방식으로 진행될

수 있다. 단순히 력이 이루어진 특허 수로서 력에 의한 신성과가 발생되는 비

을 악할 수도 있고, 국가 간의 력 계, 지역 간의 력 계, 섹터 간 력 계(산학연 공동연구 등)74) 특정 기 는 기업 간의 력 계 한 분석이 가능하다.

1.7 적용사례

[그림 2-19]는 한국특허 데이터를 이용하여 BT분야에서 주요 국가들의 외국과의

력 계를 출원(소유)과 발명의 두 가지 에서 분석한 결과이다. 분석결과를 살펴

보면 한국과 일본은 상 으로 외국과의 력 계가 권리의 공유와 발명의 력이라

는 측면 모두에서 조한 것을 확인할 수 있다. 아래의 분석결과에서는 나타나 있지

않으나, 이 분석이 수행된 보고서에서는 국의 국제공동출원과 국제공동발명 비율이

매우 높게 나타나고 있음을 지 하고 있다. 이것은 무엇을 의미하는 분석결과인가? 보

다 정확한 정황은 지식흐름에 한 분석결과를 통해 밝 지게 된다. 지식흐름에 한

분석방법은 해당 부분에서 설명될 것이다.

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), 생명공학 특허동향

1. 출원연도 기준

2. '85~'01 다출원 5개국 대상

< 생명공학분야의 구간별 국제 공동출원 점유율 >

0.4%

5.2%

3.0%

6.3%

9.4%

0.0%

1.0%

2.0%

3.0%

4.0%

5.0%

6.0%

7.0%

8.0%

9.0%

10.0%

86~89 90~93 94~97 98~01

한국

미국

일본

독일

영국


2. '85~'01 발명자 국적 기준 다출원 5개국

< 생명공학분야의 구간별 국제 공동발명 점유율 >

3.4%

31.0%

10.0%

36.3%

53.5%

0.0%

10.0%

20.0%

30.0%

40.0%

50.0%

60.0%

86~89 90~93 94~97 98~01

한국

미국

일본

독일

영국


2. '85~'01 다출원 5개국 대상

< 생명공학분야의 구간별 국제 공동출원 점유율 >

0.4%

5.2%

3.0%

6.3%

9.4%

0.0%

1.0%

2.0%

3.0%

4.0%

5.0%

6.0%

7.0%

8.0%

9.0%

10.0%

86~89 90~93 94~97 98~01

한국

미국

일본

독일

영국


2. '85~'01 발명자 국적 기준 다출원 5개국

< 생명공학분야의 구간별 국제 공동발명 점유율 >

3.4%

31.0%

10.0%

36.3%

53.5%

0.0%

10.0%

20.0%

30.0%

40.0%

50.0%

60.0%

86~89 90~93 94~97 98~01

한국

미국

일본

독일

영국

그림 2-19. 주요 국가의 BT분야 국제공동출원 국제공동발명 구간별 유율

74) 다만 섹터 간 력 계 분석은 출원인의 유형 정보(공공기 , 비 리기 , 학, 개인 등)를 제공하는

데이터베이스를 사용해야 한다.


103

샐턴 지수(Salton's Index)2

2.1 개요

샐턴 지수(Salton's Index)는 국가 간 력, 지역 간 력, 기 간 력 등 다양한

유형의 력 계의 강도를 보여 다. Salton's measure, Salton's cosine formula, Salton's cosine measure 등의 명칭으로 사용된다.

2.2 정의

샐턴 지수는 다음과 같이 계산된다.

(Pij는 i와 j의 공동특허 수, Pi는 i의 특허 수, Pj는 j의 특허 수)


이 지표는 원래 Salton이 정보검색, 문헌 클러스터링과 련된 연구과정에서 제시한

모델이다75). 이 지수를 연구개발의 력 계에 용시키게 되면 력자 간의 력의

강도를 악할 수 있게 된다76).


일반 으로 력 계에 한 분석을 공동특허 수만으로 실시하게 되면, 상 인

75) G. Salton, M. J. Mcgill (1983), Introduction to Modern Information Retrieval, McGraw-Hill, N.Y. ; G.

Salton (1989), Automatic Text Processing: The Transformation, Analysis and Retrieval of Information

by Computer, Addison-Wesley, N.Y. ; L. Liang and L. Zhu (2002), Major Factors Affecting China's

Inter-regional Research Collaboration - Regional Scientific Productibity and Geographical Proximity,

Scientometrics, 55(2), 287-316.

76) W. Glanzel et al. (2003), Biotechnology - An Analysis based on Publications and Patents, Steunpunt

O&O Statistieken.


104

력강도를 측정할 수 없게 된다. 를 들어 한국과 미국 발명자간에 공동발명이 이루어

진 특허건수는 단순한 양 정보만을 제공하며, 한국과 미국의 기술 신 활동의 력

도가 상 으로 어느 정도로 하게 이루어지고 있는가는 확인될 수 없는 것이다. 샐턴 지수는 이 경우에 한국과 미국 양국의 체 인 특허의 양 규모를 고려한 공동

발명의 상 비율을 알려주게 됨으로써, 양국 간의 상 인 력의 강도를 악할

수 있게 해 다.


샐턴 지수는 본질 으로 력의 양 인 값을 상 인 값으로 환시킨 지수이다. 따라서 샐턴 지수가 높을 경우에 력 계가 양 으로 많이 이루어지고 있다고 해석해

서는 안 된다. 공동특허 수가 많은 경우에도 양 력자의 특허 규모가 큰 경우에는 샐

턴 지수가 낮게 나타날 수 있다.

2.6 적용방법

샐턴 지수도 공동특허 수에 한 분석과 마찬가지로 다양한 측면으로의 활용이 가능

하다. 국가 간, 지역 간, 섹터 간, 기업 간 는 개별 발명자 간의 력 계를 분석할

수 있으며, 복수 특허분류를 사용한 기술분야 간 연계도 분석에서도 활용이 가능하다.

2.7 적용사례

먼 , [그림 2-20]은 과학기술 문헌(논문)의 작자 정보를 사용하여 국가 간 연구개

발의 력 계를 샐턴 지수로서 분석한 결과를 도식 으로 보여주고 있다77). 분석결과

유럽 지역 클러스터와 미국 간의 력 계를 살펴보면 독일, 랑스 국이 미국과의

력강도가 상 으로 높은 것을 알 수 있다. 아시아 지역에서는 일본이 미국과 상

으로 공동연구가 활발한 것으로 나타났으며, 캐나다와 미국은 매우 한 력 계

가 형성되어 있는 것을 확인할 수 있다.

77) W. Glanzel et al. (2003), Biotechnology - An Analysis based on Publications and Patents, Steunpunt

O&O Statistieken.


105

출처 : W. Glanzel et al. (2003), Biotechnology - An Analysis based on Publications and Patents, Steunpunt O&O Statistieken.

그림 2-20. 국제 공동 작(co-publication) 계 분석결과(1998～2001)

[표 2-10]은 1992년부터 2001년까지 미국에 출원된 미국등록특허를 상으로 국

가간 공동발명 강도를 샐턴 지수로 분석한 결과이다. 미국의 경우 부분의 국가와

력 계가 나타나고 있으며, 특히 국, 캐나다와 높은 력도를 보이고 있다. 스 스의

경우 미국보다는 독일과의 력도가 높은 것으로 나타났으며, 일본은 미국과의 력

계만이 악되고 있다.


106

출처 : W. Glanzel et al. (2003), Biotechnology - An Analysis based on Publications and Patents, SteunpuntO&O Statistieken.

표 2-10. 미국특허를 이용한 국가간 공동발명 황 분석결과(1992～2001, 출원연도)


107

인력 유입률 ․ 유출률(Brain Gain, Brain Drain)3

3.1 개요

인력 유입률 유출률 분석은 연구활동의 성과가 어디로 귀속되고 있는가에 한

황을 악하기 해 사용된다. 기술 신 과정에서 인 (人的) 측면에 을 맞추어

지식의 흐름방향을 악하기 한 분석이라 할 수 있다.

3.2 정의

인력 유입률과 유출률은 일반 으로 다음과 같이 정의될 수 있다.인력 유입률

“자국 거주자( 는 자국인)가 소유한 특허 외국 거주( 는 외

국인) 발명자의 연구활동이 포함된 특허의 비율”인력 유출률

“자국 거주( 는 자국인) 발명자의 연구활동이 포함된 특허

외국 거주자( 는 외국인)가 소유한 특허의 비율”


지식의 흐름은 “지식”자체의 확산 과정에 한 분석을 통해 흐름의 방향성과 향을

악할 수도 있으나, 실제 지식을 창출하는 신의 주체, 즉 연구인력의 활용 황에

한 분석을 통해서도 악될 수 있다.외국의 연구인력 유입과 련된 분석은 실제 국내에서 활동하고 있는 인력의 수, 유

학생의 수 는 인력유치에 투여되는 비용 등을 통해 살펴볼 수도 있다. 이 경우의 통

계치는 신활동에 한 “투입”측면을 반 하는 성격이 강하게 된다. 반면에 특허정보

를 활용한 인력의 유입 ․ 유출 분석은 실제 외국과 자국 연구인력들의 연구 성과의 가

치가 어느 쪽으로 흐르고 있는가를 보여주게 되므로 신활동에 한 “성과”측면의 정

보를 통해 연구개발에 투입된 인력의 기여도와 성과의 귀속 방향에 한 정보를 제공


108

받을 수 있게 된다. 이러한 개념의 분석은 OECD의 특허통계78)에서도 사용되고 있다. 다만, OECD는 인

력의 유입과 유출이라는 표 을 사용하고 있지는 않다79).


앞서 언 된 바와 같이 지식 흐름에 한 분석은 “지식”자체의 확산 과정에 한 분

석과 연구인력에 한 분석을 통해 이루어질 수 있다. 그러나 이 두 가지 분석을 통해

얻어지는 결과의 분석 의미는 다르다. 지식 자체의 흐름 과정에 한 분석80)은 신

활동의 성과로 얻어지는 지식이 지역 으로나 다른 기술분야 는 다른 섹터로 되

고 있는 황을 보여 다. 이에 반해 특허의 출원인과 발명자 정보를 활용한 “인력”의 분석은 다른 국가 는 지역의 연구자들을 활용하는 연구개발의 략 , 정책

인 단면을 살펴볼 수 있도록 해 다.


특허정보를 이용한 인력 유입 유출분석과 련된 다양한 실증 연구나 용사례

는 아직까지 많지 않다. 향후 폭넓은 연구가 필요한 분야이다.

3.6 적용방법

특허 출원인과 발명자 정보를 이용한 인력 유입 유출분석은 다양한 분석기 과

방법이 사용될 수 있다. 이는 하나의 특허출원에 해 출원인과 발명자가 복수로 포함

될 수 있기 때문이다. 아직까지는 분석과 련된 최 의 기 과 방법에 해 많은 논

의가 진행되지는 못한 실정이다. 앞서 설명된 바와 같이 OECD도 이러한 개념의 통계

분석 결과를 발표하고 있으나, 구체 인 분석기 과 방법에 해서는 밝히고 있지 않

78) OECD (2004), Compendium of Patent Statistics 2004.

79) OECD 보고서는 본 보고서 상의 인력 유출률을 “Foreign ownership of domestic inventions"로, 인력

유입률은 ”Domestic ownership of inventions made abroad"로 표 하고 있다.

80) 특허정보를 이용한 지식 자체의 흐름(flow) 는 확산(spillover)에 한 연구는 인용분석을 주로 진행

되고 있다(A. B. Jaffe, M Trajtenberg (1996), Flows of Knowledge from Universities and Federal Labs

- Modeling The Flow of Patent Citations over Time and Across Institutional and Geographic

Boundaries, NBER Working Paper, 5712. ; A. B. Jaffe, M. Trajtenberg (1998), International Knowledge

Flows - Evidence from Patent Citations, NBER Working Paper, 6507.)


109

다. 다음의 OECD 통계와 한국특허정보원의 분석사례를 통해 분석기 과 방법의 일례

를 살펴보기로 한다.

3.7 적용사례

먼 [그림 2-21]과 [그림 2-22]는 OECD 통계 보고서의 일부이다. [그림 2-21]은 자국 거주 발명자에 의해 산출된 특허출원이 외국 거주자에 의해 출원된 황을 보

여주고 있다. 인력 유출의 개념에 한 분석자료이며 연구개발의 국제화 수 에 한

일단면을 보여주는 결과라고도 할 수 있다. 일본, 한국 핀란드는 매우 낮은 유출률

을 보이고 있으며, 연구개발의 국제화도가 낮은 것으로도 해석될 수 있다.


그림 2-21. 자국 발명, 외국 소유 특허 황


110

반면에, [그림 2-22]는 외국 거주 발명자에 의해 산출된 특허출원이 자국 거주자에

의해 출원된 황을 보여주고 있다. 인력 유입 개념의 분석자료이며, 마찬가지로 연구

개발의 국제화 수 의 한 측면을 보여주는 결과라고 할 수 있다. 일본과 한국은 유입

분석에서도 매우 낮은 연구개발의 국제화 수 을 보여주고 있다.

출처 : OECD (2004), Compendium of Patent Statistics 2004

그림 2-22. 외국 발명, 자국 소유 특허 황

[그림 2-23]은 생명공학 분야의 미국특허를 상으로 국가별 외국 인력 활용 자

국 인력 유출에 한 분석결과이다. 이 분석에서는 다음과 같은 분석기 을 용하여

분석이 수행되었다.


111

외국 인력 유입률(Brain Gain)"모든 소유권이 자국인에게 있는 특허 , 외국 발명자의 연구활동이 일

부라도 포함된 특허의 비율"자국 인력 유출률(Brain Drain)

"자국 발명자의 연구활동이 일부라도 포함된 특허 , 모든 소유권이 외

국인에게 있는 특허의 비율"스 스를 비롯한 유럽 국가들은 생명공학 분야에서의 인력 유입과 유출률이 모두 상

으로 높게 나타나 이 분야에서의 기술 신 활동에 한 국제화도가 높은 것으로

나타나 있다. 러시아와 국은 유출 상이 상 으로 높게 나타나고 있는 것을 확인

할 수 있다.

그림 2-23. BT분야 외국 인력 유입, 유출 황 분석결과


112

인용관계를 이용한 지식흐름 분석 지수(Index for Knowledge Flow with Patent Citations)4

4.1 개요

특허의 인용정보를 이용한 지식흐름 분석은 기술개발 활동의 성과인 “지식” 는 무

형의 “기술 정보”가 확산되는 양태를 악하기 해 사용될 수 있다. 이 분석은 분석

의 목 에 따라 다양한 방법으로 용될 수 있다.

4.2 정의

지식흐름의 동향을 악하기 한 인용 계 지수는 하나의 정형화된 지수로서 설명

하기는 곤란하다. 이하에서는 국가 간의 지식흐름을 악하기 한 분석 지표와 방법

을 심으로 설명하기로 한다.지식유입 황의 악을 한 인용 계 지수

“특정 국가의 특허가 인용한 특허(Backward Citations)의 국가별

유율”지식 황의 악을 한 인용 계 지수

“특정 국가의 특허를 인용한 특허(Forward Citations)의 국가별

유율”


특허제도는 크게 두 가지의 제도 축을 가지고 있다. 하나는 발명자에게 기술에

한 독 사용권을 보장함으로써 기술개발에 한 강한 동기를 부여하는 것이고, 다

른 하나는 그 가로서 발명자에게 기술내용의 공개를 요구함으로써 국가 차원에서

의 기술발 을 진시키고자 하는 것이다. 따라서 공개된 특허기술이 확산되어 나가는

과정과 양태는 정책수립자와 연구개발자들에게 기술확산에 한 좋은 정보를 제공하게

된다. 인용정보를 이용한 지식흐름 분석은 국가 간의 기술 확산 황이나 특정 분야의

신성과가 다른 기술분야에 미치는 향 등을 악할 수 있도록 해주며, 미시 분석


113

을 통해서는 기업 간의 연구개발 동향 분석이나 경쟁분석을 한 유용한 정보를 제공

한다.


앞서 살펴보았던 인력 유입 ․ 유출분석은 기술 신 과정에 참여하는 “인력”의 활용

황에 한 정보를 제공한다. 특히 특허의 서지정보를 이용한 인력 활용분석은 연구개

발자들의 신성과에 이 맞추어진 분석결과를 볼 수 있음은 술한 바와 같다. 이

에 비하여 특허의 인용정보를 이용한 지식흐름 분석은 신성과로서 발생된 “지식”자체

의 흐름에 이 맞추어진 분석방법이다

인용정보를 이용한 지식흐름 분석은 크게 두 가지의 방향성과 에서 이루어질 수

있다. 우리가 심을 가지고 있는 특정 주체나 특정 기술분야를 심으로 보았을 때, 하나는 지식의 원천을 탐색하는 것으로서 기술개발의 원천이 되는 지식기반의 근거가

어디에 존재하고 있는가를 분석하는 것이며, 특허의 Backward Citation 데이터가 분석

도구로서 사용된다. 다른 하나는 심의 상인 특정 주체나 특정 기술분야의 연구성

과가 어떠한 효과를 발생하고 있는가를 악하는 것으로서 연구성과의 지역 확

산 황 는 다른 기술분야에 미치는 효과를 악할 수 있게 된다. 이 경우에는

특허의 Forward Citation 데이터가 분석도구로서 사용된다.


인용정보를 이용한 분석과정에서 일반 으로 주의해야 할 의 하나는 분석 상

집단의 범 를 정의하는 것이다. 이는 지식흐름 분석에서도 마찬가지이다. 를 들어

특정 기술분야에서의 신성과의 흐름을 악하고자 하는 경우에는 인용 데이터를 특

정 기술분야의 문헌으로 한정하는 것은 바람직하지 않다. 분석 상을 한정하는 경우, 그 범 를 벗어나는 기술분야로부터의 지식의 유입 는 다른 기술분야로의 지식의 확

산 황을 악할 수 없기 때문이다.한, 부분의 경우 지식흐름의 황을 악하기 한 특허의 인용분석은 해당 특

허에 인용된(Backward Citation) 는 해당 특허를 인용한(Forward Citation) 문헌이

특허문헌으로 한정되어 진행되고 있다. 이는 비특허 인용문헌에 한 충분한 서지정보

가 담겨있는 데이터베이스를 활용하는 것이 실 으로 어렵기 때문이다. 특허문헌의


114

경우 기술분류 정보와 발명자 소유권자에 한 다양한 정보를 활용하여 분석을 수

행하는 것이 가능하나, 비특허문헌의 서지정보에는 이러한 다양한 데이터가 담겨있지

않은 경우가 많기 때문이다.

4.6 적용방법

이미 언 된 바와 같이 인용정보를 이용한 지식흐름의 분석은 분석목 에 따라 다양

한 분석기법이 용될 수 있다.를 들어, 국가수 에서의 지식흐름 분석을 하고자 하는 경우에는 인용정보 출

원인 는 발명자의 거주지 국가와 련된 정보를 사용하게 되며, 기술분야 간의 지식

흐름 황 악을 해서는 인용정보 기술분류와 련된 데이터가 주요한 분석도구

로서 활용되게 된다. 한 특정한 기업이나 연구소 단 의 분석을 하고자 하는 경우에

는 출원인( 는 소유권자) 정보를 사용하여야 하며, 연구자 개인 수 에서의 지식흐름

분석을 해서는 발명자의 성명 데이터를 활용할 수 있다.

4.7 적용사례

아래의 사례는 특허청과 한국특허정보원이 2004년에 진행한 나노분야 특허분석 결

과 국가 간 지식흐름에 한 분석결과이다. 표의 앙열에 나열된 국가들이 우리가

심의 상으로 삼고 있는 국가들로서 그 좌측은 해당 국가들의 나노분야 기술개발

활동에 향을 미친, 즉 해당 국가들의 신활동의 지 원천을 제공한 국가들을 악

할 수 있는 역이며, 우측은 해당 국가들의 기술개발 성과가 향을 미친, 즉 해당 국

가들의 신성과가 확산된 황을 악할 수 있는 역이다.분석결과를 간략히 살펴보면, 부분의 주요 국가들은 나노분야의 신활동이 미국

의 연구성과에 의존하는 경향이 강한 것으로 나타나고 있다. 한국의 경우 미국과 일본

의 연구개발 성과에 주로 기반을 두고 있는 것을 확인할 수 있다. 다만, 아래의 분석결

과는 국가별로 인용한 는 인용된 특허의 유율을 분석도구로서 사용한 것으로서 지

식기반의 원천으로서의 기술 향력을 국가별로 상 평가하기 한 자료로는 활용

될 수 없음에 유의하여야 한다. 즉 한국이 미국특허에 인용된 비율이 46.1%라는 것은

한국의 특허가 인용된 회수 미국이 차지하는 비율이 46.1%라는 것이지, 일본의 특

허가 미국에 인용된 44.1%의 유율보다 수치 상으로 높다고 해서, 한국이 일본에 비


115

해 미국에 더 많은 기술 향력을 미친 것으로 해석되어서는 안 된다.이러한 분석에 한 보다 효과 이고 의미있는 분석방법에 해서는 향후에 심도있

는 연구와 분석방법론의 개발이 필요하다고 할 것이다.

특허 출원 인용한 특허의 특허권자 국 특허등록 후 피인용된 특허의 특허권자 국

CH NL TW KR GB CA DE FR JP US 국 US JP FR DE CA GB KR TW NL CH0.9 0.5 0.7 0.4 1.9 1.0 4.2 1.6 15.3 70.2 미국 78.7 9.4 1.0 2.5 1.1 0.9 1.4 1.4 0.5 0.5 0.3 0.1 1.1 1.5 0.9 0.6 2.5 1.2 49.8 40.4 일본 44.1 41.3 0.8 2.2 0.8 0.4 4.7 2.8 0.5 0.2 1.1 0.5 0.6 0.4 2.1 0.9 5.5 20.9 15.9 48.8 랑스 52.6 9.5 21.7 6.1 1.2 1.5 0.9 1.1 1.2 0.7 1.1 0.9 0.6 0.5 2.0 1.3 17.3 2.8 16.5 53.0 독일 55.2 10.1 1.4 20.0 0.9 1.3 1.3 1.7 0.8 2.5 0.5 0.4 0.2 0.3 3.1 5.9 3.7 2.8 15.4 61.0 캐나다 62.7 7.2 1.6 2.5 17.2 1.5 1.1 1.6 0.5 0.5 0.6 0.5 0.3 0.1 7.9 2.1 5.2 2.8 14.4 60.2 국 54.1 21.9 1.1 5.6 2.0 8.4 1.4 0.9 0.3 0.4 0.2 0.1 3.2 6.6 1.1 1.4 2.6 1.3 31.2 49.9 한국 46.1 20.7 0.5 2.0 2.5 - 18.0 6.9 0.7 0.5 0.6 0.2 13.7 5.2 0.9 0.6 1.0 1.0 22.2 51.5 만 45.7 15.1 0.6 1.6 1.1 0.1 10.5 22.0 0.3 -2.1 6.8 0.4 0.4 3.3 1.7 8.6 2.6 13.9 53.3 네덜란드 85.1 2.7 0.8 1.6 0.9 2.0 0.5 0.2 3.5 0.1 10.3 0.6 0.2 0.4 3.1 1.1 5.3 1.6 15.4 57.4 스 스 60.4 7.6 3.8 7.0 2.0 0.9 0.3 0.5 1.4 9.6 ※ 분석구간은 1991년~2003년으로서 제1특허권자 기 으로 분석함


표 2-11. 나노기술분야의 국가간 지식흐름 분석결과

제1절 특허와 R&D의 상관분석

제2절 기술의 질적(Quality)분석

제3절 기술전략수립 분석

제4절 특허포트폴리오 분석

제5절 국제협력관계 및 지식의 흐름 분석

제6절 정성분석(기술권리분석)

제7절 기타 분석방법

특허분석기법제3장


119


본 에서는 최근 과학기술의 투자규모가 증가하고 다양한 형태로 연구개발(R&D)사업을 추진하게 됨에 따라, 연구개발 사업간 우선순 설정, 복투자 방지 등 연구개발

사업의 효율성 제고라는 이슈가 제기되고 있는 상황에서 특허와 R&D와의 상 계를

알아보고자 하 다.재, 국가에서 주도하는 연구개발사업들이 형화 복합화로 되어가는 추세가 가

속화되면서 국가연구개발 자원의 략 투자와 성과 등에 한 체계 평가는 요한

정책 고려의 상이 되고 있다. 그런데 “과학기술정책․사업이 경제발 에 구체 으로

어떠한 기여를 하 는가?”라는 물음에 한 명확한 답을 하기가 어렵기 때문에 여기

에서 과학기술 는 연구개발 정책․사업에 한 평가라는 이슈가 제기된 것이다.그러면, 연구개발 정책 사업에 한 평가는 성격에 따라 평가의 유형, 데이터

방법이 상이하게 용되며, 여러 가지 방법 가운데 특허를 활용하는 경우에는 평가를

계량화할 수 있다는 이 이 있기 때문에 연구기 는 연구자별 평가에 있어서는 특

허건수, 특허의 인용 횟수 등이 계량지표로 사용되고, 국가별 기술경쟁력 비교 등에도

특허는 리 이용되고 있다. 계량지표로서의 이 에 더하여, 특허의 가치는 무엇보다도

근본 으로 기술의 경제 가치를 보호하기 해서 고안된 제도 장치라는 에 있을

것이다.이러한 맥락에서 연구개발정책 사업의 평가에 있어서 특허는 특히 경제 가치를

입증하고 있다는 측면에서 연구개발정책․사업의 경제 효과를 계량화하는데 아주 유용

하게 쓰일 수 있다는 것이다.본 에서는 상기와 같은 이유를 토 로 특허의 정량 인 수치와 국가 기업에서

부담하고 있는 연구개발비 당 특허건수 연구인력 당 특허건수 등에 한 상 계

분석을 통해 특허와 R&D와의 상 도를 알아보고자 한다.

제3장 특허분석기법

120

연구개발비 당 특허건수1

1.1 개요 및 정의

연구개발 비용에 한 특허건수 분석결과는 투입에 한 성과 측정 차원의 정보를

제공한다. 일반 으로 이 분석은 각 연구주체(국가, 기업 등)가 연구개발을 하여 투

자한 연구개발비와 특허출원( 는 등록) 건수와의 상 계도를 사용하여 이루어진다.

1.2 분석적 의미

연구개발비 비 특허건수 분석은 특허지표가 연구개발 활동 투입 측면에 한 지

표로서 이용될 수 있는가를 확인하기 한 연구과정에서 검증 도구로 많이 사용된 방법

이다. 이와 련된 많은 연구결과들은 일반 으로 국가나 기업의 연구개발 활동에 한

투입 비용이 많아질수록 특허출원 등록건수가 높아진다는 결과들을 보여주어 왔다.연구개발비 비 특허건수 분석은 앞서 설명한 바와 같은 검증도구로서의 유용성 이외

에 여러 국가 는 기업의 연구개발 투입 비용 비 특허산출 생산성을 비교 평가하기

한 도구로서 사용될 수 있다.

1.3 적용방법 및 사례

[그림 3-1]은 1991년부터 1999년까지 여러 국가들의 국내 총연구개발지출(GERD, Gross National Expenditure on R&D) 비 삼극특허 패 리 수를 분석한 결과를 보

여주고 있다. 이 분석결과에서는 1990년 삼극특허 패 리 수와 국내 총연구개발지출

간의 상 계가 매우 높게 나타나고 있는 것을 확인할 수 있다(R2=0.95).본 분석결과에서 볼 수 있듯이 미국과 일본, 독일 등 국내 총연구개발지출이 매우

많은 국가는 삼극특허 패 리 수 한 매우 높게 나타나고 있으며, 아이슬란드와 동유

럽 국가들처럼 국내 총연구개발지출이 은 수 에 머무르고 있는 국가들은 삼극특허

패 리 수도 매우 게 나타나고 있는 것을 볼 수 있다. 이 분석을 통해서는 연구개발

지출과 특허와의 상 계뿐만 아니라, 각 국가들의 연구개발 활동 황 국가 간의

투입 비 특허생산성을 비교 평가하여 볼 수 있다.


121

출처 : OECD (2004), Science and Technology Statistical Compendium

그림 3-1. 국내 총연구개발지출(GERD) 비 삼극특허 수


122

연구인력 당 특허건수2


연구개발비와 더불어 연구주체(국가, 기업 등)가 순수하게 연구를 수행하고 있는 연

구인력 비 특허출원(등록)건수와의 상 계를 나타낸 것이다.


연구인력 비 특허건수의 비율은 인력의 우수성과 효율성을 살펴볼 수 있는 분석방

법이다. 상기 비율이 높다는 것은 우수한 인재들을 많이 확보하여 이들에게 인센티

를 부여하거나, 이들이 연구결과물로 산출한 특허를 등 별로 분류하는 등 인력 특

허 리가 잘 되어 있다는 것을 의미하므로 이는 기술경쟁력이 높다는 것을 나타낸다.


본 분석은 ETRI(한국 자통신연구원)에서 실시한 것으로 연구인력수 비 특허건수

의 비율을 통해 타 기업(IBM, 삼성 등)과의 경쟁력을 분석한 것이다. 아래 [표 3-1]은 미국의 특허를 상으로 연구인력 천명당 특허건수를 살펴 본 것으로, ETRI는 1인

당 평균 57.53건으로 조사되었으며 이는 다른 국내외 선도 민간기업과 경쟁력이 등

하다는 것을 의미한다.

구분 ETRI IBM 삼성

국내특허등록 487건 245건 2,448건

미국특허등록 109건 3,415건 1,313건

연구인력 1,900명 62,140명 19,700명

연구인력 천 명당

미국특허건수57.53건 54.95건 66.64건

출처 : 한국 자통신연구원 (2004), ETRI 지 재산 분석자료.

표 3-1. ETRI 특허 경쟁력 비교(2003년 기 )


123

연구개발전략 및 지적재산전략과의 상관관계3


본 분석은 연구개발의 결과물(Output)을 의미하는 청구항수(출원건수도 가능)와 투

자(Input)를 의미하는 연구개발비를 바탕으로 연구주체의 연구개발 략 지 재산

략을 알아볼 수 있는 분석방법이다.


아래의 [그림 3-2]에서 나타나듯이 발명자 1인당 연구개발비는 2000년도로, 발명자

1인당 출원청구항수는 2001년도를 기 으로 작성하 는데 이는 과거의 연구개발투자

의 성과가 재의 발명 특허출원으로 나타나는 경향을 악하기 하여 한정한 것

이다. 연구개발에 한 투자비율에 따라 연구 성과물 하나인 특허가 출원되는 비율의

변화를 상 인 비율로 알아보는 것으로 연구개발비의 비율이 높고 특허수(청구항수)가 많은 경우에는 연구개발부문과 지 재산부문인 특허에 해서 강세를 나타낸다는

것을 의미하며, 반 의 경우에는 연구개발부문과 지 재산부문이 매우 약하다는 것을

의미한다.


본 사례는 일본의 특허를 상으로 기기기업계 분야의 연구개발비 비 출원청구

항수의 비율을 살펴본 것으로, 소니와 NEC의 경우 연구개발비 비 출원청구항수의

비율이 높게 나타난 반면, 후지쯔는 연구개발비가 높으나 청구항수가 게 나타나 연

구개발비를 투자하는 비율에 비해 상 으로 연구개발력이 약한 것으로 단할 수 있다.


124

0

2

4

6

8

10

12

14

16

18

0 20 40 60 80 100 120

발명자1인당연구개발비(백만엔)

발명자1인당출원청구항수

(항)

후지쯔

NEC

SONY

후지쯔제네럴

SHARP

히타치

후지전기

도시바

TDK

알프스전기

마쓰시타

마쓰시타전기

바이오니아

출처 : IPB (2004), 특허 사계보, 창간호.

그림 3-2. 발명자 1인당 연구개발비와 출원청구항 수


125

연구개발비를 통한 특허경영 효율화 방안4


본 분석방법은 연구주체가 투여한 연구개발비 비 발명자수의 비율을 살펴본 것으

로, 특허경 의 효율성에 한 측면을 살펴볼 수 있다.


연구주체(기업)의 발명자수와 연구개발비의 상 계를 통해 각선(평균값)을 기

으로 좌, 우에 분포되어 있는 연구주체들의 재 치를 악하여 보다 나은 경 을 추

구하기 한 데이터 분석방법이다.


[그림 3-3]은 일본의 신기술개발센터에서 발간한“최신 특허맵”에 기재된 분석방법으

로 다이아몬드의 기술 분야에서 각 기업들의 연구개발비와 발명자수를 바탕으로 주요

기업의 연구개발 추이를 살펴본 것이다. 여기서는 히타치와 소니 마쓰시타 등의 업

체가 상 으로 효율 인 특허경 활동을 하는 것으로 나타나고 있다.

0

100

200

300

400

500

600

700

800

900

0 1000 2000 3000 4000 5000 6000 7000 8000

발명자수(명)

연구개발비

(억엔)

히타치

도시바

후지쯔

히타치

소니

산요전기

마쓰시타전공

0

50

100

150

200

250

0 100 200 300 400 500 600 700 800

후지필름

샤프

캐논

바이오니아

코니카동경전기화학

올림푸스

닛토덴코

대일본인쇄

미놀타

카시오계

일본관광

야스가와전기

히타치전자

0

100

200

300

400

500

600

700

800

900

0 1000 2000 3000 4000 5000 6000 7000 8000

발명자수(명)

연구개발비

(억엔)

히타치

도시바

후지쯔

히타치

소니

산요전기

마쓰시타전공

0

50

100

150

200

250

0 100 200 300 400 500 600 700 800

후지필름

샤프

캐논

바이오니아

코니카동경전기화학

올림푸스

닛토덴코

대일본인쇄

미놀타

카시오계

일본관광

야스가와전기

히타치전자

출처 : 新井喜美雄 (1997), 最新ㆍパテントマップ, 新技術開発センター.

그림 3-3. 일본 주요 기업의 연구개발규모


126


과학기술 지표 가운데 특허는 과학기술의 활동을 이해하는데 있어서 매우 큰 비 을

차지하고 있다. 각 국의 특허법이 성립된 배경 특허활동의 동향을 살펴보면, 특허가

과학기술활동과 산업 활동을 명료하게 악할 수 있는 정보를 제공한다는 것을 알 수

있을 것이다.최근에는 특허정보의 DB구축, 온라인 서비스 등으로 인하여 근이 용이해져 특허정

보의 가공이 분석 통계방법에 합하게 제공되고 있어 그 활용이 확 되고 있다. 좀 더 구체 으로 말하자면, 세부 인 기술의 개발 산업 생산물의 가치를 측정하는

데 쓰일 뿐만 아니라 생산된 결과물의 지표와 발명자의 정보 소스(source)로도 많이

사용되고 있는 요한 지수이다.본 에서는 앞의 2장에서 기술하 던 특허분석지표들을 바탕으로 각각의 지표들의

조합을 통해 특정 연구주체에 한 앞으로의 연구개발 추진방향의 가이드라인을 제시

하기 한 특허의 질 (Quality) 분석을 소개하고자 한다.


127

기술의 영향력(CPP)과 시장성 확보(PFS)1


한 기술 분야의 특허가 다른 기술 분야에 향을 미치는 정도와 하나의 특허가 각 국

(패 리 특허)에 출원한 비율을 통해 특허의 질 인 측면을 알아보고자 한다.


본 분석은 특허가 기술 으로 향을 미치는 정도(피인용도의 비율)와 시장성(패리 특허)의 확보를 통해 과연 연구주체(국가, 기업 등)의 특허가 질 는 상업성으

로 얼마나 우수한가를 평가할 수 있는 분석방법이다.


상기 분석방법을 바탕으로 미국특허를 상으로 기술 향력과 시장성확보와의 계

를 살펴본 결과, 미국의 기술 향력지수는 1.16으로 상 으로 높게 나타나고 있으나, 시장성확보지수는 캐나다, 랑스보다 낮은 것으로 나타났다. 한편, 한국은 기술 향력

지수가 0.21로 나타났으며, 시장성확보지수에서도 0.28이라는 수치를 보여 비교 상

국 가운데 상 으로 질 수 이 떨어지는 것으로 조사되었다.

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), NT특허분석보고서

그림 3-4. 국가별 나노소재분야 향력 지수 시장확보 지수


128

특정 연구주체의 기술경쟁력2


본 분석은 양 인 지수를 나타내는 특허 유율과 질 인 지수를 나타내는 인용 유

율을 활용하여 특정 연구주체(국가, 기업 등)의 기술경쟁력을 살펴보는 것이다.


특정 연구주체가 체 특허에서 차지하는 비율을 바탕으로 양 수 을 보여주는 특

허 유율과 특허의 질 인 면을 평가할 수 있는 인용데이터를 이용하여 특정 연구주체

가 체의 인용횟수에서 차지하는 인용 유율을 통해 특정 연구주체(국가, 기업 등)의

기술경쟁력을 살펴보는 분석방법이다.


본 사례는 NT분야의 특허동향 가운데 미국특허를 상으로 국가별 경쟁력을 살펴본

것으로 미국은 양 ․질 으로 높은 유율을 나타내고 있고, 그 뒤를 일본과 랑스, 독일 순으로 나타났다.

한국의 경우에는 체 으로 기술경쟁력이 낮은 수 에 머무르는 것으로 평가되고

있으나, 최근에는 꾸 하게 양 ․질 으로 성장을 하고 있는 것으로 조사되었다.


129


그림 3-5. 등록 유율과 인용 유율의 국가간 비교


130

특정 연구주체의 기술영향력3


특허가 인용한 특허문허의 수와 피인용된 빈도수에 따라 연구주체별로 기술의

향력을 살펴보는 분석방법이다.


본 분석은 특정 연구주체(국가, 기업 등)가 인용한 특허의 개수와 피인용된 회수를

통해 기술의 향력을 살펴보는 방법이다. 인용한(backward) 특허가 많으면 상 으

로 성숙단계에 들어선 기술임을 의미하며 반 로 으면 기술의 개발단계가 기임을

의미한다. 반면, 인용되는(forward) 회수가 많으면 기술력이 강하고, 반 로 낮을 경우

에는 기술력이 약하다는 것을 의미한다.


[그림 3-6]은 NT분야의 미국특허를 상으로 국가별로 평균 인 인용특허 수와 피

인용 회수를 분석한 것으로, 한국은 NT분야에서 피인용 회수가 낮아 기술 향력이 상

으로 약한 것으로 나타났다. 반면, 네덜란드의 경우에는 연구개발이 기단계이나, 피인용(forward)에 한 비율이 높아 기술의 향력은 강한 것으로 나타났다.


그림 3-6. 인용을 통한 국가간 기술 향력 비교


131

특허와 경제적 가치 분석4


특허의 유지비율(등록유지비율)과 피인용수와의 계를 통해 특허의 가치를 단할

수 있는 분석방법이다.


본 분석방법은 피인용 회수와 특허의 유지비율과의 계를 통해 특허의 가치와 상업

인 효율성을 단하여 향후, 특허 략을 수립하는데 유용하게 사용될 수 있다.


본 사례는 특허의 가치를 평가하는 PatentRating社에서 분석한 내용으로 피인용된

문헌의 회수 비 등록유지비율과의 계를 살펴 본 것이다. 피인용된 회수가 하나도

없는 경우에는 유지비율이 약 79%를 나타냈으나, 반 로 14회 이상 인용된 특허의 경

우에는 유지비율이 약 94%로 조사되었다. 이는 인용비율이 높은 특허일수록 유지비율

이 높아 경제 으로나 상업 으로 매우 가치가 있는 것으로 단할 수 있다.

출처 : J. A. Barney (2001), Comparative Patent Quality Analysis – A Statistical Approach for Rating and Valuing Patent Assets, PatentRatings, LLC., White Paper. (http://www.patentratings.com/001/nacv_white_paper.pdf)

※ 4th Year Maintenance Rate (% Maintained) : 등록 후 4년차 유지료가 납부되어 특허권이 유지된 비율Forward Citation Rate (Number of Forward Citations) : 특허의 피인용 회수

그림 3-7. 등록 유지율과 특허 피인용 회수와의 계


132

특허의 가치(Patent Factor Index) 분석5


본 분석방법은 각각의 개별특허에 해서 서지사항에 기재되어 있는 특허정보를

Factor화하여 지수로 나타낸 것으로서, 이러한 분석은 특허의 가치를 평가하는데 있어

서 매우 유용한 자료로 이용될 것으로 단된다.


각각의 개별특허에 해서 3개의 Factor(Legal, Commercial, Technology)들이 서로

간에 유기 으로 연결되어 사업 기타 정책의 결정 시 매우 요한 기 자료로 사용

할 수 있을 것이다.Patent Legal Factor(PL/f) - 이 Factor의 수치가 높은 경우에는 기술 으로 우 (신규기술)하다는 것을 의

미하므로 향후에 특허소송이 있을 시 유용한 자료로 이용할 수 있을 것이다.Patent Commercial Factor(PC/f) - Factor의 수치에 따라 상업 으로 상품화의 가능성 여부를 가늠할 수 있는 지

수이다.Patent Technology Factor(PT/f) - 기술력의 상태를 나타내는 것으로 경 사업부문에서 차지하는 치를 가늠할

수 있는 지수이다.


133

법 인 요소(PL/f)

1. 강제성

◦일반 으로 특허는 출원을 한 후 등록기간이 끝날 때 까지 등록유지비용을 납부해

야 하기 때문에 비용을 납부하지 않았을 경우에는 특허권이 소멸된다. 한, 특허

가 무효가 되었다면, 강제로 집행할 수 있는 경우(수치)가 어드는 것이다. - 35 USC§1.705.를 바탕으로 특허기간을 수정한다면, 이로 나타난 기간과 실질

인 기 과는 다르게 나타날 수 있다.

2. 체 향력

◦ 향력의 순 는 가장 련성이 높은 100개의 미국특허를 추출한 후, 상특허의

청구항을 바탕으로 비교분석을 실시한다. - PatentCafe의 분석방법을 통해 평가가 높게된 특허는 상특허의 청구항과 련

성이 해질 것으로 단된다.

3. 신규성

◦인용특허(Backward Patent Citation)를 바탕으로 인용특허의 개수가 높을수록 신

규한 발명이 아닌 것을 의미하며, 여기서는 련성이 가장 높은 100개의 특허를

추출한 후, 비교분석을 통해 나타내었다. - 인용문헌은 신규성이라는 제 때문에 청구항의 범 를 제한하며 한, 발명으로

나타난 이 의 신 선행지식과의 연결성을 나타낸다.

4. 청구범

◦인용특허가 많은 특허는 상 으로 인용특허가 은 특허보다 청구항의 범 가

좁은 것으로 나타난다. - 특허에서 인용회수가 많다는 것은 청구항의 범 가 좁다는 것을 의미하며, 이것

은 청구항의 개수와 련성이 있다.5. 합성 단

(인용되지 않은

선행기술)

◦ 상특허보다 출원일이 빠르고 기술 으로 높은 련성이 있으나 인용되지 않은

특허의 수가 을 경우에는 무효소송으로부터 벗어날 수 있는 확률이 높아질 것이다. - 인용되지 않은 선행기술은 상특허를 무효로 하는 등 다양한 특허소송에서 기

인 증거자료로 사용할 수 있다.

6. 합성 단

(인용되지 않은

공동기술)

◦기술 으로 높은 련성이 있으나 인용되지 않은 공동특허가 을 경우에는 무효

는 침해로부터 벗어날 수 있는 확률이 높아질 것이다. - 공동기술로 개발된 특허의 경우, 인용 청구항 기술 인 내용의 유출로부터 출

원인을 보호하기 한 아무런 책이 없기 때문에 공동기술의 인용에는 험성이

뒤따르게 된다.

7. 이의신청에

한 응

◦특허에서 발명자의 수는 이의신청에서 벗어날 수 있는 기회와 한 계가 있다. 를 들어 발명자의 수가 을 경우에는 이의신청에서 벗어날 수 있는 확률이 높

아지며, 반 로 많을 경우에는 낮아지게 되는 것이다. - 단지, 발명자의 수는 상특허의 유지 지속성과 련이 있으나, 이의신청에서

벗어나기 한 경우에는 그다지 좋지 않은 향을 끼친다.

8. 소송의 회피

◦ 련도가 한 특허와 비교하여 볼 때, 출원비용을 납부한 후 3년 이내에 피인용

(Forward Citation)된 횟수가 을 경우에는 향후, 소송에서 기각될 수 있는 확률

이 높아질 것이다. - 련성이 높은 특허들을 상으로 비교분석하여 볼 때, 청구항 당 1개의 피인용

개수의 증가는 22% 정도의 침해소송의 확률이 증가하며, 한 청구항 당 피인용

내에서 표 편차의 증가는 35%의 소송 확률을 증가시킨다.출처 : PatentCafe (2005), PATENT FACTOR INDEX Report for US5896126.

(http://www.iamcafe.com/Patent_reports/reports/5896126.pdf) (다음 페이지에 계속)

표 3-2. 특허 가치평가 항목의 구성 사례


134

상업 인 요소(PC/f)

1. 피인용가치의

기여도

◦ 상특허와 련성이 높은 100개의 특허를 상으로 비교하여 살펴본 결과, 피인용

의 횟수가 높을수록 상특허의 가치는 증가한다. - 기술 으로 련이 높은 특허들을 상으로 비교하여 볼 때, 상기 100개의 피인용

개수보다 1개 정도가 많을 경우에는 3%의 시장가치를 상승시키며, 한 피인용

개수가 2.5개 일 경우에는 35%, 그리고 20개 이상일 경우에는 54%의 시장가치

를 상승시킨다.2. 인용가치의

기여도

◦인용특허의 비율이 높다는 것은 시장의 규모를 더욱더 크게 하고 있다는 것을 의

미하나, 인용특허는 피인용특허보다 상 으로 가치가 떨어지는 것으로 나타난다.3. 상업 으로

집행할 수 있는

역량

◦높은 라이센스 비용을 벌어들이기 하여 한 기술 분야에서 두각을 나타내는 특허

를 소유하는 것으로, 이를 제어할 수 있는 환경을 제공한다. - 한 기술 분야가 몇몇 출원인들에 의해 좌우될 경우, 라이센스에 한 잠재력은

높아지게 되며 한, 략 으로 소송에 있어서도 유리한 입장을 취할 수 있다.

4. 공동 라이센스

◦미국특허의 분류와 련성이 떨어지는 다른 분류의 특허들에 한 라이센스 잠재

력은 시장에서 보호받고 있는 특허들의 활동에 의해 좌우된다. - 미국특허의 분류와 다른 분류의 특허들은 일반 으로 동등한 발명이므로 미국특

허는 상기 다른 분류의 특허를 통해 상하지 못했던 라이센스 기회를 얻을

수도 있을 것이다. 이 Factor는 상특허의 청구항 분석을 기 로 한다.

5. 성

(Potential Licensees)

◦ 성(가장 계가 한 상 100개의 특허를 상으로 재 Assignees가 활

발하게 사용하고 있는 특허)이 높은 것은 시장에서 특허활동이 활발하며 더 많은

라이센스 기회를 제공할 수 있는 것을 의미한다. - 한마디로 잠재력이 있는 라이센스(출원인이 련성이 높은 특허의 권리를 소유)

를 의미한다.

6. 분할 라이센스의

리미엄(특허그

룹)

◦넓은 시장에서의 권리확보는 련성이 높은 100개의 특허 가운데 출원인이 소유하

고 있는 각각의 특허가치와 특허건수의 증감에 따라 달라진다. - Negative Factor Rating(빨간색)은 소유권자가 소유하고 있는 다른 특허의 소유권

이 많다고 할지라도 상 100 내에 나타나지 않을 수 있으며 한, 특허의 가

치가 증가할 수도 있고, 라이센스 그룹 안에 포함될 수도 있다. 그러나, 가장

련성이 높은 100개의 특허 가운데 단지 하나의 특허에 해서만 소유권을 가지

고 있다는 것을 의미한다.7. 특허그룹

경쟁 치

◦가장 련성이 높은 100개의 특허 가운데 하나의 특허그룹에서 상 특허출원인의

경쟁 치를 악한다.

8. 라이센스 허용

기회

◦라이센스를 통한 포트폴리오의 확장을 한 것으로 이 요소는 련성이 높은 100개의 특허 가운데 자주 활용되는 특허와 소유권자가 정해지지 않은 유효특허와의

련성을 평가한다. - 라이센스의 잠재력은 외부의 라이센스 활동에 을 맞추는 PC/f의 스코어에 포

함하지 않는다.출처 : PatentCafe (2005), PATENT FACTOR INDEX Report for US5896126.

(http://www.iamcafe.com/Patent_reports/reports/5896126.pdf) (다음 페이지에 계속)


135

기술 인 요소(PT/f)

1. 기술의 진보성

◦상기 요소는 가장 련성이 높은 100개의 특허 가운데 기술 으로 개발 가능성

이 있는 특허를 나타내는 것이다. - 상특허와 련성이 높은 특허들을 추출한 후 비교분석한 결과, 인용특허가 많은

것은 과거에 발명하 던 지식과 연결되었다는 것을 의미하므로 기술의 진보성이

약한 것으로 단할 수 있다. 단, 인용특허가 많다고 하 더라도 청구항의 수가

많을 경우에는 외로 한다.

2. 기술의 향력

◦가장 련성이 높은 100개의 특허를 상으로 비교하여 볼 때, 상특허의 피인용

횟수가 높을수록 기술의 향력 수치는 증가한다. -기술의 향력은 피인용에 따라 달라진다. 한 특허의 피인용 횟수는 발명의 경제 가

치를 증가시킬 뿐만 아니라, 문가의 의견과 사회 가치 산업방향 등의 측정

을 바탕으로 기술 으로도 요하다는 것을 의미한다.

3. Combinatorial Accession

◦ 련성이 높은 100개의 특허 가운데 Priority Classification의 수가 높다는 것은

재의 발명과 구별되는 것으로 이는 기술 으로 매우 요하며, 기술의 확산능력

이 뛰어나다는 것을 의미한다. - 재 특허분류에 나타나 있는 US분류와 다른 분류의 특허들이 많을 경우에는 기

술 으로 높은 결합력을 보인다.

4. 기술의 정확성

◦ 련성이 높은 100개의 특허를 상으로 비교하여 볼 때, 특허에 기록된 발명자의

수가 많을수록 상특허는 강하고, 내용이 충실하며 기술의 발 이 지속 인 것으로

단할 수 있다. -많은 발명자들이 발명을 할 경우, 우리는“매우 완 하다”라는 표 을 한다. 만약에

련성이 높은 특허의 발명자 수의 평균과 상특허의 발명자 리스트를 비교하여 볼

때, 발명자가 많다는 것은 일반 으로 기술 인 면이 강하고 요한 것으로 의미할

수 있으나, 특허의 이의신청에서 벗어나 기 한 것으로는 바람직하지 않다.출처 : PatentCafe (2005), PATENT FACTOR INDEX Report for US5896126.

(http://www.iamcafe.com/Patent_reports/reports/5896126.pdf)

5.3 적용사례

본 사례는 24가지의 특허정보를 Factor화하여 각각의 개별 특허마다 법 , 상업 , 기술 가치를 평가하여 수치로 나타낸 것으로, 본 특허는 상업 기술 인 측면보다

법 인 면에서 강세를 보여 향후, 특허소송이 발생 시 유용한 기 자료로서 활용될 수

있을 것으로 상된다.


136

0

200

400

600

800

1000

법적 요소 상업적 요소 기술적 요소 TOTAL

출처 : PatentCafe (2005), PATENT FACTOR INDEX Report for US5896126. (http://www.iamcafe.com/Patent_reports/reports/5896126.pdf)

그림 3-8. 미국특허 5,896,126호에 한 평가결과


137


특정연구주체에 관한 기술적 위치1


특정연구주체(국가, 기업 등)의 기술 치를 살펴보는 분석방법이다.


본 분석은 상 요도(AI)와 상 성장률의 지수를 이용하여 기술별로 강 을 나타내

는 분야와 그 지 않은 분야 상 으로 성장하는 분야와 그 지 않은 분야를 도출

하여 향후, 기술개발의 방향성을 제시하는데 필요한 분석방법이다.


본 용사례는 “NT분야 특허분석 보고서”의 내용 미국특허를 상으로 NT분야의

한국의 기술 치를 살펴본 것으로 한국 NT분야의 기술 부분이 상 으로 미약

하게 나타났으나, 성장가능성이 매우 큰 것으로 조사되었다. 좀 더 구체 으로 보면, IT분야의 경우 상 으로 강하고 성장하는 기술 분야로 나타난 반면, BT분야는 성장

은 하고 있으나, 그 비율은 상 으로 낮은 것으로 조사되었다.


138

출처 : 윤문섭, 이우형 (2003), IT 및 BT분야의 기술수준 평가 및 정책적 시사점 : 미국특허의 인용도 분석, 연구보고 2002-13, STEPI

그림 3-9. 상 성장률과 상 요도로 악된 한국의 기술분야 치


139

특정 연구주체의 기술개발 방향성과 위치2


특허에서 인용되는 문헌(특허 논문)들을 통해 상 기술 분야의 개발방향을 살펴

보고자 하는 것으로 상기 수치가 나타내는 치를 통해 특정 연구주체의 연구개발에

한 성향을 악할 수 있는 분석방법이다.


본 분석은 특허에서 자주 인용되고 있는 특허와 논문(비 특허문헌)들을 바탕으로 각

각의 인용비율에 따라 특정 연구주체의 연구개발 방향을 살펴보는 것이다. 를 들어

특정 연구주체의 논문에 한 인용비율이 높은 경우에는 연구개발 방향이 기 과학 분

야로 가고 있다는 것을 의미하며, 특허의 인용비율이 높은 경우에는 응용기술 분야로

연구개발이 추진되는 것을 의미한다.


본 용사례는 “NT분야 특허분석 보고서”의 내용 일부분으로 국가별로 인용된 특

허와 논문을 바탕으로 과학과 기술의 상 계를 살펴본 것이다. 캐나다의 경우, 기

과학과 응용기술과의 상호 연 성이 매우 높은 것으로 나타난 것을 확인할 수 있다.


그림 3-10. NT분야 주요 국가별 연구개발 방향


140

연구주체의 기술개발 방향성과 기술혁신주기3


본 분석방법은 앞의 2장에서 언 한 기술 신주기(TCT)와 비 특허문헌(NPR)수와

계를 바탕으로 특정 연구주체에 한 기술개발방향 기술에 한 신주기를 살펴

볼 수 있는 분석방법이다.


미국특허에서 인용된 문헌 가운데 비 특허문헌을 상으로 과학과 기술간의 연계성

을 살펴보는 분석방법으로 비 특허문헌의 수가 많을수록 기술개발이 기 과학 방향으

로 연구개발이 이루어지는 것을 의미하며, 반 로 특허문헌이 많은 경우에는 응용기술

방향으로 이루어지는 것을 의미한다. 한편, 기술 신주기는 기술의 변화 진보속도를

나타내는 지표로서 새로운 기술의 출 시기를 측할 수 있다는 것을 의미한다. 따라서, 본 분석방법은 상기 2가지의 지표를 통해 연구개발의 방향과 개발주기를

악함으로써 특정 연구주체의 기술 략을 수립하는데 기 자료로 활용할 수 있을 것이다.


본 사례는 “생명공학 특허동향”의 분석내용 가운데 미국특허를 상으로 생명공학 분

야의 구간별('88~'91, '92~'95, '96~'99, '00~'03) 국가별 연구개발방향과 기술 신주

기를 살펴본 것으로 한국의 경우에는 연구개발방향이 응용기술 심으로 치우쳐 있으

며, 기술 신주기는 '92~'95년에 8.87년에서 '00~'03년에는 7.29년으로 단축된 것으로

나타났다.한편, 미국과 캐나다의 경우 한국과는 달리 연구개발방향이 기 과학 심으로 이루

어지는 것으로 조사되었다.


141

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), 생명공학 특허동향(요약서)

그림 3-11. 주요 국가별 생명공학 연구개발방향 기술 신주기 동향


142

제4절 특허 포트폴리오 분석

포트폴리오를 사 인 의미로 살펴보면“어떤 것들의 묶음”이란 것으로 나온다. 포트

폴리오는 일반 으로 주식시장을 분석하는데 많이 사용되고 있으나, 본 보고서에서는

특허데이터를 활용한 특허 포트폴리오 분석방법을 제시하고자 한다.특허 포트폴리오는 투자의 도구로 사용되고 있으며, 지 자산을“성장의 원동력”으로

변환시키기 하여 개개의 지 자산을 조직화하려는 시도를 하고 있는데 이를“특허 포

트폴리오”구성이라 한다. 좀 더 구체 으로 설명하자면, 특허 포트폴리오는 특허출원의 명세서 내용과 동향으

로부터 연구개발 분야의 분산과 집 도 경쟁력 정도를 평가하는 것으로부터 좀 더

넓게는 경쟁자의 특허성장을 효과 으로 멈추게 하거나 향후의 성장을 멈출 수 있게

하는 도구로서 사용되기도 한다. 를 들면, 자신의 기술이 원천 기술에 해당하거나 그

사용가치가 높은 선도 인 기술이라고 단되는 경우에는 공격 인 특허 포트폴리오라

하여 하나의 특허권으로만 만족하지 않고, 가 개량발명 련 발명들을 동시 다

발 으로 는 연속 으로 출원하여 자신의 기본 특허의 외곽에 새로운 권리 역을

설정한 후, 비를 하는 것이 바람직하다.한, 각 기업의 통계와 경쟁형태를 나타내어 기업의 치를 입체 으로 악할 수

도 있다. 를 들어 특허 포트폴리오의 상 에 치하고 있는 기술 분야가 독 의 형

태라면, 특정 기업이 해당 기술 분야에 많은 부분을 유하고 있다는 것을 의미하므로

다른 기업에서는 이를 극복할 수 있는 방안을 마련해야 할 것이다.상기의 내용을 토 로 본 에서는 특정 연구주체(기업 기타 기 등) 기술의

치를 어떻게 표 할 수 있는가를 살펴보고자 한다.


143

구간별 특허 포트폴리오1


특허건수와 연구주체(기 )의 구간별 증가량에 따라 재의 기술 치를 악할

수 있는 분석방법이다.


특허 포트폴리오는 성장기, 발 기, 성숙기, 퇴조기 등의 4구간으로 구분하여 연구주

체 기술 치를 살펴볼 수가 있다. 성장기는 기술 신 결과와 신에 참여한 주

체가 격히 증가하는 모습을 나타내는 단계이고, 발 기는 신의 주체는 안정이 되

면서 신의 성과로 나온 결과가 증가하는 상이 나타나는 단계이다.한, 성숙기는 이미 기술의 발 이 이루어져 나타나는 결과 값이 상을 유지하고

있으나 신의 주체는 어드는 양상을 보이는 단계이며, 퇴조기는 참여 주체와 성과

가 모두 어드는 상을 보이는 단계를 의미한다.


본 용사례는 “NT분야 특허분석 보고서”의 내용 국가별 동향을 구간별('91~'93, '94~'96, '97~'99, '00~'03)로 구분하여 특허건수 증가율 비 출원인수 증가율의 상

계를 살펴본 것으로, 세계 동향의 경우 부분이 성장단계를 보이는 가운데 특

히, 한국은 최근('00~'03년)구간의 증가율이 200%를 보이며 높은 상승률을 나타냈다.


144

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), NT특허분석보고서

그림 3-12. 한국의 NT분야 기술 발 단계


145

연구주체별 특허 포트폴리오(1)2


각각의 연구주체별로 과거의 증가율 유율을 바탕으로 재시 의 증가율과

유율과의 비교를 통해 재의 양 인 성장정도를 알아볼 수 있는 분석방법이다.


각각 복수의 연구주체들을 상으로 n년이 경과한 시 에서 처음 시 의 특허건수에

비해 재 시 까지 특허건수가 얼마만큼 증가되었고, 각각의 유율의 변화에 따라

상기 연구주체별로 최근의 기술동향 성장세를 악할 수 있는 분석방법이다.좀 더 구체 으로 설명하자면, 가로축은 5년('96~'00년)동안 연구주체의 총 특허건

수에 한 해당년도('00년)의 출원건수 비율(출원 유율)을 의미하며, 세로축은 연구주

체가 5년('96~'00년)동안에 출원한 건수 비 해당년도('00년)의 출원한 건수의 증가

율을 의미한다.


본 사례는 “한국의 특허동향 2003”의 내용 가운데 국내특허를 심으로 거래소 상장

기업의 다출원 상 5개사의 특허 포트폴리오를 분석한 것이다.최근 5년('96~'00년)간 LG 자는 특허출원의 유율과 증가율이 높아지는 것으로

나타나 특허활동이 활발하게 이루어지는 것으로 조사된 반면, 우 자( , 우일 트

로닉스)는 상 으로 유율 증가율이 감소하는 추세로 나타났다.


146

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2003), 한국의 특허 동향 2003 - 출원인별

그림 3-13. 거래소 상장기업의 다출원 상 5개社 특허 포트폴리오


147

연구주체별 특허 포트폴리오(2)3


각각의 연구주체별로 과거 비 재시 에 한 특허등록건수의 증가를 통해 특허

포트폴리오를 살펴보는 것으로 연구주체의 성장정도를 알아볼 수 있는 분석방법이다.


각각의 복수 연구주체들을 상으로 체등록건수 비 최근 3년 동안의 등록건수를

상으로 최근의 특허등록이 얼마만큼 되었으며 성장비율81)은 어느 정도 되는지를

악하여 연구주체별로 최근의 기술동향 성장세를 살펴볼 수 있는 분석방법이다.


본 사례는 “PVR(Personal Video Recorder)82)의 특허동향”의 내용을 나타낸 것으로

주요 기업을 상으로 최근 3년 동안의 등록건수와 성장률을 통해 특허 포트폴리오로

분석한 것이다.3Com, Digimarc, Scientific-Atlanta, Matshushita 등의 기업이 평균 성장률을 상회

하는 것으로 나타났으며 3Com의 경우 최근 3년 동안 특허출원 등록이 모두 이루어

진 것으로 조사되었다. 상기 기업들 가운데 3Com과 Digimarc사가 상 으로 최근에

연구개발활동이 가장 활발하게 이루어지고 있으나, 그 외의 기업들은 최근 들어 연구

개발의 활동이 다소 정체기에 있는 것으로 단된다.

81) {(최근 3년간 등록건수/ 체등록건수)×100}82) 하드디스크에 정보를 기록하고 재생하는 개인용 디지털 비디오 녹화기기.


148

출처 : 전자부품연구원 (2005), PVR Patent Map.

그림 3-14. 주요 회사의 등록 신장률


149


재 각 국에서는 지 재산권을 확보하기 한 략을 수립하고 있는 가운데, 이에

한 구체 인 활동으로 한 국가가 다른 국가와 공동으로 연구하여 결과물(특허 등)을

산출하는데 주력하는 것을 로 들 수가 있다.공동연구 활동은 연구주체(국가, 기업 등)의 연구개발 력도를 평가하는 지수로 국

제 력 계(국제공동연구)와 지식의 흐름(연구인력의 유출․유입, Brain Drain․Gain)으로

구분하여 살펴볼 수가 있다.상기 국제 력 계란, 연구주체 간에 이루어지는 연구활동을 통하여 산출된 결과물

에 한 명 이상의 연구자(즉, 국 이 2개 이상)가 존재하는 것으로 국제 력 략의

합성을 단하는 기 으로 활용될 수 있다. 따라서 국가간, 주요 연구기 간, 주요 연

구자간의 력체계 구조분석을 통한 력 략수립에 유용하게 활용될 수 있을 것이

다.한편, 지식의 흐름은 국제 으로 높은 Quality를 가진 인 자원을 악하기 한 지

수로 기술의 확산정도와 어떠한 국가의 기술에 의해 기술 신이 이루어지는지를 알아

볼 수 있다. 좀 더 구체 으로 설명하자면, 해외로부터 유입된 Brain(기술 인 자

원)을 통해 주가 고용 등의 경제상황분석에 활용을 할 수 있으며, 고용된 외국

Brain의 연구개발 활동에 한 투입 상황을 측정할 수 있을 것이다.따라서, 본 에서는 상기 내용을 바탕으로 연구주체(국가, 기업 등)간에 이루어지는

국제 력 계와 지식의 흐름(Brain Drain, Brain Gain) 기타 다른 공동연구 활동에

한 분석방법을 살펴보고자 한다.


150

국제 협력관계도1


서로 다른 국가들이 공동으로 출원 발명을 한 특허건수를 바탕으로 각 국가 간에

이루어지는 력 계의 정도를 살펴보는 것이다.


본 분석은 2개 이상의 국가에서 공동으로 출원 발명을 한 특허건수를 바탕으로

국가 간의 력 계를 악할 수 있는 것으로, 공동으로 출원 발명을 한 건수가 많

을 경우에는 력 계가 높은 것을 의미하고, 반 로 낮은 경우에는 상 으로 력

계가 떨어지는 것을 의미한다.


본 사례는 "NT분야 특허분석 보고서”의 내용 미국특허를 상으로 국가별 력

황을 나타낸 것이다. 일본은 미국과 63건의 공동연구 활동을 보이며 가장 활발한

력 계를 나타냈으며, 한국의 경우에는 미국과 단지 2건만이 국제 력이 이루어지는

것으로 나타나, 상 으로 공동연구 활동이 조한 것으로 조사되었다.

표한국명 US JP CA RU DE FR GB TW IT NL SG ZA KR미 국 63 16 30 33 19 4 7 7 1 2일 본 63 1 1 3 1캐 나 다 16 1 6 1러 시 아

독 일 30 1 3 2 1 6랑 스 33 6 3 2 1

국 19 3 1 1만 4 2

이 탈 리 아 7 1 2 1네 덜 란 드 7 6 1 1 1싱 가 포 르 1남 아 공 1한 국 2


표 3-3. 국제협력이 활발한 상위 국가의 현황


151

국제 협력관계 지수2


서로 다른 국가들이 공동으로 출원 발명을 한 특허건수를 바탕으로 국가 간에 이

루어지는 력 계의 정도를 유율로 변환하여 살펴본 것이다.


앞에서 설명한 국제 력도와 유사한 분석방법으로 특허활동에 있어서 국가 간에 이

루어지는 력 계를 공동출원 발명의 두 가지 으로 살펴 본 것으로, 각각의

국제 력 계는 양국의 체 특허출원(발명)건수를 고려한 상 지수83)를 이용하여

분석을 수행할 수 있다.


본 사례는 “생명공학(BT) 특허동향”의 내용 일례로 국내특허를 상으로 각 국가

간의 력 계를 살펴본 것이다. 한국의 경우, 특허출원 활동에 한 국제 인 력

계는 선진 외국에 비하여 상 으로 조한 것으로 나타난 반면, 미국은 특허활동을

수행하는 20개국 가장 활발한 국제 력 계를 보이는 것으로 나타났다.

83)

× ×

(Pij = i국가와 j국가의 공동출원(발명)수, Pi(j) = i(j)국가의 특허출원(발명)건수)


152

국가명 코드 AU BE CA CH CN DE DK ES FI FR GB HU IL IT JP KR NL RU SE US호주 AU 0.7 0.6 1.1 0.4 0.7 0.9 1.1 0.5 0.7 0.2

벨기에 BE 0.7 0.5 1.3 0.1 2.8 0.8 0.6캐나다 CA 0.6 1.2 0.8 1.8 0.2 2.0스 스 CH 0.7 0.3 0.2 0.3 0.4 1.4

국 CN 0.7 0.3독일 DE 1.1 0.5 0.7 0.4 1.3 0.4 0.5 0.7 0.4 0.7 0.1 0.4 1.1

덴마크 DK 0.3 0.4 0.3 0.6 0.6 1.5스페인 ES 1.0 1.5 1.1 0.3핀란드 FI 1.2 0.3 1.3

랑스 FR 0.4 0.8 1.3 0.9 0.5 0.2 0.8 0.4 1.3국 GB 0.7 1.3 1.8 0.2 0.4 0.3 1.0 0.9 0.2 0.8 1.0

헝가리 HU 0.5이스라엘 IL 0.9 0.7 1.5 0.5 0.6 1.9 2.4이탈리아 IT 1.1 0.4 1.5 1.5 0.6 0.3 0.2

일본 JP 0.5 0.2 0.3 0.7 0.6 0.3 0.5 0.2 0.5 0.6 0.7 0.5 1.4한국 KR 0.1 0.7 0.1 0.2 0.7 0.1 0.3 0.3

네덜란드 NL 2.8 0.4 0.6 1.1 0.8 0.6 0.3 0.5 0.1 0.9 0.8러시아 RU 0.3스웨덴 SE 0.7 0.8 0.4 1.3 0.4 0.8 1.9 0.9 0.3미국 US 0.2 0.6 2.0 1.4 0.3 1.1 1.5 0.3 1.3 1.0 2.4 0.2 1.4 0.3 0.8 0.3


표 3-4. 국가간 공동출원 력지수


153

지역간 공동연구 활동3


각 지역 간에 이루어지는 공동연구를 통해 산출된 특허출원건수의 비율을 바탕으로

지역 간에 발생되는 공동연구 활동을 가늠해 볼 수 있다.


공개특허공보 서지사항에 기재되어 있는 발명자와 그 주소지를 이용하여 발명자의

지역이 서로 다른 특허를 상으로 하여 지역 간에 발생하는 공동연구(공동출원)활동

을 평가할 수 있는 분석방법이다.


본 용사 는 “한국의 특허동향 2004”에서 분석하 던 방법으로 상기 보고서에서는

16개 역자치단체를 심으로 각 지역 간에 이루어지는 공동연구 활동(공동출원)을

시각 으로 나타낸 것이다. 지역 간에 이루어지는 공동연구의 결과를 토 로 특허활동이 가장 활발한 서울, 경

기 등의 수도권을 심으로 살펴 본 결과, 상기 수도권 지역은 , 충북, 경북 등과

력 계가 가장 높은 것으로 조사되었다.


154

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), 한국의 특허동향 2004 – 출원인별ㆍ지역별

그림 3-15. 지역간 공동연구 황


155

연구인력의 유입 및 유출을 통한 지식의 흐름4


특허에 인용되거나 피인용 된 데이터 가운데 출원인과 발명자를 상으로 연구인력

의 흐름을 악하여 특정 연구주체의 기술의 유입(Gain) 유출(Drain)의 황을 살

펴볼 수 있는 분석방법이다.


특허 출원인과 발명자의 거주지 국가 정보를 이용하여 신활동의 소재와 신성과

의 귀속을 악함으로써, 국가별로 외국의 연구인력 활용 자국의 연구인력 유출에

한 정보를 얻을 수 있다.


본 용사례는 국내특허를 상으로 생명공학 분야에 한 국가별 연구인력의 유입

유출 계를 살펴본 것이다. 유럽은 연구인력의 유입과 유출이 상 으로 높은 반

면, 국과 러시아는 유출 상이 두드러지게 나타나고 있는 것을 확인할 수 있다.

1. '85-'01 특허출원 대상2. '85-'01 다출원 15개국 및 중국, 러시아 대상

4.4%

(100건)

7.1%

(1건)

7.6%

(16건)

11.1%

(2건)

16.1%

(57건)

17.7%

(728건)

19.9%

(222건)

19.9%

(50건)

23.0%

(101건)

26.2%

(38건)

26.2%

(16건)

31.9%

(38건)

32.0%

(47건)

37.6%

(132건)

44.6%

(45건)

76.6%

(241건)

2.9%

(241건)

0%

10%

20%

30%

40%

50%

60%

70%

80%

90%

스위스

벨기에

네덜란드

캐나다

스웨덴

이스라엘

호주

영국

덴마크

독일

미국

프랑스

중국

이탈리아

러시아

일본

한국

< 한국특허로 본 국가별 외국 인력 유입현황>


156

1. '85-'01 특허출원 대상2. '85-'01 발명자 국적 기준 다출원 15개국 및 러시아 대상

0.7%

(58건)

90.3%

(204건)

78.5%

(62건)

42.1%

(316건)41.7%

(111건) 37.8%

(65건) 34.1%

(56건) 31.1%

(165건)29.0%

(85건)26.9%

(100건)24.6%

(48건)22.5%

(62건) 18.3%

(246건) 12.0%

(562건) 7.4%

(21건)

7.2%

(179건)

0%

10%

20%

30%

40%

50%

60%

70%

80%

90%

100%

중

국

러

시

아

영

국

캐

나

다

벨

기

에

스

웨

덴

프

랑

스

스

위

스

네

덜

란

드

호

주

이

탈

리

아

독

일

미

국

덴

마

크

일

본

한

국

< 한국특허로 본 국가별 자국 인력 유출현황>

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), 생명공학 특허동향

그림 3-16. 생명공학 분야 국가별 인력유입률 인력유출률


157

지식의 창출 및 확산에 관한 관계5


본 분석은 부문별로 기술 신 패턴에 하여 자세한 정보를 제공하는 것으로 지식의

유입 확산의 정도를 살펴 볼 수가 있다.


지식의 유입과 확산의 두 측면을 살펴 본 것으로, 지식의 기반(인용)과 (피인

용)의 황을 분석하여 신리더를 악할 수 있는 분석방법이다.


아래의 분석결과는 한국과 만이 기술개발의 기반으로서 미국과 일본의 기술에 어

느 정도 의존하고 있는가를 분석한 결과로서, 양국의 기술 신의 지 원천 상당

부분이 미국과 일본의 기술에 기반하고 있음을 확인할 수 있다.

출처 : A. G. Z. Hu and A. B. Jaffe (2001), Patent Citations and International Knowledge Flow: The Cases of Korea and Taiwan, NBER Working Paper, 8528.

그림 3-17. 한국과 만의 인용특허 분석결과


158


일반 으로 특허분석방법은 기술 분야, 기술의 성격 등에 따라 일률 으로 정하기는

다소 어려움이 뒤따르기 때문에 통상 특허자료를 토 로 특허의 기술 분야별 분류

정리를 통해 이해하기 쉽도록 도표화하는 방법 즉, 정량 인 분석방법을 가장 많이 사

용하고 있다.를 들어 특허맵(Patent Map)으로 표 하는 경우, 해당특허와 련된 특허들의 기

술 인 정보, 경 상의 정보, 권리정보 등을 얻을 목 으로 여러 가지 도표 그림의

형태로 작성한다.그러나, 정성분석의 경우에는 정량분석과 달리 서지사항에 한 정보가 아닌 특허명

세서(특허청구범 )상에 기재된 기술 인 내용을 바탕으로 특허침해 기술과의 동일성

여부를 단하게 되며 한, 특허의 무효를 주장하는 경우에는 해당특허의 특허성, 유

효성을 선행특허와 기술의 목 , 구성, 효과 측면에서 비교 검토하여 분석을 실시하

는 것을 의미한다.따라서 본 에서는 이와 같은 정성분석을 활용한 보고서 기타 분석사례를 심

으로 여러 가지의 분석방법을 살펴보고자 한다.


159

기술별 특허동향 분석1

1.1 개요

본 내용은 에 지 리공단에서 발간한 특허동향 보고서 가운데 일부를 발췌한 것으

로 에 지의 효율향상을 하여 특허정보를 통해 흡수식 냉온수기의 특허동향을 살펴

본 것이다.특허정보조사의 범 는 출원년도를 기 으로 1984년 06월 01일부터 2004년 06월

01일까지로 한정 하 고, 한국, 미국, 일본을 분석 상으로 하 으며 한국과 일본의 경

우 공개특허를, 미국의 경우에는 등록특허를 상으로 분석을 실시하 다.흡수식 냉온수기에 하여 국제특허분류(IPC)를 찾아보면 각종 냉동기기와 혼재되어

분포하고 있거나, 어느 하나의 IPC분류(F25B 15/00)에 집 으로 모여 있어 상기 국

제특허분류(IPC)의 기 만으로는 흡수식 냉온수기에 포함된 기술 분류를 정확하게 하

기 어렵기 때문에 본 과제의 조사 분석에서는 별도의 기술 분류를 만들어 분석을 실시

하 다.

1.2 분석방법의 활용방안

본 분석방법은 고효율 흡수식 냉온수기에 한 기술을 냉각방식 흡수액, 효용성, 구성요소에 한 기술로 분류하여 해당기술별로 핵심특허를 정리한 후, 상기 핵심특허

를 심으로 기술 황과 의미를 악하여 각각의 특허마다 기술요지를 바탕으로

재의 기술 치와 기술개발에 한 문제 보완 을 분석한 것이다.따라서, 본 방법은 기술의 개발단계를 기술 인 내용과 도면을 바탕으로 조사․분석을

실시하여 재의 기술 치와 문제 을 악한 후, 개선할 이나 좀 더 연구개발이

필요한 부분이 있을 경우, 정부 기업이 주도하여 연구개발을 실시할 수 있도록 가

이드를 제시하여 주는 기 자료로서 쓰여지는 것이 바람직한 것으로 단된다.


160


번호등록번호

(출원/공개번호) 출원일자 출원인 발명의 명칭 표도면 비고

A001 KR0136652 1993-12-22

주식회사 엘지이아

이

공냉흡수식냉난방

기

등록

특허

A002 JP2527590 1988-02-17

SANYO ELECTRIC CO LTD

AIR COOLED TYPE ABSORPTION REFRIGERATING MACHINE

등록

특허

A003 JP2522982 1988-03-29


AIR-COOLED ABSORPTION REFRIGERATOR

등록

특허

A004 JP2567663 1988-05-13


AIR-COOLED DOUBLE EFFECT ABSORPTION REFRIGERATING MACHINE

등록

특허

A005 JP2771588 1989-04-07

TOKYO GAS CO LTD|OSAKA GAS CO LTD|TOHO GAS CO LTD|HITACHI LTD

AIR-COOLED ABSORPTION TYPE COLD AND HOT WATER MACHINE

등록

특허

출처 : 에 지 리공단, 특허기술분석 - 흡수식냉온수기. (http://www.kemco.or.kr/up_load/pds/object/8장/흡수식냉온수기최종보고서.hwp)

표 3-5. 흡수식 냉온수기의 냉각방식/흡수액


161

주식회사 엘지이아이에 의하여 출원된 특허 “공냉흡수식냉난방기”는 “흡수기에 설치

되는 핀을 열이 많이 발생되는 부분에서는 조 하게 배치하고 열이 게 발생되는 부

분에서는 넓은 간격으로 배치하여 구성함으로써 가장 열이 많이 발생되는 부분에서의

방열을 효과 으로 실 하여 흡수기의 성능을 향상하도록 하 으며, 흡수기의 수직흡

수 의 길이도 단축할 수 있어 소형화가 가능한 공냉흡수식 냉난방기” 에 한 것이다.SANYO ELECTRIC CO LTD에 의하여 출원된 특허 “AIR COOLED TYPE

ABSORPTION REFRIGERATING MACHINE”는 “바깥 공기와 같이 냉각수보다 온도가

높은 공기를 흡수기나 응축기의 냉각매체를 통하여 이용해도 온의 찬 바람을 얻을

수 있음과 동시에, 흡수기나 응축기의 냉각용 공기송풍기의 소형화등도 가능하도록 하

여 소음을 작게 할 수 있는 공랭식 흡수 냉온수기”에 한 것이다.SANYO ELECTRIC CO LTD에 의하여 출원된 특허 “AIR-COOLED ABSORPTION

REFRIGERATOR”는 “ 기 가동성능이 좋도록 바깥 공기온도의 변동에 의한 냉동 성능

향을 일 수 있는 공랭식 흡수 냉온수기”에 한 것이다.SANYO ELECTRIC CO LTD에 의하여 출원된 특허 “AIR-COOLED DOUBLE

EFFECT ABSORPTION REFRIGERATING MACHINE”는 “고온 재생기내의 압력, 온

도를 낮게 유지할 수 있는 공랭식 흡수 냉온수기로써 과제를 해결하기 한 수단은 고

온 재생기의 가열량을 냉수 온도 신호로 조 하는 제어장치와, 냉각 공기 온도가 상한

설정치를 넘었을 경우에 이 온도 혹은 이것과 함께 변화하는 고온 재생기 내압등의 물

리량의 검출 신호로 가열량을 조 하도록 한 흡수식 냉온수기”에 한 것이다.TOKYO GAS CO LTD, OSAKA GAS CO LTD, TOHO GAS CO LTD, HITACHI LTD에

의하여 출원된 특허 “AIR-COOLED ABSORPTION TYPE COLD AND HOT WATER MACHINE”는 “탱크내 압력 상승의 확인을 용이하게 하고 배기 펌 의 배출 장치의

고장의 확인을 용이하게 하여 냉동 능력의 하를 방지할 수 있게 한 흡수식 냉온수

기”에 한 것이다.


162

번호등록번호

(출원/공개번호) 출원일자 출원인 발명의 명칭 표도면 비고

B006 US5727397 1996-11-04York International Corporation

Triple effect absorption refrigeration system

등록

특허

B007 USRE36045 1997-02-07 Rocky Research

Triple effect absorption cycle apparatus

등록

특허

B008 US5941094 1998-05-18York International Corporation

Triple-effect absorption refrigeration system having a combustion chamber cooled with a sub-ambient pressure solution stream

등록

특허

B009 JP02309558 1990-11-14 OSAKA GAS CO LTD

MULTIPLE EFFECT ABSORPTION TYPE FREEZER

공개

특허

B010 JP2606030 1991-10-24 DAIKIN IND LTD

MULTI-EFFECT ABSORPTIVE REFRIGERATOR

등록

특허

출처 : 에 지 리공단, 특허기술분석 - 흡수식냉온수기. (http://www.kemco.or.kr/up_load/pds/object/8장/흡수식냉온수기최종보고서.hwp)

표 3-6. 흡수식 냉온수기의 효용성


163

York International Corporation에 의하여 출원된 특허 “Triple effect absorption refrigeration system”는 “흡수식냉온수기에서 용액은 흡수기에서 첫 번째와 두 번째

재생기로 흐르게 된다. 이때 상기 재생기는 병력로 연결되어 있다. 최 의 재생기에서

흘러나온 흡수액은 흡수기로 흘러들어가게 되며, 두 번째 재생기에서 나온 용액은 두

번째 재생기와 연결된 세 번째 재생기로 흘러들어 가게 된다. 각각의 발생기에서 나온

냉매증기는 각각의 응축기에서 응축된다. 세 번째 응축기는 두 번째 재생기와 열교환

을 하며 두 번째 응축기는 첫번째 재생기와 열교환하는 것을 특징으로 하는 흡수식 냉

온수장치”에 한 것이다.Rocky Research에 의하여 출원된 특허 “Triple effect absorption cycle apparatus”

는 “본 발명은 3 효용흡수식 싸이클장치에 한 것으로써 제1재생기와 제2재생기와

제3재생기로 구성된다. 각각의 재생기는 흡수액을 포함하고 있으며, 고온에서도 성공

으로 작동할 수 있는 것을 특징으로 하는 흡수식 냉온수장치”에 한 것이다.York International Corporation에 의하여 출원된 특허 “Triple-effect absorption

refrigeration system having a combustion chamber cooled with a sub-ambient pressure solution stream”는 “흡수식냉온수장치는 직화연소실을 가지고 있다. 증발기

와 상기 증발기와 연결되어 있는 흡수기를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 흡수식 냉

온수장치”에 한 것이다.OSAKA GAS CO LTD에 의하여 출원된 특허 “MULTIPLE EFFECT ABSORPTION TYPE

FREEZER”는 “응축기내에 냉매의 온도를 올리고, 열효율을 증 시키는 것을 목 으로

하는 흡수식 냉온수기를 제공하는 것을 목 으로 한다. 상기 열효율증 를 해서 본

발명에서는 응축된 냉매액을 유동액의 입구로 인도하고 온재생기의 마지막 단계에서

발생한 냉매증기를 배출액에 흡수하는 것을 특징으로 하는 흡수식 냉온수장치”에 한

것이다.DAIKIN IND LTD에 의하여 출원된 특허 “MULTI-EFFECT ABSORPTIVE

REFRIGERATOR”는 “ 온 흡수기 3으로부터의 희석 흡수액을 온 발생기 4로부

터 나온 농축 흡수액과 혼합함으로써 온 열교환기 8내부에서 가열하 다. 한 이상과

같이 가열된 희석 흡수액을 고온 흡수기 1내에 설치되고 있는 열 10에 이끌어, 고온

증발기 6으로부터 나온 냉매 증기를 고온 흡수기 1로 흡수시킬 때의 흡수열에 의해 가

열하여 고온 흡수기 1에 의하여 가열된 희석 흡수액을 온 발생기 4내에서 분사하는

수단을 온측 흡수액순환 회로에 설치한 흡수식 냉온수기”에 한 것이다.


164

특허전략 수립을 위한 권리분석2

2.1 개요

본 내용은 IC Sensors, Inc사의 센서기술에 한 특허데이터를 바탕으로 아래 표에

서 제시한 발명의 명칭을 가지는 4건의 미국등록특허 청구1항을 심층 으로 분석하여

자사특허의 보호범 를 확 하기 해 구사하고 있는 특허 략을 살펴보고자 한 것이

다.

등록번호 발명의 명칭 출원인 명칭 기술 특징

US 5064165 (1991)

Semiconductor Transducer or Actuator Utilizing Corrugated

Supports (압력센서)IC Sensors

주름을 갖는 반도체 다

이어 램을 포함한 압

력변환기로서 제어가능

한 압력으로 유량의 흐

름을 제어

US 5116457 (1992)


Supports (압력센서)IC Sensors 주름을 갖는 반도체 다

이어 램 제작방법

US 5177579 (1993)




이어 램, 압력포트인

개구와 감지 소자를 포

함하는 압력변환기

US 5209118 (1993)




이어 램을 포함한 반

도체 장치

※ US 5116457, US 5177579, US 5209118은 US 5064165를 원출원으로 하는 분할출원임

출처 : 한국반도체산업 회, 2001 신기술 동향 조사 보고서(증보 ), 제4권 센서기술. (http://www.ksia.or.kr/2001/zip04.zip)

표 3-7. IC Sensors사의 특허리스트


본 사례는 한국반도체산업 회(KSIA)에서 IC센서에 해서 정성분석(청구항분석)을

실시한 것으로, 미국특허에서 IC Sensors사가 변경출원이라는 출원 차 상의 제도를


165

략 으로 활용하여 하나의 최 발명에 한 권리범 (특허청구범 )를 입체 는

다각도로 설정하려는 의도를 엿볼 수 있는 분석방법이다.본 분석방법은 기술에 한 자사의 특허를 더욱 견고하게 보호받을 수 있을 뿐만 아

니라, 경쟁기업에 의한 청구범 를 회피할 수 있는 방안을 마련하는데 필요한 기 자

료로서 활용하는 것이 바람직한 것으로 단된다.


US 5064165(원출원)( 표도)

그림 3-18. 반도체형 액추에이터

(청구범 제1항)앙에 치한 휨부재(108), 지지부재(106), 상기 휨부재(108)와 지지부재(106)

사이에 연결되어 있으며 에치스톱 불순물을 갖고 복수의 주름(110)을 포함하는 반

도체층; 상기 휨부재(108)를 움직이는 수단으로 구성된 반도체형 액추에이터

※ 상기 특허는 실리콘을 식각할 때 발생하는 불순물을 제거하기 한 방법으로 복

수의 주름층을 형성한다는 것을 주요 내용으로 다루고 있다.


166

US 5116457(분할출원-1)( 표도)

그림 3-19. 주름형성방법

(청구범 제1항)(a) 미리 정해진 패턴에 따라 반도체 재료의 제1면에 마스크를 형성하는 단계;

(b) 상기 제1면에 에칭하는 단계; (c) 상기 제1면으로부터 상기 마스크를 제거하는

단계; (d) 상기 미리 정해진 로 일에 따라 상기 제1면에 에치스톱층을 제공하는

단계; (e) 주름을 형성하기 해 제1면의 반 쪽에 치한 제2면을 상기 에치스톱

층까지 에칭하는 단계; 로 이루어지는 반도체 재료에 어도 하나 이상의 주름을

형성하는 방법

※ 본 특허는 앞의 US 5064165의 분할출원으로 주름을 형성하는 방법을 주요 내용으

로 다루었다.US 5177579(분할출원-2)( 표도)

그림 3-20. 반도체형 압력변환기


167

(청구범 제1항)앙에 치한 휨부재(38), 지지부재(36), 상기 휨부재(38)와 상기 지지부재(36)

사이에 형성되며 인가된 힘에 반응하여 상기 휨부재를 상기 지지부재에 해 움직

이게 하는 복수의 주름(34)을 포함하는 반도체층(32); 상기 휨부재의 휨을 감지하

고 감지된 상기 휨부재의 휨의 함수로 기 인 신호를 생성하는 수단; 으로 구성

된 반도체형 압력변환기

※ 원 특허(US 5064165)의 주요 내용인 복수의 주름을 이용한 것으로 반도체형 압력변

환기의 구성방법을 나타낸 것이다.US 5209118(분할출원-2)( 표도)

그림 3-21. 반도체 소자

(청구범 제1항)다이어 램 부재(35)안에 형성되고 얇은 부분에 의해 분리된 복수의 그루

(groove)에 의해 둘러싸인 앙에 치한 평면형 반도체 휨부재(38)를 포함하는 다

이어 램 부재(35)와 외부의 휨 없는 지지부재(36)로 구성된 반도체 소자

※ 본 내용은 복수의 주름을 이용하여 생성한 반도체 소자이다.


168

이상과 같은 내용을 도식 으로 요약하면 아래와 같이 나타낼 수 있다.

그림 3-22. IC Sensors社의 특허 네트워크

상기 4개의 특허를 살펴본 결과, 반도체형 액추에이터의 특허에서 주요 내용으로

언 한 복수의 주름을 토 로 주름형성 방법과 주름을 이용한 압력변환기 반도

체소자 등에 한 특허를 출원하여 IC Sensors사의 US 5064165의 특허를 보호하

고 있다.


169

기술별 권리범위 분석3

3.1 개요

본 내용은 나노기술의 트랜드 시장 상황에 한 객 분석을 통해 투자방향을

검하고 NT분야의 산업화 정책수립에 반 하기 한 일환으로 라즈마 공정을 이용

하는 기술 에서 나노미터 단 에서 물질을 조작, 처리하는 소재(재료)와 제조장치

방법에 한“나노 라즈마 공정 기술(특허맵)”보고서에 기재된 내용 가운데 권리범

에 한 분석 부분을 발췌한 것이다.


본 분석방법은 유사한 특허의 권리범 를 상 으로 비교한 것으로, 자사 제품의

타사 특허 침해여부의 단과 신규 사업 시 사업방향과 역의 결정, 제품 개발 설

계변경의 기 을 제시하여 사 에 특허침해 분쟁의 소지를 미연에 방지하고 분쟁에 따

른 응 략 수립 등 외국 선진기업들에 의한“특허 쟁”을 극복하는데 필요한 기 자료

로 활용하는 것이 바람직하다.


170


[KR]10-2002-0027253(2002,05,17)

출원인 : (주)엔피씨

[JP]1981-058537(1979,10,19)

출원인 : HITACHI LTD

구성요소 ① 고주 코일이 외측을 감싸는 반응 ① 유도코일이 외측을 감싸는 라즈마 토치

② 아르곤 가스가 공 되어 내부로 투입될수 있도록 다수

의 가스통과홀이 천공되고 측벽사이에 가스이동통로가 구

비된 세라믹 내벽이 포함된 몸체

② 상부에 원료피더와 아르곤가스 도입구 수소가스 도

입구가 형성

③ 반응로와 통되는 분말 주입 이 구비된 상부커버

④ 반응로의 하부에 직경이 상 으로 큰 반응로가 더

구비됨

④ 유도코일 하부에 가스를 냉각작용을 하도록 냉각가스

도입실을 형성

⑤ 반응 은 외부로부터 물이 채워져 순환⑤ 유도코일과 라즈마토치 사이에 냉각수가 순환될수

있도록 냉각부를 형성

⑥ 라즈마가 반응로에 흡착되지 않도록 하는 구자석

체가 구비

⑦ 몸체와 하부몸체사이에 연체가 구비

⑧ 고주 코일과 반응 을 보호하도록 다수의 연막

구비

⑨ 상부커버의 분말주입 둘 에 가스 유입구가 구비되

고 바로 내측으로 냉각수가 유입되어 하면을 냉각하는 냉

각 이 추가로 구비

⑤ 라즈마에 의한 석출물들을 획득하는 수냉 속통을

하부에 장착

구성요소의 비교

①=①, ②≠②, ③ , ④≠④, ⑤≠⑤, ⑥, ⑦, ⑧, ⑨≠⑤

도 면

권리범 의 비교 분석

KR-10-2002-0027253은 JP-1981-058537과 권리범 를 비교 분석하 을 때, 라즈마 발생용 유도코일을

반응로 외부로 권취하여 구성한 것은 유사하나, 반응로 내부의 체공간을 이용하여 함수율을 높 다

는 차별성과 원료물질을 액체상태 기체상태가 아닌 고체원료를 사용한 부분, 구자석을 이용하여

라즈마가 반응로의 내측벽에 흡착되는 것을 방지하고 가스공 수단으로 몸체에 다수의 가스통과홀

을 형성한 부분에 있어서 KR-10-2002-0027253의 기술 구성은 JP-1981-058537의 기술 구성에 침해

요소가 없는 것으로 단됨.

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), 나노 라즈마 공정 기술(Patent Map).

표 3-8. 나노분말합성 기술


171

특허번호KR1019920000774

출원일1992-01-21제 목

유도결합 RF 라즈말를 이용한 러 의 제조장치

방법

구성요소A RF고주 발생장치

B 원료 분말공 기

C 가스공 장치

D 토치부

E 반응쳄버

F 배기가스 냉각부 필터

G 진공펌

H 압 로우방

I방 단계, 유도결합형 라즈마 생성단계, 흑연분말공 단계, 반응가스 냉각단계, 분리단계로

이루어지는 러 제조방법

유사특허번호 구성요소 비교 요 지

JP05-116921991-10-29

A+B+C+D+E+F+I불활성가스와 탄소원료 공 수단, 고주 발생코일, 냉각용

불활성가스 도입수단, 생성물 포집수단 등으로 구성

JP05-124801992-04-30

A+B+C+D+E+F+G+H+I100μｍ미만의 탄소질원료를 가스에 동반하여 라즈마 속에

도입, 가열, 증발, 냉각하여 이루어지는 제조방법

도면 비교 권리 비교 분석

KR1019920000774

한국표 과학연구원JP05-116920

MITSUI ENG & SHIPBUILD CO LTD

JP05-124807MITSUBISHI KASEI CORP

RF고주 발생장치,카본원료분말공

기, 라즈마 형성용 가스공 장

치,토치부,반응가스냉각부, 분리필

터,진공펌 로 구성됨.

토치부의 구조가 JP05-12480과 유

사하나 본원이 선출원이므로 분쟁

발생시 유리한 입장에 있음.

KR1019920000774보다 선출원된 특허

로 분쟁시 유리한 입장을 보일수있으

나, 제 등록거 된 상태임.

진공펌 를 이용 진공을 조성, DC

아크와 고주 아크발생기에 원인

가, 불활성가스도입, 100μｍ미만의

탄소질원료를 Ar기류로 유도공 ,

반응, 냉각하여 이 스 에 부착

분과 필터 포집분을 회수하여 얻어

지는 러 제조방법(실시 참조)

으로 KR1019920000774의 토치부와

기본 인 원리가 유사함.


표 3-9. 탄소화합물 합성기술(fullerene 합성)


172

특허번호KR1020000029583

출원일1999-07-27제 목

라즈마 화학증착 방법을 이용한 탄소나노튜

의 합성방법

출원인 일진 나노텍 주식회사

구성요소

A 매 속막형성단계 → 매 속막식각단계 → 매미립자형성

B 매미립자형성기 상에 PECVD에 의해 CNT의 합성

C A,B +3~200nm두께의 매 속막

D A,B +0.1~수십torr압력

E A,B +100~600W RF 워

F A,B +350~650?의 매미립자 CNT합성온도

G A,B +암모니아/수소가스를 이용 in-situ로 CNT의 정제

H A,B,G +온도350~650?, 압력0.1~수십torr, 100~600W RF의 조건에서의 정제단계

IA,B + 라즈마가 발생되는 챔버와 연결된 별도의 챔버내에서 행해지는 CNT합성단

계

유사특허번호 구성요소 비교 요 지

JP11-011917

1997-06-18A+B+D+E

매층을 리소그라피 등의 방법으로 CNT성장개시지 을

형성

WO1999006582

1998-06-19A+B+C+D++F+G

형성된 매층을 라즈마로 에칭등의 처리후 CNT를 배열

성장

US2002011494

2000-02-25A+B+C+E+G 속 매층을 이용하여 국부 인기 에 CNT를 수직정렬

권리범 비교 분석

JP11-011917

CANON INC

WO1999006582

KOSZINOWSKI, Ulrich,

H.;MESSERLE, Martin

US2002011494

LOWENSTEIN SANDLER PC

KR1020000029583의 경우 매

층을 라즈마로 에칭하여

매미립자를 형성하고,

JP11-011917에서는 매층을 리

소그라피 등의 방법 CNT의 성

장개시지 을 형성한다고 명시

되어, 두 특허에서 매미립자형

성의 기술의 유사성이 있어 분

쟁의 여지가 있다. 한

WO19990065821보다 선출원되어

특허분쟁시 가장 유리한 치를

가질것으로 단됨.

매층을 라즈마 에칭을 하

거나, 패터닝 처리후 CNT를 배열

성장, 정제하는 방법을 공지,

KR1020000029583와 기술의 유

사성을 내제, 권리분쟁의 여지

가 있는 것으로 단됨.

패턴화된 매층을 이용하여

PECVD를 통해 수직하게 나노

튜 를 성장,안정 에칭단계

로 이루어지는 으로 미루어

KR1020000029583의 특허내용

과 매미립자의 형성, 매

속막의 두께, PECVD를 이용,

정제처리 등에 상당한 유사성

을 보이나 후출원되어 분쟁시

KR1020000029583가 좀더 유

리한 입장을 가질것으로 단

됨.


표 3-10. 탄소화합물 합성기술(카본 나노 튜 (CNT) 합성)


173

[KR]10-2002-0018785(2002,04,06)

출원인 : 이정

[US]6,042,900(1996,03,12)

출원인 : Alexander Rakhimov구성요소

① 라즈마 화학증착방식으로 2개이상의 성분으

로 다층박막형성이 가능한 챔버(10)

① 서로 일정한 거리에 치한 양극과 음극을 보

유한 챔버

② 반응물질을 공 해주는 2개의 소스공 부(25,

26)

② 수소가스와 카본함유 가스의 혼합기체를 반응

기로 도입하는 도입부

③ 일단은 챔버에 연결되고 타단은 유량조 을

한 우회 에 연결되는 2개의 경로(22, 23)

④ 우회 에 연결된 진공펌 (33)

⑤ 경로의 양쪽에 설치되어 자동 개폐되는 어도

4개의 밸 (27)

양극과 음극사이에 기 워를 공 하는 장치

기재 가열수단

구성요소의 비교

①≠①, ②=②, ③ , ④, ⑤,

도 면

권리범 의 비교 분석

[KR]10-2002-0018785에서의 반응챔버와 라즈마 발생방식 원발생부 등이 [US]6,042,900의 반응기

에 구성된 기술과 유사하나 [KR]10-2002-0018785의 청구범 가장 특징 인 2개의 소스공 부를 구

비하여 나노크기의 다층필름을 코 할 수 있는 것과 우회 에 자동 개폐되도록 설치한 4개의 밸 를

구성한 기술은 나노 라즈마 코 기술분야에 있어서 유사특허와 비교하 을 때 특별한 침해의 소지

가 없다고 단되며 반응기의 기반구성 분야보다는 본 특허와 같이 부속장치 공 수단 등에 기술

개발을 하여 경쟁력을 한층 더 높일 수 있다고 단됨.


표 3-11. 표면코 기술


174

기술 발전도4

4.1 개요

기술 발 도는 연도별로 핵심 기술의 특허를 선정한 후 출원번호나 등록번호, 우선

권번호, 출원인 등을 이용하여 서지사항의 일부와 기술 인 내용 요약을 기재함으로써

상 핵심 기술의 분류와 변화의 흐름을 단편 으로 알려주는 것이다.


본 분석방법은 기술의 발 황을 시계열 으로 한 에 악할 수 있도록 기술 내

용의 서술이나 도면을 이용하여 나타낸 것으로 사용자가 알아보기 쉽게 특허의 권리를

분석할 수 있으므로 핵심 기술의 흐름을 분석하는데 유용하게 사용될 것이다.


본 사례는 기술발 도를 표 하는 방식을 나타낸 것으로, 일반 으로 가장 많이 사

용하는 서술형식과 표도면을 이용하여 구성의 변화를 시계열 인 기 하에서 표

하는 도식형식으로 나타내어 보았다.한, 핵심 특허들을 심으로 기술 분류상에 어떠한 변화가 있는지를 표 하는 형

식도 사용하고 있으며, 기술 분류를 시계열 인 기 하에 기본특허 리스트를 표시하

여 어떠한 특허군이 구성되었는지도 표 이 가능하다.


175

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), 나노 플라즈마 공정 기술(Patent Map).

그림 3-23. 기술발 도 사례(1)


176

출처 : 한국특허정보원 (1999), 지문인식 특허맵

그림 3-24. 기술발 도 사례(2)


177


특허의 활용성 여부(휴면특허의 비율)1


자신이 권리를 가지고 있는 특허권의 활용 황을 악하기 해 자국 자사특허를

자신 스스로 활용하는 경우와, 타국 타사에서 활용하는 경우 활용하고 있지는

않지만 개방의사가 있는 특허로 구분하여 분석을 실시한 것으로, 상기 분석을 통해 나

온 결과물을 바탕으로 기업 기타 연구주체가 특허의 리를 하는데 있어서 많은 도

움이 될 것으로 단된다.


본 분석은 자국 자사에서 권리를 가지고 있는 특허를 자국 자사만이 배타 으

로 활용하고 있는 특허건수와 타국 타사에서 활용하는 경우(①외국에 사용을 허락

한 경우, ②크로스라이센싱에 계하는 실시건수, ③유상으로 실시를 허락한 건수, ④특허풀(patent pool)에 의해 타국 타사에 실시가 허락된 건수)로 구분하여 특허의

활용비율을 산출한 후 상 으로 활용하지 않는 특허 즉, 휴면특허의 비율을 살펴보

는 것이다.


본 용사례는 일본의 기업을 상으로 일본국내 특허권의 소유자수 비 자사실시

건수의 비율과 타사에서 활용하는 건수의 비율을 살펴본 것으로 평균 으로 자사실시

건수의 비율은 약 30%, 타사의 활용건수의 비율은 약 10%로 나타나 어도 일본내

기업 특허권의 60%이상은 휴면특허인 것으로 추정하고 있다.


178

출처 : 일본특허청, 일본지적재산연구소 (2003), 평성15년 특허청 지적재산활동 조사보고서. (김승군 (2004), 특허통계ㆍ지표개발에 대한기초연구, 지식재산권연구센터. 재인용)

그림 3-25. 특허권의 自社 실시비율과 他社 실시허락비율의 분포(외국권리)


179

구간별 시장력확보(PFS) 지수2


특허는 속지주의 원칙이므로 하나의 발명은 한 국가에 속한다는 제하에 여러 국가

에서 특허권을 인정받기 해서는 각 국가마다 특허를 출원하여 등록을 받아야 한다. 여기서 말하는 시장력확보(Patent Family Size)지수란, 한 발명에 해 각 국가마다

출원된 특허(즉, 패 리 특허(Patent Family))의 규모를 의미한다.


해외에 특허를 출원할 경우 많은 비용이 소요되기 때문에, 해당국가에서 상업 인

이익 는 기술경쟁 계에 있을 경우에만 해외에 특허를 출원을 하게 된다. 따라서, 패 리특허(Patent Family)수가 많을 경우에는 특허를 통한 시장성확보가 큰 것으로

단할 수 있으므로 이를 시장확보력 지수로 사용할 수 있을 것이다.


본 사례는 “NT분야 특허분석 보고서”의 내용 가운데 미국특허를 상으로 '00년부터

2003년까지 4년간의 패 리특허의 증가량을 통해 시장확보력을 살펴본 결과, 한국은

10%에서 18%로 성장하는 추세를 나타냈다. 호주와 네덜란드, 벨기에 등의 국가는 상 구간에서 시장확보율이 큰 폭의 상승세

를 보 으나, 국의 경우에는 상 으로 시장확보력이 떨어지는 것으로 나타났다.


180

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), NT특허분석보고서.

그림 3-26. 구간별 세계 시장확보 수 증가 추이


181

특허의 생존 및 유지기간3


등록된 특허를 상으로 특허권이 특정일까지 유지되는 비율을 특허생존률이라 하

며, 특허의 출원일부터 권리의 소멸일까지의 기간을 특허유지기간이라 표 한다.


일반 으로 등록된 특허의 권리를 유지하기 해서는 특허등록료를 납부하여야 하는

데 상기 등록료는 연차가 늘어날수록 액이 크게 증가하게 된다(3년 단 로 2배 이상

이 증가). 그러므로 특허의 생존률이 높거나 유지기간이 긴 특허가 많다는 것은 경제

인 면에서 이익이 높다는 것을 의미한다.


본 사례는“한국의 특허동향 2004”에서 발췌한 것으로, '90~'96년 동안 출원되어

2003년까지 등록된 특허 특허생존률과 등록유지기간을 살펴 본 것으로 특허생존률

은 외국인이 내국인보다 약 15% 이상 높으며, 특허유지기간은 외국인이 내국인보다

0.4~1.1년이 더 긴 것으로 조사되었다.

출처 : 특허청, 한국특허정보원 (2004), 한국의 특허동향 2004 – 국가별ㆍ기술별.

그림 3-27. 내외국인 등록특허의 생존율 특허수명


182

ThemeScape를 활용한 특허 맵4


MicroPatent사에서는 특허정보를 분석하기 한 Tool을 개발하여 기술별로 단어간의

유사성 분석을 토 로 특허정보 군집분석과 검색 략의 보정 포트폴리오 분석, 라

이센싱 략 수립 등에 유용하게 사용되고 있다.


복잡한 특허정보와 비특허 기술정보를 통합하여 연구 는 기술 분야를 한 에 쉽게

악할 수 있도록 등고선의 지도 형태로 시각 으로 표 하여 통합 인 개념은 물론

상호 계를 분석할 수 있다.본“고도등고선”이미지에서 고도는 문헌의 고 도 범 를 의미하며, 선의 근 성은

련성 있는 문헌을 나타내므로 시각 으로 분석이 가능하다.


본 용사례는 휴 용 물건의 무단이동 는 도난방지 기술에 한 특허들을 분석한

것으로 주제어는 빨간색으로 표 하여 살펴보았으며 그 결과, 체 으로 고르게 분포

되어 있어 이 기술들은 이미 부분 으로 개발되어 있는 분야로 단되며, 특히 RFID와

EAS Tag에 련된 기술이 부각되어 있는 것으로 조사되었다.한, 소화기 리 분야와 컴퓨터보안 분야, RFID, Magnetic 분야에 특허가 많이 분

포되어 있어 이 분야는 비즈니스의 심분야로 단된다.


183

출처 : 현재호 (2005), 기술사업화와 특허분석, 제5차 과학기술자를 위한 특허정보 활용전략 세미나, 2005. 3. 30, 대전, 기계연구원

그림 3-28. 휴 용 물건의 무단 이동 는 도난방지 특허분석 결과

제1절 기술로드맵을 위한 특허분석 사례

제2절 특허정보를 이용한 기술동향 분석사례

특허분석 적용사례 및 특성제4장


187


최근 연구개발의 방향설정을 한 도구의 하나로서 다양한 기술로드맵이 국내외에서

작성되고 있다. 따라서 기술로드맵의 작성방법과 활용에 한 연구개발자 정책수립

자들의 심 한 커지고 있으며, 국내에서도 국가연구개발 정책 수립 과정에서 기술

로드맵을 작성하고 활용하려는 많은 시도가 이루어지고 있다. 그러나 기술로드맵을 포

함한 다양한 로드맵의 유형과 역사, 작성 목 등에 해서는 국내외에서 많은 연구결

과들이 나오고 있지만, 정작 로드맵을 작성하기 해 사용되어질 수 있는 다양한 분석

도구들에 한 정보는 턱없이 부족한 실정이다. 이러한 상황은 로드맵을 기획하고 실

제 작성하는 계자들이 로드맵 작성과정에서 많은 어려움을 겪고 있는 주요한 원인이

라 할 수 있다. 특히 기술로드맵을 작성하기 해서는 시장환경과 기술개발 동향 등

다양하고 정확한 정보를 확보하는 것이 최우선 과제라 할 수 있다.특허정보는 가장 쉽게 근할 수 있고, 기술개발의 동향을 가장 객 으로 측정할

수 있는 정보로 평가받고 있다. 특허정보를 통해 연구개발자와 정책수립자는 기술개발

의 추이와 실제 개발되고 있는 기술의 내용은 물론, 향후 시장 진입시 발생될 수 있는

법 , 제도 장벽에 한 정보를 얻을 수 있다.이러한 특허정보의 유용성에도 불구하고 재 국내외에서 작성되는 기술로드맵에서

특허분석이 분석도구 하나로서 활용되는 사례는 많이 찾아볼 수 없는 상황이다. 이

러한 상은 앞서 언 한 바와 같이 특허분석을 포함하여 로드맵에 용될 수 있는 다

양한 분석도구들에 한 연구가 미흡하고, 이러한 결과로서 기술로드맵이 그 작성에

참여하는 계자들의 주 인 견해에 크게 의존하고 있는 실을 반 하는 것이라고

도 볼 수 있다.본 보고서는 이러한 문제인식으로부터 출발하여 특허정보의 유용성에 한 인식을

제고하고, 기술로드맵 작성을 한 특허분석 방법론 수립의 첫 발을 내딛는 것에 그

목표를 두고 있다. 이러한 목표를 성공 으로 달성하기 해서는 지 까지 작성된 기

술로드맵에 특허분석이 용된 사례들을 발굴하고, 그 용방법과 특성들을 살펴보는

것이 우선이라 할 수 있을 것이다. 그러나 앞서 언 한 바와 같이 기술로드맵에 특허

분석이 주요한 분석도구로 사용된 사례는 국내외에서 많이 찾아볼 수 없는 실정이다. 그러나 최근 산업자원부 등에서 작성되고 있는 기술로드맵에 특허분석이 주요한 분석

도구로 활용되고 있는 것은 고무 인 상이라 할 수 있다. 본 에서는 산업자원부와

한국산업기술재단에서 작성한 「부품소재로드맵」과 「국제산업기술 력지도」에 한

사례 분석을 통해 기술로드맵을 한 특허분석 모델 수립의 첫 단계를 거치고자 한다.

제4장 특허분석 적용사례 및 특성

188

부품소재로드맵(산업자원부)1

1.1 개요

산업자원부의 부품소재로드맵은 과거 부품소재 분야에 한 정부의 기술개발 지원사

업이 Bottom-up 방식으로 추진됨에 따라 발생될 수 있는 문제 에 한 인식으로부터

도입되었다. 2002년부터 작성되기 시작한 부품소재로드맵은 2004년까지 총 12개 산업

115개 완제품에 한 로드맵이 작성되었으며, 2005년에는 총 7개 분과, 22개 완제품

90개 단 부품에 한 로드맵이 작성되었다. 이하에서는 2005년에 작성된 부품소

재로드맵의 특허분석을 심으로 분석목표와 분석방법론 등을 살펴보기로 한다.

1.2 분석목표 및 활용방안

2005년에 작성된 부품소재로드맵의 특허분석 목표는 기술의 수 악 향후

기술개발 목표의 달성 가능성과 효율성을 타진하는 것이었으며, 분석결과는 기술개발

목표 수립에 활용되는 것으로 명시하고 있다. 동시에 분석방법으로는 기술수 분석결

과와 특허정보를 융합하여 수치화된 분석결과를 도출함으로써 분석내용의 이해와 근

용이성을 확보하고자 하 다. 분석방법에 해서는 다음 부분에서 구체 으로 살펴보

기로 한다.

분석목표

활용방안ᆞ

향후목표

분석내용

• 현재 특허기술 수준을 파악• 국내 연구진의 기술개발 목표와 비교→ 개발 가능성 및 효율성을 타진

분석방법

• 기술수준 분석치에 개별 특허의 가중치를 부여하는 방법을 적용

→ 수치화를 통한 분석

• 기술개발 목표 수립에 활용

• 수치화된 분석을 통해 분석내용의 이해와 접근이 용이

• 특허 가중치의 표준화 작업을 통한수치 정보의 정당성 확보 필요

분석목표

활용방안ᆞ

향후목표

분석내용

• 현재 특허기술 수준을 파악• 국내 연구진의 기술개발 목표와 비교→ 개발 가능성 및 효율성을 타진

분석방법

• 기술수준 분석치에 개별 특허의 가중치를 부여하는 방법을 적용

→ 수치화를 통한 분석

• 기술개발 목표 수립에 활용

• 수치화된 분석을 통해 분석내용의 이해와 접근이 용이

• 특허 가중치의 표준화 작업을 통한수치 정보의 정당성 확보 필요

그림 4-1. 부품소재로드맵 특허분석의 목표 활용방안


189

1.3 분석절차

2005년 부품소재로드맵을 한 특허분석은 분과별 문 원단과 사업 주 기 인

한국산업기술재단 특허분석 문업체인 (주)윕스 간의 력을 통해 진행되었다. 로

드맵 작성 상은 분과별 문 원들에 의하여 7개 분과의 22개 완제품 90개 단

부품으로 선정되었으며, 문 원들과의 의를 거쳐 선정된 키워드 등을 이용하여 분

석 상 특허들을 추출한 후, 문 원들에 의해 각각의 특허들에 한 기술 험도가

측정되었다. 이 게 확정된 기술 험도에 해 특허분석 문업체에서는 각각의 특허

에 한 서지정보를 이용하여 가 치를 추가 으로 부여함으로써 특허 험도를 산출하

고, 이들을 이용한 분석결과를 도출하 다.

전문위원 구성ᆞ

부품소재 확정

• 분과별 전문위원 구성

• 분석대상 부품소재 확정(전문위원)

• 7개 분과, 22개 완제품, 90개 단위부품 기술 선정

분석방법 제시ᆞ

원문제공

특허기술분석(전문위원)

보고서 작성

• 지수계산법을 사용(WIPS 자체 고안)

• 향후 지수계산법에 대한 표준화 작업이 필요

• 분석대상 선정 전에 전문위원과의 협의를 통해 키워드확정

• 검색, 노이즈 제거, 분석대상 확정 후 대상 원문을 전문위원에게 제공

• 분석대상 원문 분석(전문위원)

• 2009년 목표 성능 spec을기준으로 분석 대상 특허의수준을 분석

• 전문위원이 분석한 기술위험도와 특허정보를 이용하여 특허위험 지수를 적용

• 기술 및 특허위험도에 대한보고서 작성

전문위원 구성ᆞ

부품소재 확정

• 분과별 전문위원 구성

• 분석대상 부품소재 확정(전문위원)

• 7개 분과, 22개 완제품, 90개 단위부품 기술 선정

분석방법 제시ᆞ

원문제공

특허기술분석(전문위원)

보고서 작성

• 지수계산법을 사용(WIPS 자체 고안)

• 향후 지수계산법에 대한 표준화 작업이 필요

• 분석대상 선정 전에 전문위원과의 협의를 통해 키워드확정

• 검색, 노이즈 제거, 분석대상 확정 후 대상 원문을 전문위원에게 제공

• 분석대상 원문 분석(전문위원)

• 2009년 목표 성능 spec을기준으로 분석 대상 특허의수준을 분석

• 전문위원이 분석한 기술위험도와 특허정보를 이용하여 특허위험 지수를 적용

• 기술 및 특허위험도에 대한보고서 작성

그림 4-2. 부품소재로드맵 특허분석의 차

1.4 분석지표

2005년 부품소재로드맵 특허분석의 가장 큰 특징은 개별 특허들에 한 기술 측

면의 가치평가(valuation) 근을 시도하 다는 것이다. 이러한 특징은 분석을 해

사용한 지표들의 구성으로부터도 명확하게 드러난다. [그림 4-3]에서 볼 수 있는 바

와 같이 본 분석사례에서 사용된 분석지표는 크게 기술지표와 특허지표로 나 어지며, 기술 험도와 특허 험도라는 2개의 지표가 심 인 지표로 사용되었다. 기술 험도

는 분야별 문가들의 리뷰를 통해 산출되었으며, 여기에 패 리 특허 지수, 삼극특허

지수, 권리잔존기간 지수 등록특허 지수라는 특허와 련된 지표를 추가 으로 융

합시켜 특허 험도라는 지표를 개발, 사용하 다84).84) 선으로 표시된 기술 험 평가도와 특허 험 평가도는 기술 험도와 특허 험도를 비교 평가하기 한

기 값( 값)으로서 특허 험도의 산출과는 무 하며, 지표로서의 의미를 가지는 것은 아님에 주의해

야 한다.


190

특허지표

기술지표

패밀리특허 지수(FPI)

삼극특허 지수(TPI)

권리잔존기간 지수(PTI)

등록특허 지수(RPI)

기술위험 지수(TRI)

기술위험 평가도(TRL)

• 목표성능과 개별 특허기술을 비교하여 진보된 기술에 5점 부여(2배 보정 후 1~10)

• 기술위험 지수의 평가 기준으로 기술위험지수의 중간값인 3(2배 보정 후 6)

• 패밀리 특허 수에 따라 0.5~1.5점을 부여(문턱효과를 고려)

• 일본과 미국에 출원한 경우 1.2, 유럽까지출원된 경우 1.5점 부여(기타 1.0점 부여)

• 권리잔존기간에 따라 0.5~1.5점 부여

• 공개특허는 1.0점, 등록특허는 1.5점 부여

특허위험 평가도(PRL)

• 기술위험 지수의 중간값인 기술위험 평가도와 특허 지수들의 중간값(RPI는 예외)을 이용하여 특허위험도의 평가 기준을 산출(7.8)

특허위험도(PRI)

PRI=TRI*FPI*TPI*PTI*RPI

특허지표

기술지표





















• 권리잔존기간에 따라 0.5~1.5점 부여• 권리잔존기간에 따라 0.5~1.5점 부여

• 공개특허는 1.0점, 등록특허는 1.5점 부여• 공개특허는 1.0점, 등록특허는 1.5점 부여





특허위험도(PRI)

PRI=TRI*FPI*TPI*PTI*RPI

그림 4-3. 부품소재로드맵 특허분석을 한 분석지표의 구성

이 지수들을 산출한 방식을 구체 으로 살펴보면, 개발목표 성능을 기 으로 개별

특허들의 성능을 해당 문가 그룹에서 비 평가하여 각각의 특허들에 한 기술 험

도를 수치화한 후, 정량 인 특허지표들을 이와 결합함으로써 특허 험도라는 수치화

된 지수를 도출하 다.

개발목표 성능

• 용융지수• 굴곡탄성률• IZOD 충격강도• 인장강도

성능대비(전문가 Review)

특허기술의 성능


기술위험도(성능별로 산출→평균)

정량적 특허지표

• 패밀리• 삼극패밀리• 권리잔존기간• 등록여부

특허위험도(성능별로 산출→평균)

※ 성능지표는 화학소재분과, 친환경 자동차용 초경량 화학소재 중 내외장용 고유동 플라스틱 박육소재의성능지표 사례

개발목표 성능









개발목표 성능









※ 성능지표는 화학소재분과, 친환경 자동차용 초경량 화학소재 중 내외장용 고유동 플라스틱 박육소재의성능지표 사례

그림 4-4. 부품소재로드맵 특허분석을 한 분석지표 산출방법


191

상기에서 살펴본 분석지표의 구성과 산출방식을 고려해 볼 때, 본 사례의 분석지표

는 크게 2가지의 특징을 가지고 있다. 첫 번째로는 기술 험도와 특허 험도라는 2가

지 지표 모두 문가의 리뷰를 통한 평가결과가 내포되어 있어, 정성분석 인 성격을

지니고 있다는 것이며, 두 번째로는 개발목표 성능과 개별 특허들에 기재되어 있는 성

능수 을 기 으로 기술성을 평가하 다는 이다.

1.5 분석방법

본 분석사례에서는 개별 분과 내의 완제품별 평균 기술 험도와 특허 험도를 표로

써 비교하고, 개별 완제품 수 에서는 단 부품별 평균 특허 험도와 기술 험도를 매

트릭스 분석으로 시각화하여 [그림 4-5]의 형태로 분석결과를 제시하고 있다.

기술위험도 vs. 특허위험도 매트릭스 분석

소재A

소재B

소재C

기술위험도

특허위험도

기술위험도 vs. 특허위험도 매트릭스 분석기술위험도 vs. 특허위험도 매트릭스 분석

소재A

소재B

소재C

기술위험도

특허위험도

소재A

소재B

소재C

기술위험도

특허위험도

그림 4-5. 개별 완제품 수 내에서의 매트릭스 분석도구

하 분석단 인 단 부품소재 분야 내에서는 [그림 4-6]에서 볼 수 있는 바와 같

이 해당 분야에 속하는 개별 특허들에 한 기술 험도와 특허 험도를 성능지표별로

비교하고, 해당 분야의 상 출원인에 한 출원 황을 그래 로서 제시하 으며, 성

능지표에 한 일종의 이더 맵을 사용하여 성능지표 간의 기술 험도와 특허 험도


192

를 비교 평가할 수 있도록 하 다.한, 단 부품소재 수 의 분석에서도 개별 완제품 수 의 분석에서와 마찬가지로

특허 험도와 기술 험도에 한 매트릭스 분석결과를 제시하 으며, 이 분석에서는

개별 특허들을 매트릭스 상에 분포시킴으로써 해당 단 부품소재 분야의 체 인 특

허 험도와 기술 험도의 황을 살펴볼 수 있도록 하 다. 추가 으로 매트릭스 상에

서 특허 험도와 기술 험도가 높은 개별 특허에 해서는 별도의 워크시트를 제공하

여 해당 특허의 기본 서지사항과 청구항 요약을 로드맵 이용자가 사용할 수 있도록

하 다.

개별 특허의 기술위험도 vs. 특허위험도 매트릭스 분석

기술위험도

특허위험도

중요 특허의 Worksheet 분석

서지정보

청구항ㆍ도면

요약

특허별 기술ᆞ특허위험도 산출(성능지표별)

특허위험도기술위험도

.

.

.

.

.

.

상위 출원인 출원현황 성능지표별 분석

개별 특허의 기술위험도 vs. 특허위험도 매트릭스 분석개별 특허의 기술위험도 vs. 특허위험도 매트릭스 분석

기술위험도

특허위험도


서지정보

청구항ㆍ도면

요약


서지정보

청구항ㆍ도면

요약

특허별 기술ᆞ특허위험도 산출(성능지표별)특허별 기술ᆞ특허위험도 산출(성능지표별)

특허위험도기술위험도

.

.

.

.

.

.

상위 출원인 출원현황상위 출원인 출원현황 성능지표별 분석성능지표별 분석

그림 4-6. 개별 부품소재 수 내에서의 분석도구


193

국제산업기술협력지도(산업자원부)2

2.1 개요

산업자원부는 산업기술 R&D 정책수립에 있어서 한정된 자원의 효율 배분 활용

을 한 기술개발 략의 필요성을 인식하고, 2000년 9월부터 요 산업별 기술로드맵

작성을 추진하 다. 2002년까지 작성된 제1, 2단계 산업기술로드맵은 단계별로 6개 분

야씩 총 12개 분야를 상으로 작성되었으며, 2004년에 완료된 제3단계 산업기술로드

맵은 12개 산업분야를 상으로 작성되었다.국제산업기술 력지도 작성사업은 상기의 산업기술로드맵 작성사업의 후속 사업으로

서 산업기술로드맵 작성 상 분야에 한 국제 력 방안을 도출하는 것을 목표로 시

작되었다85). 이후 2004년 5월에 작성이 완료된 차세 성장동력 국제산업기술 력지

도는 10 성장동력 분야 산자부 주 5 분야를 상으로 분석이 이루어졌다. 이

하에서는 이 2004년의 산자부 차세 성장동력 국제산업기술 력지도에 포함된 특허

분석86)에서 사용한 분석방법과 분석항목 등을 살펴보기로 한다.

2.2 분석지표

2004년 산자부 국제산업기술 력지도의 특허분석은 미국특허를 분석 상으로 하

다. 그 이유로는 미국시장이 표 인 로벌 시장으로서의 치를 가지고 있으며, 실

질 인 인용분석이 가능한 특허는 미국특허에 한정되기 때문인 것으로 설명하고 있다.본 분석사례에서는 특허건수와 인용정보를 심으로 한 정량 분석지표들이 사용되

었다. [그림 4-7]은 2004년 국제산업기술 력지도에 사용된 특허분석 지표들을 정리

한 결과이다. 구체 으로는 양 지표로서 단순 특허건수와 특허활동도를 사용하 으

며, 질 지표로서 인용, 피인용 지수를 사용하 고, 지식흐름 분석을 해 인용, 피인

용 정보를 사용하 다. 이러한 지표들을 활용한 구체 인 분석방법에 해서는 다음

부분에서 살펴보기로 한다.

85) 2003년 9월에 발간된 산자부 국제산업기술 력지도는 2001년에 작성이 완료된 1단계 산업기술로드맵의

6개 분야를 상으로 작성되었다.

86) 본 특허분석은 특허분석 문업체인 (주)윕스에서 담당하 다.


194

특허지표(정량지표)

특허건수

특허활동도

인용 지수

피인용 지수

• 기술별, 출원인별, IPC별 단순 특허건수

• Activity Index (현시기술우위 지수로 지칭되는 RTA 지수와 동일한 개념의 지표)

• 특정 기술분야에 대한 출원인의 특허집중도

• 특허 1건당 평균 인용 특허 수(Backward Citations)

• 특허 1건당 평균 피인용 회수(Forward Citations)

지식흐름 분석 지수 • 인용, 피인용 정보를 이용한 지식흐름 분석

공동출원 수 • 2인 이상이 공동으로 출원한 특허 수


특허건수특허건수

특허활동도특허활동도

인용 지수인용 지수

피인용 지수피인용 지수

• 기술별, 출원인별, IPC별 단순 특허건수• 기술별, 출원인별, IPC별 단순 특허건수









지식흐름 분석 지수지식흐름 분석 지수 • 인용, 피인용 정보를 이용한 지식흐름 분석• 인용, 피인용 정보를 이용한 지식흐름 분석

공동출원 수공동출원 수 • 2인 이상이 공동으로 출원한 특허 수• 2인 이상이 공동으로 출원한 특허 수

그림 4-7. 국제산업기술 력지도 특허분석을 한 분석지표의 구성

2.3 분석방법

2004년 국제산업기술 력지도는 산자부 주 의 차세 성장동력 5 분야에 해

각각의 하 분야로서 분류와 분류로 세분하여 작성되었다87). 이 과정에서 특허분

석은 각각의 분류 기술분야를 상으로 분석이 이루어졌다.본 사례의 분석틀은 [그림 4-8]에서 확인할 수 있는 바와 같이 크게 네 부분으로

나 어 볼 수 있다. 첫 번째로는 해당 기술분야의 일반 동향, 두 번째로는 주요 다출

원인의 기술경쟁력 분석, 세 번째는 공동출원 동향, 마지막으로는 인용정보를 이용한

지식흐름 분석이다.먼 분류 기술분야에 한 일반 동향 분석은 연도별 특허건수를 기술별로 분석하

여 시계열 인 양 동향을 보여주고 있으며, 기술-출원인별 분석을 통해 개별 기업이

기술별로 특허를 보유하고 있는 황을 분석하 다. 추가 으로 분류의 하 세부

분류별로 해당 분류에 포함되는 특허들의 IPC 분포에 한 분석결과도 제공하고 있다.일반 동향을 통해 개 인 특허 황을 악한 후에는 다출원 기업들에 한 분석을

수행하 다. 기본 으로 특허활동도(AI, Activity Index)를 통해 해당 분류와 세부

87) 를 들어 미래형 자동차 분야는 그 하 분야로 연료 지 자동차, 하이 리드 자동차 지능형 자동

차의 3개 분류로 세분되었으며, 각각의 분류는 다시 3개씩의 분류로 세분되어 분석이 진행되었다.


195

분류에 한 기업별 특허집 도를 평가하 으며, 인용정보를 통해 기업의 연구개발 성

격과 수 을 평가하 다.이외에 주요 기업들의 공동출원 황에 한 분석결과를 제시하고 있으며, 인용 정

보(Backward Citation)와 피인용 정보(Forward Citation)를 사용하여 분석 상 기업을

심으로 하는 지식의 흐름과정에 한 분석결과를 추가 으로 제공하고 있다.

일반 동향

기술-연도별

다출원인 분석

기술-출원인별 기술-IPC별

지식의 흐름

.

.

.

AI

.

.

.

평균

피인용

.

.

.

평균

인용

.

.

.

.

.

.

특허수출원인

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

기술

C

기술

B

기술

A

AI

출원인

공동출원

.

.

.

출원수

.

.

.

공동출원인

.

.

.

공동출원수

.

.

.

.

.

.

특허수출원인

.

.

.

.

.

.

.

.

.

%회수출원인

인용정보

분석대상 .

.

.

.

.

.

.

.

.

%회수출원인

피인용정보

일반 동향

기술-연도별

다출원인 분석

기술-출원인별 기술-IPC별

지식의 흐름

.

.

.

AI

.

.

.

평균

피인용

.

.

.

평균

인용

.

.

.

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.

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특허수출원인

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기술

C

기술

B

기술

A

AI

출원인

공동출원

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출원수

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공동출원인

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공동출원수

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특허수출원인

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%회수출원인

인용정보

분석대상 .

.

.

.

.

.

.

.

.

%회수출원인

피인용정보

그림 4-8. 2004년 국제산업기술 력지도의 특허분석틀


196


과학기술 지표로서 특허정보의 역사는 그리 짧다고는 볼 수 없다. 기술 신 과정을

악하기 해 사용되고 있는 다양한 지표들 특허지표는 오래 부터 과학기술자, 정책수립자 경제학자들의 심의 상이 되어왔으며, 특히 1950년 부터 특허정보

와 련된 많은 연구들이 진행되어 왔다. 이러한 연구활동들은 지 까지도 계속되어

오고 있으며, 최근 들어서는 회귀분석과 상 계 등을 이용한 경제 측면의 분석과

같은 통 인 연구 분야 이외에 데이터마이닝(텍스트마이닝) 기법을 이용한 특허정보

분석방법 등 다각 인 방면으로 연구의 폭이 넓어지고 있다.그러나, 제1 에서 언 한 바와 같이 기술로드맵 작성에 특성화된 특허분석 기법에

한 연구결과나 자료 실제 용사례는 재로서는 많이 찾아볼 수 없는 실정이다. 비록, 앞서 산업자원부와 한국산업기술재단의 「부품소재로드맵」,「국제산업기술 력지

도」와 같은 국내의 기술로드맵 사례를 살펴보았으나, 재로서는 특허분석이 용된 기

단계의 사례들로서, 향후의 특허분석 모델로 직 용하기에는 다소 부족한 들이

있는 것이 사실이다.따라서, 우리는 기술로드맵 이외에 일반 으로 특허정보를 이용하여 기술개발의 동

향이나 국가 는 기업들의 기술경쟁력을 측정한 분석사례들을 살펴볼 필요성이 있다. 다행스럽게도 지 까지 특허정보를 이용한 여러 가지 분석 보고서들이 미국, 일본

유럽의 주요 선진국들에서 작성되어 왔으며, 국내에서도 특허청과 한국특허정보원 등

의 공공섹터뿐만 아니라 여러 특허정보 련 민간업체들에서 다양한 분석 보고서들이

작성되고 있다.이번 에서는 여러 가지 특허분석 보고서들 미국 상무부와 CHI社가 작성한「5

분야의 세계 특허동향(The New Innovators: Global Patenting Trends in Five Sectors)」, 일본 독립행정법인 공업소유권 정보 ․ 연수 에서 발간하는 특허유통지원차트

한국 특허청과 한국특허정보원이 2004년에 작성한 「생명공학 특허동향」의 세 가지

사례를 살펴보도록 하겠다. 물론 이 밖에도 여러 분석사례들이 있으며, 이러한 분석사

례들을 찾아보고자 하는 계자들에게는 본 연구보고서의 본문과 각주에서 언 되고

있는 다양한 보고서들이 도움이 될 수 있을 것이다.


197

5대 분야의 세계 특허동향(미국 상무부)1

1.1 개요

「새로운 신의 주체들: 5 분야의 세계 특허동향」(The New Innovators: Global Patenting Trends in Five Sectors)은 미국 상무부 기술정책국의 의뢰에 의해 미국의

특허 문 분석기 인 CHI社가 1998년에 작성한 기술동향 분석 보고서이다. 본 보고

서의 서문에서는 본 보고서가 경쟁환경이 국제화되는 추세에 발맞춰 미국의 경제 경

쟁력을 확고히 하기 해 과학기술이 차지하는 핵심 역할에 한 이해를 돕고자 작

성된 보고서임을 밝히고 있다.

1.2 분석대상

본 보고서에서는 미국특허 데이터를 사용하여 미국, 유럽연합88) 14개의 개별 국

가들을89) 상으로 분석이 실시되었으며, 분석 상 5 기술분야로는 보건(Health), 소

재(Advanced Materials), 자동차(Automotive), 정보기술(Information Technology) 운송

기술(Express Package Transportation and Logistics, EPTL) 분야가 선정되었다.

1.3 분석지표

본 분석에서는 CHI社가 주로 사용하는 정량 지표들이 사용되었다. 정성 분석방

법은 사용되지 않았으며, 통계 처리에 의한 정량분석을 통해 국가별 연구개발 동향

을 악하 다.구체 으로는 특허건수를 이용한 양 지표로서 단순 특허건수와 특허활동도가 사용

되었으며, 인용 데이터를 이용한 지수로는 과거 5년간의 신성과가 재 시 에 미치

는 평균 향력을 평가하는 재 향 지수(CII), 재 향 지수에 신활동의 양 측

면까지 고려한 기술력 지수(TS), 기 과학과의 연계도를 악하기 한 비특허인용

88) 본 보고서의 작성 당시 15개 EU 회원 국가는 오스트리아, 벨기에, 덴마크, 핀란드, 랑스, 독일, 그리스,

아일랜드, 이탈리아, 룩셈부르크, 네덜란드, 포르투갈, 스페인, 스웨덴, 국이었다.

89) 14개 분석 상 개별국가에는 일본, 독일, 국, 만, 호주, 한국, 이스라엘, 홍콩, 아일랜드, 라질,

국, 싱가포르, 인도 말 이시아가 포함되었다.


198

지수(NPR) 기술발 의 속도를 측정하기 한 기술순환주기 지수(TCT)의 4가지

인용지표가 사용되었다90).


특허건수(Patenting Activity)

특허활동도(AI)



• 기술별, 국가별 단순 특허건수



• 과거 5년의 특허가 현재 연도에 인용된 빈도의 상대적인 값

• CII에 당해 연도의 특허건수를 곱한 값

비특허인용 지수(NPR)

• 특허 1건당 평균 인용 비특허문헌 수(Backward Citations)


• 인용특허들의 발행연도를 사용하여 기술의발전속도를 측정




특허활동도(AI)

특허활동도(AI)





• 기술별, 국가별 단순 특허건수• 기술별, 국가별 단순 특허건수







• CII에 당해 연도의 특허건수를 곱한 값• CII에 당해 연도의 특허건수를 곱한 값









그림 4-9. 「5 분야 세계 특허동향」보고서의 분석지표 구성

1.4 분석방법

본 보고서에서 사용한 체 인 분석틀은 [그림 4-10]에서 볼 수 있는 바와 같다. 분석은 크게 3가지의 내용을 살펴보는 방식으로 진행되었으며, 그 구체 인 내용과 분

석 의미는 다음과 같다.특허활동 동향(Patenting Activity Trends)특허정보는 신활동의 모든 면을 보여주는 지표는 아니다. 그럼에도 불구

하고 특허정보는 다른 어떤 지표보다도 기술 신 활동의 성과를 객 이고

정량 으로 보여주는 매우 유용한 정보로 평가받고 있다. 특허건수는 가장

90) 각각의 지표들에 한 구체 인 해설은 「제2장 특허정보의 정량 분석지표」 부분을 참고할 것. 다

만, 특허활동도(AI)는 시기술우 (RTA) 지수와 동일한 개념의 지수이므로 RTA 지수 부분을 참고하

기 바라며, 비특허인용 지수는 과학연계(SL) 지수와 유사한 개념의 지수로서, 해당 부분에서 NPR 지수

도 함께 언 되고 있으므로 SL 지수 부분을 참고할 것.


199

단순한 형태의 특허지표로서 특정한 주체의 연구개발 활동의 황과 역량을

살펴보기 해 손쉽게 사용할 수 있는 분석도구를 제공한다. 한 특허활동

도 지수는 특정한 주체가 어떠한 기술분야에 기술 신 활동을 집 하는가에

한 유용한 정보를 제공한다.향력과 기술력(Impact and Technological Strength)

특허건수만을 이용한 분석지표는 신활동의 양 측면만을 보여주며, 연구

개발 성과의 기술 요성이나 질 수 에 한 정보를 제공하지 못한다. CII는 과거 5년의 연구개발 성과가 시 에 미치는 평균 인 기술 향

력에 한 정보를 제공함으로써 이러한 문제 을 보완해 다. 한 TS 지수

는 평균 인 기술 향력에 연구개발 활동의 양 측면까지 함께 고려된 종

합 인 기술경쟁력에 한 정보를 제공한다. 결국 CII와 TS 분석을 함께 진

행함으로써 기술의 요성과 연구개발 활동의 규모에 한 정보를 동시에

살펴볼 수 있는 다각 인 분석결과를 제공받을 수 있게 된다.기술 치(Technology Position)특정 국가의 기술 경쟁력이 국제 으로 어떠한 치에 놓여 있는가는 다양

한 과 도구에 의해 분석될 수 있다. 본 보고서에서는 기 과학과의 연

계성과 기술 신의 속도라는 두 가지 시각에서 개별 국가들의 기술 치를

평가하 다. 먼 TCT 지수는 인용특허의 발간연도 정보를 이용하여 기술

발 의 속도를 측정하는 지수로서, 특정 주체나 기술분야의 기술 신 속도

에 한 정보를 제공한다. 한 NPR 지수는 인용문헌 비특허문헌의 개

수를 이용하여 특정 주체나 기술분야의 연구개발이 기 과학 는 선도기술

과 어느 정도로 연계되어 있는가에 한 정보를 제공한다. 본 보고서에서는

이 두 가지 지수를 조합하여 개별 국가들의 특정 기술분야에서의 연구개발

활동 속도와 성격의 변화과정을 살펴 으로써, 해당 국가들의 기술 치

를 평가하 다.


200

특허활동 동향(Patenting Activity Trends)

영향력과 기술력(Impact & Technological Strength)

기술 위치(Technology Position)

특허건수

- 단순 특허건수로서 연구개발 활동의 양적측면을 대략적으로 파악

특허활동도(Activity Index)

- 해당 분야에 대한 특허 활동의 상대적 집중도를 파악

- 상대적 집중도와 함께 절대적 집중도에 대한 정보를 제공하기 위해 국가별 기술점유율 분석결과를 함께 제공

분야별

분야 A

분야 B

국가별

국가 A

국가 B

분야-국가별

분야 A

분야 B

점유율

국가 A 국가 B

특허활동도


- Current Impact Index- 과거 5년의 연구개발 성과가 현재 시점에

미치는 평균적인 기술 영향력

분야 A 분야 B

분야-국가별

분야 A 분야 B 분야 C


- Technology Strength. CII에 특허건수를곱한 값

- 과거 5년의 연구개발 성과가 현재 시점에미치는 평균적인 기술 영향력과 연구개발성과의 양적 측면을 모두 고려하여 산출한기술경쟁력 지표

분야-국가별



- Non-Patent Reference, 비특허 인용문헌의 평균 개수

- 기초과학과의 연계도를 측정하는 지수

NPR-TCT



- Technology Cycle Time- 기술의 발전속도를 측정하는 지수

TCT

NPR

국가 A 국가 B

TCT

NPR

국가 A 국가 B

TCT

NPR

국가 A 국가 B

특허활동 동향(Patenting Activity Trends)

영향력과 기술력(Impact & Technological Strength)

기술 위치(Technology Position)

특허건수

- 단순 특허건수로서 연구개발 활동의 양적측면을 대략적으로 파악

특허활동도(Activity Index)

- 해당 분야에 대한 특허 활동의 상대적 집중도를 파악

- 상대적 집중도와 함께 절대적 집중도에 대한 정보를 제공하기 위해 국가별 기술점유율 분석결과를 함께 제공

분야별

분야 A

분야 B

국가별

국가 A

국가 B

분야-국가별

분야 A

분야 B

점유율

국가 A 국가 B

특허활동도


- Current Impact Index- 과거 5년의 연구개발 성과가 현재 시점에

미치는 평균적인 기술 영향력

분야 A 분야 B

분야-국가별



- Technology Strength. CII에 특허건수를곱한 값

- 과거 5년의 연구개발 성과가 현재 시점에미치는 평균적인 기술 영향력과 연구개발성과의 양적 측면을 모두 고려하여 산출한기술경쟁력 지표

분야-국가별



- Non-Patent Reference, 비특허 인용문헌의 평균 개수

- 기초과학과의 연계도를 측정하는 지수

NPR-TCT



- Technology Cycle Time- 기술의 발전속도를 측정하는 지수

TCT

NPR

국가 A 국가 B

TCT

NPR

국가 A 국가 B

TCT

NPR

국가 A 국가 B

그림 4-10. 「5 분야 세계 특허동향」보고서의 특허분석틀


201

특허유통지원차트(일본 공업소유권 정보 ․ 연수관)2

2.1 개요

일본의 독립행정법인 공업소유권 정보 ․ 연수 에서는 과거 일본 특허청에서 주 하여

작성되어 온 기술분야별 특허맵91) 작성사업의 후속 사업으로서 특허정보를 활용하여

작성된 기술 동향 분석보고서인「특허유통지원차트」를 2001년부터 매년 발행하고 있

다. 특허유통지원차트는 기술 테마별로 과거 10년 동안의 특허정보를 분석하고 기술의

성숙도 기술 개발 과제에 한 해결 수단의 동향 등을 알기 쉽게 해설한 것으로서, 연구개발의 방향성 설정, 다른 업종 분야로의 진출이나 새로운 사업 개의 검토

해당 기술 분야의 원천기술이나 특허를 보유하고 있는 기업을 발굴하는데 활용되는 것

을 목 으로 작성되고 있다.

2.2 분석대상

본 보고서에서는 일본특허 데이터를 사용하여 일본의 주요기업들을 상으로 분석이

이루어지고 있으며, 기계, 기, 화학 일반 분야의 4개 기술 분야에 한 다양한 세

부기술들이 선정되어 분석이 실시되고 있다.

2.3 분석지표

본 분석에서는 기술 테마별로 일본특허청의 데이터베이스에 있는 특허 자도서

(IPDL)을 사용하여 출원인 수와 출원건수 등의 정량분석은 물론, 명세서의 내용을 비

교분석하여 기술요소의 과제와 해결수단을 분석하는 정성분석도 이루어지고 있다.구체 으로는 출원인 수와 출원건수를 통한 기술성숙도 분석, 특허 인용정보를 활용

한 인용, 피인용 상 계 분석 주요 출원인의 출원동향과 주요 기업에서 보유하고

있는 특허 리스트를 제공하고 있다. 한편, 각 특허를 기술 인 요소와 과제로 구분하

고, 이에 응되는 해결 수단에 한 정보를 제공함으로써, 기업에서 기술도입 매입

에 필요한 정보를 제공하는 가이드 역할도 수행하고 있다.

91) 일반 으로 특허정보를 분석하고 그 동향 등을 시각화 한 것을 특허 맵이라 한다.


202

특허분석(정성분석)

기술요소 과제와해결수단 리스트

• 기술별로 기술요소의 구체적인 내용을 기재한 후, 이에 대한 문제점을 해결하기 위한방안을 제시

• 기술별로 주요 기업(20개사 정도)의 기술 요소 과제별 보유 특허리스트 게재

특허분석(정량분석)

특허건수

기술성숙도

• 과거 10년 정도의 출원건수 추이• 출원인 및 기술요소의 출원동향

• 출원건수와 출원인 수의 상관관계를 통한기술 분야의분산과 집중도 및 경쟁력 정도를 평가

주요기업의기술발전거점

• 주요기업의 기술발전거점 소개

특허분석(정성분석)

기술요소 과제와해결수단 리스트기술요소 과제와해결수단 리스트





특허분석(정량분석)

특허건수특허건수

기술성숙도기술성숙도

• 과거 10년 정도의 출원건수 추이• 출원인 및 기술요소의 출원동향• 과거 10년 정도의 출원건수 추이• 출원인 및 기술요소의 출원동향



주요기업의기술발전거점주요기업의

기술발전거점• 주요기업의 기술발전거점 소개• 주요기업의 기술발전거점 소개

그림 4-11. 「특허유통지원차트」보고서의 분석지표 구성

2.4 분석방법

본 보고서의 분석틀은 크게 두 가지로 나 어 살펴볼 수 있다. 하나는 출원건수와

출원인 수를 이용한 기술성숙도 분석과 주요 출원인 리스트 주요 특허 리스트 등으

로 구성되는 정량 분석부분이며, 다른 하나는 기술요소들에 한 개발과제 해결

수단을 분석한 결과를 제공하는 정성 분석부분이다. 본 보고서에서 사용한 체 인

분석틀에 한 보다 세부 인 내용은 [표 4-1]과 [그림 4-12]에서 살펴볼 수 있다.

구 성 주요 내용

체 요약 주요 구성기술, 기술의 동향, 기술요소와 과제의 분포, 기술개발의 거

분포, 주요 기업의 황 등을 소개

기술의 개요 테마기술의 이해를 돕기 해 필요한 일반 인 기술 개요 소개

기술에서의 특허정보로의 엑세스

테마기술에 하여 특허청의 데이터베이스에 있는 특허 자도서

(IPDL)을 사용해 검색한 특허분류(IPC, FI, F-term)에 따른 검색식

소개, 테마기술 내용 이외에 련성 있는 특허분류 소개

기술개발활동상황 테마기술에 하여 과거 10년 정도의 출원건수 추이와 주요 출원인

의 출원동향, 기술요소의 출원동향 소개

기술발 과제 해결수단 테마기술에 하여 기술요소 과제와 해결수단 리스트 게재

주요 기업 등의 특허활동 테마기술에 하여 주요 기업(20개사 정도)의 기술요소 과제별 보유

특허 리스트 게재

주요 기업의 기술발 거 기술도입 매입에 앞서 정보에 참고가 되도록 주요 기업의 기술발

거 소개

표 4-1. 「특허유통지원차트」보고서 구성 주요내용


203

일반 동향

기술별 출원점유율

기술 성숙도

기술과제 분석 및 해결수단

.

.

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.

.

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.

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.

.

.

C기술B기술A기술

기술요소출원인

기술-연도별

출원건수-출원인수

• 단순 특허건수로서 기업의 특허활동의 양적인 측면을 파악할 수 있다.

• 테마 기술별로 출원건수와 출원인수를 이용하여 기술의 성장단계를 평가한다.

• 테마 기술에 대하여 주요 기업의 기술요소과제별 보유 특허와 해결수단 리스트를 제공하고, 기업의 기술도입 및 매입 시 유용한 정보로 활용될 수 있는 주요 기업의 기술발전거점을 소개한다.

일반 동향

기술별 출원점유율

기술 성숙도

기술과제 분석 및 해결수단

.

.

.

.

.

.

.

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.



.

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.

.

.

.

.

.

.

.



기술-연도별

출원건수-출원인수

• 단순 특허건수로서 기업의 특허활동의 양적인 측면을 파악할 수 있다.

• 테마 기술별로 출원건수와 출원인수를 이용하여 기술의 성장단계를 평가한다.

• 테마 기술에 대하여 주요 기업의 기술요소과제별 보유 특허와 해결수단 리스트를 제공하고, 기업의 기술도입 및 매입 시 유용한 정보로 활용될 수 있는 주요 기업의 기술발전거점을 소개한다.

그림 4-12. 「특허유통지원차트」보고서의 특허분석틀


204

생명공학 특허동향(한국 특허청)3

3.1 개요

2004년에 발간된 「생명공학 특허동향」은 제13회 국가과학기술 원회에서 의결된

「BT분야 국가연구개발 심층평가」에 활용하기 하여 국과 의 요청에 따라 특허청이

추진한 시범사업으로 시작되었다92). 본 사업의 분석결과는 상기 국과 의 심층평가 보

고서에 반 되었으며, 특허청과 한국특허정보원은 추가 인 심층 분석결과를 포함한

최종 보고서를 2004년 8월에 발간하 다.

3.2 분석목적

본 분석사업의 목 은 크게 두 가지로 설명되고 있다. 첫 번째로는 문가 의견조사

(Peer Review)와 같은 주 인 방식으로 진행되는 기존의 기술개발 동향 악방법을

탈피하여 표 화되고 객 인 특허정보를 통해 생명공학 분야의 국내외 기술개발 동

향과 기술수 을 악하는 것이며, 두 번째로는 한국과 미국 정부의 생명공학 분야에

한 R&D 지원 성과를 악하여, 향후 국가연구개발사업의 략수립을 한 기 자료

를 제공하는 것을 목 으로 하고 있다.

3.3 분석대상

본 분석 보고서는 한국과 미국특허를 분석 상으로 하 다. 한 한국정부와 미국

연방정부의 생명공학분야 R&D 지원 성과를 비교평가하기 하여 양국의 정부 지원에

의해 산출된 특허 데이터에 한 별도의 분석을 진행하 다.한국정부의 지원에 의하여 발생된 특허출원은 국가연구개발사업의 성과로 신고된 생

명공학분야 특허 데이터를93) 분석 상으로 하 으며, 미국 연방정부의 지원으로 발생

된 미국특허는 미국특허공보 상에 정부지원 사항(Government Interest94))이 기재된

특허를 상으로 하 다. 분석 상의 체 인 윤곽은 [그림 4-13]에 나타나 있다95).92) 본 분석사업의 특허분석 보고서 작성은 한국특허정보원에서 담당하 다.

93) 국가연구개발사업의 성과로 신고된 특허목록은 한국과학기술기획평가원(KISTEP)으로부터 제공받은 데

이터가 사용되었다.

94) G.I., Government Interest 제도는 미국 연방정부의 자 을 일부 는 부 지원받는 연구기 이 해당

연구개발 성과를 특허출원하는 경우에 정부지원 련 사항에 해 신고하도록 하고, 특허공보에도 그

내용이 명시되도록 하는 제도이다.


205

분석대상 한국특허

미국특허

1985년~2001년 생명공학 분야 한국특허출원 19,087건

국가연구개발사업 성과로 산출된1994년~2001년 생명공학 분야 특허출원 1,193건

한국특허출원

한국정부 R&D 특허출원

한국정부 R&D 특허출원 중 해외출원

1985년~2003년 생명공학 분야 미국특허 77,910건

미국 연방정부의 지원사실이 기재된1985년~2003년 생명공학 분야 미국특허 8,074건

미국특허

미국정부 R&D 지원 특허

분석대상분석대상 한국특허한국특허

미국특허미국특허

1985년~2001년 생명공학 분야 한국특허출원 19,087건

국가연구개발사업 성과로 산출된1994년~2001년 생명공학 분야 특허출원 1,193건

한국특허출원

한국정부 R&D 특허출원

한국정부 R&D 특허출원 중 해외출원

1985년~2003년 생명공학 분야 미국특허 77,910건

미국 연방정부의 지원사실이 기재된1985년~2003년 생명공학 분야 미국특허 8,074건

미국특허

미국정부 R&D 지원 특허

그림 4-13. 「생명공학 특허동향(2004)」보고서의 분석 상

3.4 분석지표

본 보고서에서는 [그림 4-14]에서 볼 수 있는 바와 같이 일반 으로 많이 사용되고

있는 다양한 정량 특허지표들이 사용되었다. 양 인 지표로서는 특허건수와 특허활

동도 지수가 사용되었으며, 기술 수 의 측정을 한 지표로서는 다양한 인용지표들96)과 평균 청구항 수, 패 리 규모97) 등이 사용되었다. 한 력 계와 지식흐름 분석

을 해서 공동출원 수, 공동발명 수, 샐턴 지수, 인력유입률 인력유출률 등의 지표

가 사용되었다98).

95) 한국정부 지원에 의해 발생된 특허출원은 국내출원 외에 해외출원도 포함되었으나, 미국정부 R&D 특

허와의 비교 평가시에는 분석의 공평성을 고려하여 국내출원만을 비교 상으로 하 다.

96) 일반 으로 기술력 지수는 재 향 지수(CII)에 특허건수를 곱한 TS(Technology Strength) 지수를 의미

하나, 본 분석 보고서에서는 재 향 지수(CII)를 기술력 지수로 표 하고 있음에 주의해야 한다. 한

피인용 지수(CPP)는 인용도 지수로 표 하고 있다.

97) 본 분석 보고서에서는 패 리 규모를 상 인 값으로 환시켜 시장확보 지수라는 명칭으로 패 리

규모에 한 분석을 수행하 다.

98) 이 밖에도 심사청구율, 심사청구기간, 서열이 제출된 특허의 서열 일 크기, 미생물 기탁 특허건수, 특

허등록률, 특허존속기간, 등록유지기간 등의 다양한 지표를 이용한 분석이 시도되었다.


206

특허건수 • 기술별, 출원인별 단순 특허건수

특허활동도(AI)

• Activity Index(RTA 지수와 동일한 개념의 지표)


평균 청구항 수(AvgClaims)

• 특허 1건당 평균 청구항 수

피인용 지수(CPP)




기술영향 지수(TII)

• 특정 주체의 특허 중 일정 회수(상위 10%) 이상 인용된 특허 비율의

상대적인 값




• 인용특허들의 발행연도를 사용하여 기술의 발전속도를 측정하는 지수


• 특허 1건당 특허 패밀리가 형성되어 있는 평균 국가 수

공동출원ᆞ발명 수• 2인 이상이 공동으로 출원한 특허 수(공동출원 수)

• 2인 이상이 공동으로 발명한 특허 수(공동발명 수)

샐턴 지수(Salton’s Index)

• 양자간 협력관계의 강도를 측정하는 지수

인력유입률ᆞ유출률• 특허의 소유자와 발명자 정보를 이용하여 지식의 흐름을 인력 관점에

서 측정하는 지수


특허건수 • 기술별, 출원인별 단순 특허건수

특허활동도(AI)

• Activity Index(RTA 지수와 동일한 개념의 지표)


평균 청구항 수(AvgClaims)

• 특허 1건당 평균 청구항 수

피인용 지수(CPP)




기술영향 지수(TII)

• 특정 주체의 특허 중 일정 회수(상위 10%) 이상 인용된 특허 비율의

상대적인 값




• 인용특허들의 발행연도를 사용하여 기술의 발전속도를 측정하는 지수


• 특허 1건당 특허 패밀리가 형성되어 있는 평균 국가 수

공동출원ᆞ발명 수• 2인 이상이 공동으로 출원한 특허 수(공동출원 수)

• 2인 이상이 공동으로 발명한 특허 수(공동발명 수)

샐턴 지수(Salton’s Index)

• 양자간 협력관계의 강도를 측정하는 지수

인력유입률ᆞ유출률• 특허의 소유자와 발명자 정보를 이용하여 지식의 흐름을 인력 관점에

서 측정하는 지수


그림 4-14. 「생명공학 특허동향(2004)」보고서의 분석지표 구성

3.5 분석방법

2004년의 「생명공학 특허동향」 작성 사업은 사업결과물을 요약서와 본 책자의 두

가지 형태로 발간하 다. 본 책자에서는 한국특허와 미국특허에 해 앞서 살펴본 다

양한 지수들을 사용하여 세부 기술별, 주체별로 분석한 결과들을 제시하고 마지막으로

한국과 미국정부의 R&D 지원 성과에 한 분석결과를 제공하고 있다. 요약서는 이러

한 분석결과들 일부를 발췌하여 한국특허와 미국특허에 한 분석결과를 종합 으

로 고려한 생명공학 분야의 연구개발 동향과 한 ․ 미 양국 정부의 R&D 지원 성과에

한 분석결과를 요약하여 제시하고 있다. 이하에서는 「생명공학 특허동향(요약서)」의

분석틀을 기 으로 본 분석사업에서 사용한 분석방법들을 살펴보기로 한다99).99) 본 책자는 요약서와 다른 목차구성을 가지고 있다. 본 책자의 분석틀에 한 해설은 생략하기로 한다.


207

일반동향, 기술수 , 기술별 동향

본 보고서(요약서)는 가장 먼 한국과 미국의 체 특허와 생명공학 특허

의 건수 유율을 통해 생명공학분야의 체 인 연구개발 동향을 보여

주는 것으로부터 시작된다. 이후 한국의 기술수 을 특허건수와 다양한 인

용지표들을 사용하여 주요 선진국과 비교 평가하고, 세부 기술분야별 분석

을 통해 생명공학 분야에 포함되는 다양한 분야들의 연구개발 동향에 한

정보를 제공한다. 한 개별 국가들의 한국특허와 미국특허에 한 특허활

동도를 비교분석하여 각 국가들이 한국과 미국에 상 으로 특허활동을 집

하고 있는 기술분야의 차이 을 보여주고 있다.주요 리더, 력 계, 지식흐름

주요 리더 분석은 생명공학 분야에서 활발한 연구개발 활동을 펼치고 있는

개별 기 이나 업체를 악하고, 기업, 공공기 , 학 개인의 4개 연구

섹터의 연구개발 동향에 한 정보를 제공하고 있다. 력 계 분석에서는

소유와 연구개발 활동의 2가지 측면에서의 국가 간 는 섹터 간의 력

황을 분석하 으며, 지식흐름 분석을 통해서는 각 국가들이 생명공학 분야

에서 외국의 연구인력을 활용하는 정도와 자국의 연구역량이 유출되는 정도

를 평가한 결과를 제시하고 있다.융합기술 동향

기술분야간의 융합 상은 연구개발자와 정책수립자의 주요 심사가 되고

있다. 본 분석사업에서는 생명공학이 정보통신기술 나노기술 2개 분야와

어느 정도로 융합되고 있는가를 정량 으로 분석하 다.정부 R&D 지원 성과

본 보고서의 가장 큰 특징 하나는 특허정보를 이용하여 생명공학 분야에

한 한국 정부와 미국 정부의 R&D 지원 성과를 평가한 것이다. 이 분석은

체 인 정부 지원 성과특허에 한 일반 동향으로부터 시작하여 부처별

성과를 악하고, 개인명의로 출원되는 특허들에 한 문제 을 진단하 으

며, 정부 R&D 지원 과정에서 외국 연구인력을 활용하는 정도에 한 정보

를 제공하고 있다.


208

일반 동향

한국의 기술수준

기술별 동향

특허건수, 점유율

- 단순 특허건수와 점유율로서 연구개발 활동의 양적 측면을대략적으로 파악

특허건수

전체

BT

주요 리더

국가별 점유율

전체 BT


- 단순 특허건수와 점유율로서 한국의 연구개발 활동의 양적수준을 파악

특허수ᆞ점유율 특허수ᆞCPPᆞCII

.

.

.

점유율

.

.

.

특허수

.

.

.

국가

.

.

.

순위

피인용 지수(CPP), 현재영향 지수(CII)

- 특허당 피인용 회수로 국가별 기술수준을 간접적으로 파악- 과거 5년의 연구개발 성과가 현재 시점에 인용되는 상대적

값을 통해 국가별로 기술의 평균적 영향력을 평가

.

.

.

CII

.

.

.

CPP

.

.

.

특허수

.

.

.

순위

특허 점유율, 인용 점유율

- 국가별로 특허건수 점유율과 인용 회수 점유율을 통해 연구개발 활동의 양적, 질적 측면을 동시에 비교 평가

특허점유율 - 인용점유율 TCT - NPR

TCT, NPR

- 국가별로 기술의 발전속도와 기초과학과의 연계성을 동시에 비교하여 기술수준의 위치를 파악

인용점유율

특허점유율

국가 A

국가 B

TCT

NPR

국가 A 국가 B

기술별 점유율ᆞ특허수

점유율 특허수

국가별 - 기술별

기술 A 기술 B 기술 C

국가 A

국가 B

국가 C


- 단순 특허건수와 점유율로서 기술분야별 연구개발 활동의추이와 성장세 등을 파악

- 국가별 기술분야의 점유율로서 특정 국가들의 기술분야별연구개발 활동의 비중을 파악

- 각각의 기술분야에 대한 국가별 점유율 분석으로 해당 기술분야에 대한 연구개발 활동의 국가별 비중을 파악 기술별 - 국가별 국가–기술별 특허활동도

국가 A 국가 B 국가 C

기술 A

기술 B

기술 C

특허활동도(AI)

- 해당 분야에 대한 특허 활동의 상대적 집중도를 파악- 국가별로 한국과 미국특허에 대한 기술별 특허활동도를 분

석하여 한국시장과 미국시장에 대한 특허활동의 집중분야에 대한 차이점을 파악

미국특허

한국특허

미국특허

한국특허

미국특허

한국특허

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

국가 C국가 B국가 A기술분야


- 단순 특허건수와 점유율로서 주체별 연구개발 활동의 양적수준을 파악

- 연구섹터를 대학, 공공기관, 개인 및 기업의 4개 부문으로나누어 연구개발의 동향을 분석

- 각각의 연구섹터가 차지하는 비중에 대해 연도별 추이와국가별 동향을 파악

연도별 - 주체별 국가별 - 주체별

기업

개인

공공기관

대학

등록연도

기업

개인

공공기관

대학


기술별 주요 특허권자 기술별 주요 발명자특허건수, 피인용 수

- 전 구간 및 최근 구간의 특허건수로서 기술별 주요 특허권자와 주요 발명자를 발굴

- 기술별로 가장 많은 피인용 회수를 기록한 특허의 발명자를 탐색하여 주요 연구개발자를 추적

.

.

.

특허건수

.

.

.

특허권자

(최근기간)

특허건수

특허권자

(전체기간)

.

.

.

.

.

.

.

.

.

기술분야

.

.

.

특허건수

.

.

.

발명자

(인용기준)

피인용수

발명자

(건수기준)

.

.

.

.

.

.

.

.

.

기술분야

협력관계

국가별 공동연구 점유율 국가별 – 유형별 협력관계

국가별 국제공동출원 국가별 국제공동발명

특허건수, 점유율, 샐턴 지수

- 공동연구 건수와 점유율로서 전체 연구개발 활동에서 공동연구가 차지하는 비중을 국가별로 분석

- 연구섹터간의 협력 유형별로 공동연구 건수와 샐턴지수를사용하여 공동연구의 양적 측면과 협력의 강도를 국가별로평가

- 외국과의 공동출원 건수 및 점유율 분석을 통해 국제적 수준에서의 특허 공유관계를 양적으로 평가

- 외국과의 공동발명 건수 및 점유율 분석을 통해 국제적 수준에서의 연구개발 활동의 협력관계를 양적으로 평가

국가

기업-기업

기업-대학...

.

.

.

.

.

국가 A

.

.

.

.

.

국가 B 국가 C

.

.

.

.

.

협력유형

※특허건수(샐턴 지수)

국가 A

국가 B

국가 C

국가 D

국가 A

국가 B

국가 C

국가 D※ 다음 페이지에 계속

일반 동향

한국의 기술수준

기술별 동향


- 단순 특허건수와 점유율로서 연구개발 활동의 양적 측면을대략적으로 파악

특허건수

전체

BT

주요 리더

국가별 점유율

전체 BT


- 단순 특허건수와 점유율로서 한국의 연구개발 활동의 양적수준을 파악

특허수ᆞ점유율 특허수ᆞCPPᆞCII

.

.

.

점유율

.

.

.

특허수

.

.

.

국가

.

.

.

순위

피인용 지수(CPP), 현재영향 지수(CII)

- 특허당 피인용 회수로 국가별 기술수준을 간접적으로 파악- 과거 5년의 연구개발 성과가 현재 시점에 인용되는 상대적

값을 통해 국가별로 기술의 평균적 영향력을 평가

.

.

.

CII

.

.

.

CPP

.

.

.

특허수

.

.

.

순위

특허 점유율, 인용 점유율

- 국가별로 특허건수 점유율과 인용 회수 점유율을 통해 연구개발 활동의 양적, 질적 측면을 동시에 비교 평가

특허점유율 - 인용점유율 TCT - NPR

TCT, NPR

- 국가별로 기술의 발전속도와 기초과학과의 연계성을 동시에 비교하여 기술수준의 위치를 파악

인용점유율

특허점유율

국가 A

국가 B

TCT

NPR

국가 A 국가 B

기술별 점유율ᆞ특허수

점유율 특허수

국가별 - 기술별

기술 A 기술 B 기술 C

국가 A

국가 B

국가 C


- 단순 특허건수와 점유율로서 기술분야별 연구개발 활동의추이와 성장세 등을 파악

- 국가별 기술분야의 점유율로서 특정 국가들의 기술분야별연구개발 활동의 비중을 파악

- 각각의 기술분야에 대한 국가별 점유율 분석으로 해당 기술분야에 대한 연구개발 활동의 국가별 비중을 파악 기술별 - 국가별 국가–기술별 특허활동도


기술 A

기술 B

기술 C

특허활동도(AI)

- 해당 분야에 대한 특허 활동의 상대적 집중도를 파악- 국가별로 한국과 미국특허에 대한 기술별 특허활동도를 분

석하여 한국시장과 미국시장에 대한 특허활동의 집중분야에 대한 차이점을 파악

미국특허

한국특허

미국특허

한국특허

미국특허

한국특허

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

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.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

국가 C국가 B국가 A기술분야


- 단순 특허건수와 점유율로서 주체별 연구개발 활동의 양적수준을 파악

- 연구섹터를 대학, 공공기관, 개인 및 기업의 4개 부문으로나누어 연구개발의 동향을 분석

- 각각의 연구섹터가 차지하는 비중에 대해 연도별 추이와국가별 동향을 파악

연도별 - 주체별 국가별 - 주체별

기업

개인

공공기관

대학

등록연도

기업

개인

공공기관

대학


기술별 주요 특허권자 기술별 주요 발명자특허건수, 피인용 수

- 전 구간 및 최근 구간의 특허건수로서 기술별 주요 특허권자와 주요 발명자를 발굴

- 기술별로 가장 많은 피인용 회수를 기록한 특허의 발명자를 탐색하여 주요 연구개발자를 추적

.

.

.

특허건수

.

.

.

특허권자

(최근기간)

특허건수

특허권자

(전체기간)

.

.

.

.

.

.

.

.

.

기술분야

.

.

.

특허건수

.

.

.

발명자

(인용기준)

피인용수

발명자

(건수기준)

.

.

.

.

.

.

.

.

.

기술분야

협력관계

국가별 공동연구 점유율 국가별 – 유형별 협력관계

국가별 국제공동출원 국가별 국제공동발명

특허건수, 점유율, 샐턴 지수

- 공동연구 건수와 점유율로서 전체 연구개발 활동에서 공동연구가 차지하는 비중을 국가별로 분석

- 연구섹터간의 협력 유형별로 공동연구 건수와 샐턴지수를사용하여 공동연구의 양적 측면과 협력의 강도를 국가별로평가

- 외국과의 공동출원 건수 및 점유율 분석을 통해 국제적 수준에서의 특허 공유관계를 양적으로 평가

- 외국과의 공동발명 건수 및 점유율 분석을 통해 국제적 수준에서의 연구개발 활동의 협력관계를 양적으로 평가

국가

기업-기업

기업-대학...

.

.

.

.

.

국가 A

.

.

.

.

.

국가 B 국가 C

.

.

.

.

.

협력유형

※특허건수(샐턴 지수)

국가 A

국가 B

국가 C

국가 D

국가 A

국가 B

국가 C

국가 D※ 다음 페이지에 계속


209

인력 유입률, 유출률

- 특허의 출원인(소유권자)과 발명자 정보를 이용하여 외국의 연구인력 활용현황 및 자국의 연구인력에 의한 연구성과의 유출 정도를 국가별로 평가

인력 유입률

분야-국가별

지식의 흐름

융합기술 동향

정부 R&D 지원 성과

인력 유출률


- 융합기술 분야의 특허건수와 점유율로서 융합분야에 대한연구개발 활동의 양적 수준을 기술별, 국가별로 파악

- 융합기술 분석은 2개 분야를 대상으로 실시ㆍ생명공학-정보통신(BT-IT)ㆍ생명공학-나노기술(BT-NT)

특허 수ᆞ점유율 특허 수ᆞ점유율

.

.

.

부처C

.

.

.

부처B

.

.

.

부처A

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.

기술분야

점유율건수점유율건수

.

.

.

2단계

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.

.

.

.

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.

1단계

.

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.

부처

기술 A


- 한국과 미국 정부의 R&D 지원 특허 수와 이들이 전체 생명공학 특허에서 차지하는 점유율로서 양국 국가 R&D의 특허성과를 양적으로 파악

- 양국의 정부 부처별로 특허 건수와 점유율을 분석하여 BT분야 지원의 중추적 부처를 파악하고, 각 부처의 특허성과를 평가

- 기술별, 부처별 특허건수와 점유율 분석을 통해 부처별 집중 지원 분야 및 기술분야별 특허성과를 파악

- 정부 R&D 지원특허의 연구섹터별 특허 수와 점유율 분석을 통해 양국 정부로부터 지원을 받은 연구주체를 섹터별로파악하고, 연구섹터별 특허성과를 평가

- 한국 정부지원으로 발생된 개인명의 특허출원을 추적 조사하여 피지원 연구기관별로 특허건수와 점유율을 분석함으로써 기관, 섹터별로 개인출원의 정도와 현황을 파악

- 정부 지원으로부터 발생된 특허건수를 소유권자별로 분석하여 집중적으로 지원을 받은 기관을 파악하고, 기관별 특허성과를 평가

국가 A

국가 B

국가 C

국가 D

국가 A

국가 B

국가 C

국가 D

기술별 국가별 특허 수 국가별 점유율

기술 B기술 C

기술 D 국가 A

국가 B

국가 C

국가 A

국가 B

국가 C

BT 전체

정부R&D


개인

기업대학

공공기관

개인특허 추적 정부 R&D 특허권자

개인

기관 A

기관 B

기관 C

2단계1단계

.

.

.

.

.

.

특허수

.

.

.

특허권자

인력 유입률

- 한국과 미국의 민간섹터 특허와 정부지원 특허의 인력 유입률 및 인력 유출률 분석으로 외국의 연구인력 활용 정도를 평가

한국민간 한국정부 미국민간 미국정부

인력 유입률, 유출률

- 특허의 출원인(소유권자)과 발명자 정보를 이용하여 외국의 연구인력 활용현황 및 자국의 연구인력에 의한 연구성과의 유출 정도를 국가별로 평가

인력 유입률

분야-국가별

지식의 흐름

융합기술 동향

정부 R&D 지원 성과

인력 유출률


- 융합기술 분야의 특허건수와 점유율로서 융합분야에 대한연구개발 활동의 양적 수준을 기술별, 국가별로 파악

- 융합기술 분석은 2개 분야를 대상으로 실시ㆍ생명공학-정보통신(BT-IT)ㆍ생명공학-나노기술(BT-NT)


.

.

.

부처C

.

.

.

부처B

.

.

.

부처A

.

.

.

기술분야

점유율건수점유율건수

.

.

.

2단계

.

.

.

.

.

.

.

.

.

1단계

.

.

.

부처

기술 A


- 한국과 미국 정부의 R&D 지원 특허 수와 이들이 전체 생명공학 특허에서 차지하는 점유율로서 양국 국가 R&D의 특허성과를 양적으로 파악

- 양국의 정부 부처별로 특허 건수와 점유율을 분석하여 BT분야 지원의 중추적 부처를 파악하고, 각 부처의 특허성과를 평가

- 기술별, 부처별 특허건수와 점유율 분석을 통해 부처별 집중 지원 분야 및 기술분야별 특허성과를 파악

- 정부 R&D 지원특허의 연구섹터별 특허 수와 점유율 분석을 통해 양국 정부로부터 지원을 받은 연구주체를 섹터별로파악하고, 연구섹터별 특허성과를 평가

- 한국 정부지원으로 발생된 개인명의 특허출원을 추적 조사하여 피지원 연구기관별로 특허건수와 점유율을 분석함으로써 기관, 섹터별로 개인출원의 정도와 현황을 파악

- 정부 지원으로부터 발생된 특허건수를 소유권자별로 분석하여 집중적으로 지원을 받은 기관을 파악하고, 기관별 특허성과를 평가

국가 A

국가 B

국가 C

국가 D

국가 A

국가 B

국가 C

국가 D

기술별 국가별 특허 수 국가별 점유율

기술 B기술 C

기술 D 국가 A

국가 B

국가 C

국가 A

국가 B

국가 C

BT 전체

정부R&D


개인

기업대학

공공기관

개인특허 추적 정부 R&D 특허권자

개인

기관 A

기관 B

기관 C

2단계1단계

.

.

.

.

.

.

특허수

.

.

.

특허권자

인력 유입률

- 한국과 미국의 민간섹터 특허와 정부지원 특허의 인력 유입률 및 인력 유출률 분석으로 외국의 연구인력 활용 정도를 평가

한국민간 한국정부 미국민간 미국정부

그림 4-15. 「생명공학 특허동향(2004)」요약서의 분석틀

제1절 기술로드맵 개요

제2절 기술로드맵 작성을 위한 특허분석

제3절 결론 및 향후 과제

기술로드맵에의 특허분석

적용방법

제5장


213


1970년 모토롤라社가 로드맵을 개발하고 도입할 당시 로드맵의 작성목 은 경

자에게 기술의 미래에 해 한 주의를 환기시키고, 그들에게 미래를 측하는 도

구를 제공하는 것이었다100). 이후 기술로드맵은 그 용 역이 크게 확장되어 개별 기

업의 기술 략 수립뿐만 아니라 산업계의 기술분야별 발 방향 측이나 국가 차원

의 기술 략 수립을 한 도구로 사용되고 있다101). 한 산업로드맵, 제품로드맵 등

로드맵의 작성목 과 활용분야에 따라 다양한 유형의 로드맵이 나타나고 있다.본 보고서는 기술로드맵 작성 시 특허분석의 필요성을 밝히고, 그 구체 인 용 방

법론을 살펴보는 것을 목 으로 하고 있다. 이러한 작업을 해서는 선행 으로 로드

맵의 정의를 확인해보는 것이 필요하다 할 것이다. 기술로드맵의 정체성이 확인된 후

에야 비로소 그에 합한 특허 분석의 용방법론이 제시될 수 있기 때문이다.한 최근에는 로드맵 작성 시 시장, 산업, 제품, 기술 등 여러 수 과 역에서 작

성될 수 있는 다양한 유형의 로드맵들이 소개되고 있고, 이러한 다양한 로드맵들이 통

합 으로 작성되어야 한다는 이 강조되고 있다. 따라서 본 에서는 로드맵의 정의

와 함께 기술로드맵과 그 외의 다양한 로드맵 유형을 살펴보고, 기술로드맵이 다른 유

형의 로드맵들과 어떠한 연 성을 가지고 있는지를 간략히 살펴보도록 한다.

100) C. H. Willyard and C. W. McClees (1987), Motorola's Technology Roadmap Process, Research

Management, 30(5), 13-19.

101) R. Phaal, C. J. P. Farrukh and D. R. Probert (2004), Collaborative Technology Roadmapping -

Network Development and Research Prioritisation, Int. J. Technology Intelligence and Planning, 1(1),

39-55.

제5장 기술로드맵에의 특허분석 적용방법

214

기술로드맵의 정의1

기술로드맵은 1970년 모토롤라社에서 처음 도입된 이후, 다양한 목 과 형태로 발

되어 왔다. 그러나 기술 략 수립 도구로서 기술로드맵의 이러한 다양성은 기술로드

맵을 하나의 문장 는 개념으로 정의내리기 어렵도록 하는 원인이기도 하다.모토롤라社의 창업자인 Paul Galvin의 아들로서 모토롤라社에 재직 당시 기술로드맵

을 기술개발 략 수립 과정에 용시키는데 결정 인 역할을 담당하고, 기술로드맵

탄생의 창시 인 인물로 알려져 있는 Robert Galvin은 기술로드맵의 정의와 그 유용성

을 다음과 같이 설명하고 있다102).“로드맵은 심의 상이 되는 분야에 한 집약된 지식과 최상의 상상력에

근거하여 그 분야의 미래상을 보여주는 것이다103)”"로드맵은 비 을 공유하도록 하고, 산업계와 정부로부터 자원을 유인하는

도구이며, 연구개발을 자극하고, 진척상황을 검할 수 있도록 해 다. 이것

은 특정한 분야의 가능성에 한 집합으로서, 보다 신속하고 목 지향 인

연구개발을 유도한다. 이것은 보다 다각 인 간의 상호 연결과 조직

인 목 을 추구하며, 완 히 새로운 역까지도 가능성이 있는 연구개발 분

야로 추정될 수 있다. 산업계에서는 로드맵 작성 과정을 통해 정부 는 업

계의 정책결정자들에게 호의 인 향을 끼쳐 기반 기술분야에 한 지원여부를

결정하는 과정에서 그들이 가질 수 있는 의문 들을 해소시킬 수도 있다104)”한 Lewis M. Branscomb은 기술로드맵을 다음과 같은 개념으로 설명한다105).

102) R. Galvin (1998), Science Roadmaps, Science, 280(5365), 803.

103) "A roadmap is an extended look at the future of a chosen field of inquiry composed from the

collective knowledge and imagination of the brightest drivers of change in that field."

104) “Roadmaps communicate visions, attract resources from business and government, stimulate investigations,

and monitor progress. They become the inventory of possibilities for a particular field, thus

stimulating earlier, more targeted investigations. They facilitate more interdisciplinary networking

and teamed pursuit. Even white spaces can conjure promising investigations. In engineering, the

roadmapping process has so positively influenced public and industry officials that their

questioning of support for fundamental technology support is muted."

105) L. M. Branscomb and J. Keller (1998), Investing in Innovation - A Research and Innovation Policy

that Works, The MIT Press.


215

“과학 정보에 근거하여 매력 인 기술 분야에 한 미래 비 을 제시하는 것106)”이와 같이 기술로드맵은 특정한 기술분야의 미래 측기능에 그 이 맞추어져 왔

다. 그러나 기술경쟁이 격화되고 있는 근래에 들어서는 기술로드맵의 개념과 역할이

단순한 미래 측 도구가 아닌 반 인 략수립 활동의 개념으로 확장되어 가고 있

다. R. N. Kostoff와 R. R. Schaller는 로드맵이라는 용어가 과학기술 기획활동 자체를

암시하는 의미로 사용되고 있음을 지 하고 있으며107), T. A. Kappel도 로드맵의 작성

자체가 유행이 되고 있고, 때때로 미래를 측하는 모든 종류의 문서들이 로드맵으로

지칭되고 있음을 지 하고 있다108).

106) “a consensus articulation of scientifically informed vision of attractive technology futures”

107) R. N. Kostoff and R. R. Schaller (2001), Science and Technology Roadmaps, IEEE Transactions on

Engineering Management, 48(2), 132-143.

108) T. A. Kappel (2001), Perspectives on Roadmaps - How Organizations Talk about the Future, The

Journal of Product Innovation Management, 18, 39-50.


216

기술로드맵의 유형2

1998년 미국 워싱턴에서 열린 기술로드맵 워크 (Technology Roadmap Workshop)에서는 수십 가지의 로드맵 용사례들이 보고되었다. 여기에서 보고된 로드맵 용

사례들은 용 역과 작성목 에 따라 크게 4가지의 유형으로 분류되었으며, R. E. Albright와 R. R. Schaller가 제시한 이 분류의 내용은 다음과 같다109).

ⅰ) 과학기술 로드맵(S&T Maps or Roadmaps)ⅱ) 산업기술 로드맵(Industry Technology Roadmaps)ⅲ) 제품기술 로드맵(Corporate of Product-Technology Roadmaps)ⅳ) 포트폴리오 리 로드맵(Products/Portfolio Management Roadmaps)

출처 : R. Albright and R. Schaller, Technology Roadmap Workshop, moderated by the Office of Naval Research,Washington, DC, October 30, 1998.

그림 5-1. Albright와 Schaller의 기술로드맵 분류

109) R. N. Kostoff and R. R. Schaller (2001), Science and Technology Roadmaps, IEEE Transactions on

Engineering Management, 48(2), 132-143.


217

R. Phaal은 지식과 자원이라는 두 가지 에 근거하여 사업단 수 , 제품단 수

기술단 수 의 세 가지 수 으로 구성된 기술개발 기획틀을 제안한 바 있

다110). 이 기획틀은 사업목표의 달성을 해 기술들을 효율 으로 구비하기 해서는

각 수 간의 효율 인 지식 흐름 구조가 존재하여야 한다는 인식에 기반을 두고 있다. 한 지식의 흐름이라는 개념은 사업과 시장의 수요가 제품단 의 수 과 기술단 의

수 에서 이해되어야 하며(Pull), 기술 역량은 제품과 사업단 의 수 에서 이해되어

야한다(Push)는 것으로 설명되고 있다.

출처 : R. Phaal, C. J. P. Farrukh and D. R. Probert (2001), Fast Start Technology Roadmapping, International Association for Management of Technology.(http://www.iamot.org/paperarchive/GSTBB.PDF)

그림 5-2. 기술개발의 기획틀

R. E. Albright는 이러한 기획틀을 로드맵 작성의 틀로서 채용하여 로드맵이 미래의

목표와 련하여 “왜(why)-무엇을(what)-어떻게(how)-언제(when)"라는 질문들에

한 해답으로 구성되는 것으로 보고, 로드맵의 몇 가지 유형들이 이 4가지 부분에 각

각 어떠한 내용들을 담게 되는가를 설명하 다111). 를 들어 과학기술 로드맵에서는

[표 5-1]에서 볼 수 있는 바와 같이 과학기술의 범 와 재 는 잠재 용 역이

기술 도 는 해결과제와 연결된다. 이 부분에서는 해당 기술분야의 구조가 정의

되고 기술동향과 잠재 불연속성이 악된다. 이러한 기술 도 과제들은 기술개발

110) R. Phaal, C. J. P. Farrukh and D. R. Probert (2001), Fast Start Technology Roadmapping, International

Association for Management of Technology. (http://www.iamot.org/paperarchive/GSTBB.PDF)

111) R. E. Albright (2003), A Unifying Architecture for Roadmaps Frames a Value Scorecard, IEEE

International Engineering Management Conference, November 2-4, 2003, Albany, NY.


218

의 개과정과 연결되며 최종 으로 가장 요한 기술개발을 한 자원 는 투자 배

분의 실행계획이 작성되게 된다.

출처 : R. E. Albright (2003), A Unifying Architecture for Roadmaps Frames a Value Scorecard, IEEE InternationalEngineering Management Conference, November 2-4, 2003, Albany, NY.

표 5-1. 로드맵의 주제와 내용

T. A. Kappel도 앞서 살펴본 로드맵의 유형들과 유사한 4가지의 로드맵 유형을 제

시한 바 있다112). T. A. Kappel은 로드맵 작성의 주체와 작성의 주안 을 기 으로 로

드맵의 유형을 분류하 다. [그림 5-3]에서 가로축은 작성주체를 기 으로 산업차원

의 정보를 얻기 한 로드맵과 기업차원에서 작성되는 로드맵을 구분하고 있다. 이에

반해 세로축은 작성의 주안 는 목 을 기 으로 동향의 악을 한 로드맵과 포

지셔닝(Positioning), 즉 경쟁을 한 선택 략을 수립하기 한 로드맵을 구분하고

있다. 이러한 기 에 따라 과학/기술로드맵, 산업로드맵, 제품-기술로드맵 제품로드

맵의 4가지 유형의 로드맵이 도출되게 된다.

112) T. A. Kappel (2001), Perspectives on Roadmaps - How Organizations Talk about the Future, The

Journal of Product Innovation Management, 18, 39-50.


219

과학/기술로드맵(Science/Technology Roadmaps)과학/기술로드맵은 체 인 동향 악 정확한 측을 통해 미래를

보다 명확하게 이해하는 것을 목 으로 작성되는 로드맵을 지칭한다.산업로드맵(Industry Roadmaps)

기술의 수 , 용 역, 비용 등에 한 측작업이 산업 과 연결

되어 작성되는 로드맵이다. 이 로드맵은 일반 으로 핵심 기술과 경

쟁의 양상에 한 내용을 담게 된다.제품-기술로드맵(Product-Technology Roadmaps)

이 로드맵은 제품에 한 구체 인 계획이 시장 기술의 동향과 연결

되어 작성되는 로드맵이다. 제품의 개발과 기술개발 간의 연결이 핵심

인 내용이 된다.제품로드맵(Product Roadmaps)

제품의 개발방향과 일정이 작성되는 로드맵이 이에 해당된다.

출처 : T. A. Kappel (2001), Perspectives on Roadmaps - How Organizations Talk about the Future, The Journal of Product Innovation Management, 18, 39-50.

그림 5-3. Kappel의 로드맵 분류


220

지 까지 살펴본 바와 같이 로드맵은 다양한 목 과 분야에서 사용되어질 수 있다. 이 게 다양한 로드맵을 유형화하는 것은 해당 유형의 로드맵 작성에 한 방향과 구

체 인 작성기법을 발 시키는데 있어 선결과제라 할 수 있을 것이다. 재까지 기술

로드맵의 유형에 한 다양한 논의들이 나오고 있으나, 재 가장 일반 으로 받아들

여지고 있는 기술로드맵의 분류방법은 로드맵 작성의 범 ( 산업계, 특정 산업분야, 국가, 기업 등)와 그 작성의 목 (동향의 악, 략의 수립, 세부 일정의 작성 등)을 기 으로 유형화하는 것으로 보인다. 따라서 기술로드맵 작성을 한 구체 인 작

성방법론과 분석방법론도 해당 기술로드맵의 작성 범 와 작성 목 에 맞추어져 개발

되어야 할 것이다.


221


우리는 앞서 로드맵의 정의와 유형에 한 여러 논의들을 살펴보았다. 그러나 이미

살펴본 바와 같이 이러한 논의들은 매우 개념 이고 추상 이어서, 실제로 각각의 유

형별 로드맵이 어떻게 작성되어야 하고, 어떠한 분석도구들이 사용되어야 하는가에

한 정보는 매우 불충분한 것이 실이다.산업로드맵, 기술로드맵, 제품로드맵 등 다양한 유형의 로드맵을 작성하기 해서는

일반 으로 시장분석, 경쟁 ․ 략분석은 물론 본 연구보고서의 심 상인 특허분석 등

다양한 분야에 한 분석도구들이 사용된다. 이 과정에서 분석가들은 실질 이고 정확

한 분석방법과 분석도구들에 한 정보의 부족이라는 난 에 부딪치고 있다. 이러한

상은 비단 특허분석에 국한된 문제만은 아니며 시장분석과 경쟁분석 분야에서도 마

찬가지의 상이 나타나고 있다113).특히 기술로드맵의 경우 최종 인 기술개발 일정이 그려지기 해서는 해당 기술분

야의 연구개발 동향과 기술 신의 구조 특성이 우선 으로 악되어야 한다. 그러

나 일반 으로 알려져 있는 바와 같이 기술 신의 구조와 동향을 악하는 것은 결코

쉬운 작업이 아니다. 따라서 이러한 분석과정의 곤란성으로 인해 보다 객 이고 실

제 인 상황을 잘 변해 수 있는 분석결과를 제공받지 못할 경우, 객 인 분석

도구들보다는 주 인 분석도구들에 의지하게 되어 결과 으로는 기술로드맵이 그 작

성 과정에 참여하는 로드맵 작성 그룹의 주 인 단에 크게 향을 받게 될 가능성

이 농후하다고 할 수 있다.이러한 상황에서 특허정보는 기술로드맵 작성을 한 분석도구로서 주목을 받을 수

밖에 없는데, 그 이유는 특허정보가 매우 범 한 기술 범 와 지역 범 에 걸친

다양한 정보를 제공하며, 특히 기업부문에서 이루어지는 기술개발 활동을 제품의 출시

이 에 들여다 볼 수 있는 거의 유일한 정보의 원천이기 때문이다.이하에서는 로드맵 작성과정에서 용될 수 있는 특허정보 분석의 방법들과 그 유용

113) 경쟁 략 분석과 련하여 C. S. Fleisher는 경쟁정보 분야와 데이터 수집 분야 기획 분야는 빠르게

성장하여 왔고 련된 연구들도 많이 이루어졌으나, 분석과 역은 상 으로 심을 받지 못하

다고 지 하고 있다(C. S Fleisher and B. E. Bensoussan (2002), Strategic and Competitive

Analysis, Prentice Hall.).


222

성을 살펴보고 하나의 분석 모델을 소개함으로써, 분석가들이 향후 로드맵 작성과정에

서 특허정보를 보다 쉽게 활용할 수 있는 계기를 마련해보고자 한다.

Black Box

시장정보(Market Information)

제품- 시장 분석(Product-Market Analysis)

기술현황 분석(Technology Assessment)

가용 기술의 탐색(Identification of Technology)

제품- 기술 옵션의 평가(Product-Technology Options Evaluation)

로드맵의 작성(Roadmap Creation)

구체적 목표의 설정(Defined Targets)

프로젝트의 제안(기획)(Project Proposals)

기술 발전단계 분석

• 기술의 발전 가능성은?• 향후 주도 기술로 부상될 분야는?

기술혁신의 구조 파악

• 해당 분야를 둘러싼 외부적 기술 환경은?• 해당 분야의 내부적 기술 환경은?• 기초과학과의 연관성은?• 다양한 기술분야간 융합의 양상은?

기술경쟁력의 평가

• 현재 우리가 처한 기술적 위치는?• 우리의 기술적 강점과 약점은?• 이로부터 얻을 수 있는 전략적 시사점은?

경쟁ㆍ협력대상의 파악

• 기술발전을 주도하는 기업, 기관은?• 해당 분야의 핵심적인 연구개발자는?• 연구주체간 협력의 양상은?

특허분석(Patent Analysis)

출처 : EIRMA (1997), Technology Roadmapping - delivering business vision, European Industry Research Management Association, Working Group Report No. 52, Paris.를 참고하여 재구성

Black Box

시장정보(Market Information)

제품- 시장 분석(Product-Market Analysis)

기술현황 분석(Technology Assessment)

가용 기술의 탐색(Identification of Technology)

제품- 기술 옵션의 평가(Product-Technology Options Evaluation)

로드맵의 작성(Roadmap Creation)

구체적 목표의 설정(Defined Targets)

프로젝트의 제안(기획)(Project Proposals)


• 기술의 발전 가능성은?• 향후 주도 기술로 부상될 분야는?

기술혁신의 구조 파악

• 해당 분야를 둘러싼 외부적 기술 환경은?• 해당 분야의 내부적 기술 환경은?• 기초과학과의 연관성은?• 다양한 기술분야간 융합의 양상은?


• 현재 우리가 처한 기술적 위치는?• 우리의 기술적 강점과 약점은?• 이로부터 얻을 수 있는 전략적 시사점은?


• 기술발전을 주도하는 기업, 기관은?• 해당 분야의 핵심적인 연구개발자는?• 연구주체간 협력의 양상은?

특허분석(Patent Analysis)

출처 : EIRMA (1997), Technology Roadmapping - delivering business vision, European Industry Research Management Association, Working Group Report No. 52, Paris.를 참고하여 재구성

그림 5-4. 로드맵 작성을 한 특허분석틀의 일례


223


• 특허 수 – 출원인 수 분석• S-Curve, TRIZ 관점의 기술성숙도 분석

기술혁신의 구조 분석

• 기반기술 및 파급효과 분석• 기술분야의 내부 구조 분석• 과학-기술 연계분석• 기술간 융합관계 분석


• 양적, 질적 경쟁력 분석• 포트폴리오 매트릭스 분석


• 섹터별 연구개발 동향 분석• 협력관계 분석• 주요 연구기관 및 연구개발자 분석

투자 타당성

• 시장에서의 경제적 타당성• 정부투자의 타당성• 기술, 경제적 파급효과

투자대상 분야

• 투자대상 기술 분야• 투자 우선 순위• 투자가 요구되는 기반, 주변, 융합 기술분야

투자대상 부문(섹터)

• 투자 대상 섹터(기업, 대학, 연구기관 등)

협력의 필요성 및 방안

• 연구개발의 협력 필요성• 협력이 필요한 기술분야• 주요 협력 대상

특허분석 항목 기술로드맵의 관심 사항









투자 타당성


투자대상 분야







그림 5-5. 기술로드맵을 한 특허분석의 활용성


224

기술의 발전단계 분석1

특정 기술분야에 한 연구개발 략을 수립하는 경우, 해당 기술이 재 어떠한 기

술수명주기 상에 있는가, 즉 새로이 출 하고 있는 분야인가 아니면 성숙기를 지나 조

만간 쇠퇴기에 들어설 분야인가를 확인하는 것은 매우 요한 문제이다. 이러한 사항

이 확인되어야만 해당 기술의 연구개발에 한 투자여부와 투자 규모 는 여러 기술들

에 한 투자 우선순 를 정할 수 있기 때문이다.분석가는 특허정보를 이용한 기술수명주기 분석과 다른 기술수명주기 분석 제품

수명주기 분석을 병행하여 사용하는 경우에 보다 정확한 정보를 얻을 수 있게 된다. 어떠한 분석도구를 사용할 것인가는 사용가능한 정보의 범 와 정확성 분석에 할당

된 비용과 인력 시간 등 다양한 요인에 따라 결정될 것이다. 이하에서는 특허 데이

터를 이용한 기술수명주기 분석방법 표 인 두 가지 방법을 소개하기로 한다.









투자 타당성


투자대상 분야















투자 타당성


투자대상 분야







그림 5-6. 특허정보를 활용한 기술 발 단계 분석의 유용성


225

1.1 특허 수 - 출원인 수 분석

일반 으로 새로운 기술이 처음 소개되기 시작하는 단계에서는 매우 은 수의 특허

만이 나타나며, 해당 기술분야에서 활동하는 기술개발 주체의 수도 다. 이후 이 기술

이 빠른 성장을 하는 단계에 들어서게 되면 특허 수가 크게 증가하고, 성장이 정체되

는 시 에는 특허 수의 증가 상이 약화되며, 해당 분야에서 활동하는 기술개발 주체

의 수도 정체되거나 감소하게 된다. 이후 체기술의 출 이나 완 히 새로운 과학기

술의 패러다임이 등장하게 되면 해당 기술은 쇠퇴기를 맞게 된다. 특별한 경우, 쇠퇴기

에 들어섰던 기술분야가 새로운 재성장의 추세로 환되는 경우가 있는데, 이러한

상은 해당 기술분야에서 새로운 발 의 가능성이 발견된 경우 는 체기술로 부상하

던 기술이 시장경쟁력을 획득하는데 실패하거나 기술 결함이 발견됨으로써 격한

퇴조 상을 보이는 경우에 나타날 수 있다.이러한 일반 인 상에 한 인식을 바탕으로 특허 수와 특허출원 수를 시계열 으

로 분석하여 특정 기술분야의 기술 성숙단계를 악하는 방법의 일례가 [그림 5-7]에 제시되어 있다. 이 분석의 기본 인 개념은 연구개발 성과의 양 동향과 연구개발

활동을 개하는 주체의 양 동향이라는 2가지 지표를 사용하여 특정한 기술분야의

발 단계를 악하는 것이라 할 수 있다.[그림 5-7]에서는 특허건수와 특허출원인 수를 연구개발 성과와 연구개발 주체의

양 동향 악을 한 체변수로 사용하고 있으나, 이외에 특허 수 증가율 는 출

원인 수 증가율과 같은 지표를 사용하는 경우도 있다. 다만 가로축과 세로축에 사용되

는 지표가 달라질 경우에는 각 단계를 의미하는 특징 인 추세의 형태가 [그림 5-7]과는 다르게 나타날 수 있다는 에 주의해야 한다.


226

특허

수

출원인 수

Ⅰ

Ⅱ

ⅢⅣ

Ⅴ

Ⅰ. 태동 • 신기술의 출현• 특허와 특허출원인의 적은 증가

Ⅱ. 성장 • R&D의 급격한 증가, 경쟁의 격화• 특허와 특허출원인의 빠른 증가

Ⅲ. 성숙 • 지속적인 연구개발 활동, 일부 업체의 도태• 특허 수의 정체. 특허출원인의 정체 또는 감소

Ⅳ. 쇠퇴 • 대체기술의 출현, 기술발전의 불연속점 발생• 특허 수의 감소, 특허출원인의 정체 또는 감소

Ⅴ. 회복 • 기술의 유용성 재발견, 대체기술의 쇠퇴• 특허와 출원인 수가 증가추세로 전환

특허

수

출원인 수

Ⅰ

Ⅱ

ⅢⅣ

Ⅴ

Ⅰ. 태동 • 신기술의 출현• 특허와 특허출원인의 적은 증가

Ⅱ. 성장 • R&D의 급격한 증가, 경쟁의 격화• 특허와 특허출원인의 빠른 증가

Ⅲ. 성숙 • 지속적인 연구개발 활동, 일부 업체의 도태• 특허 수의 정체. 특허출원인의 정체 또는 감소

Ⅳ. 쇠퇴 • 대체기술의 출현, 기술발전의 불연속점 발생• 특허 수의 감소, 특허출원인의 정체 또는 감소

Ⅴ. 회복 • 기술의 유용성 재발견, 대체기술의 쇠퇴• 특허와 출원인 수가 증가추세로 전환

그림 5-7. 특허 수와 출원인 수를 이용한 기술 발 단계의 분석방법

1.2 TRIZ 관점의 기술성숙도 분석

특허정보를 이용하여 기술의 발 단계를 악하기 한 하나의 분석도구로는

TRIZ 의 기술성숙도 분석방법을 들 수 있다. TRIZ114) 방법론의 에서는 기술

의 발 과정이 유아기(infancy), 성장기(growth), 성숙기(maturity) 쇠퇴기(decline)의 4단계로 구분된다. 이 4가지의 발 단계는 시계열 으로 표 되는 ⅰ) 기술의 성능

(Performance), ⅱ) 발명의 수(Number of Inventions), ⅲ) 발명 는 신의 수

(Level of Inventions) ⅳ) 수익성(Profitability)의 4가지 측면에서 측정된다115). 즉, 이 네 가지의 요인들을 복합 으로 분석함으로써 데이터에 근거한 기술의 발 단

계에 한 분석결과를 얻을 수 있게 된다116).

114) 1946년 당시 구 소련 해군의 특허 이었던 G. S. Altschuller가 창안한 문제해결 방법론으로서 창의

문제해결 방법론을 뜻하는 러시아어 Teoriya Reshniya Izobretatelskikh Zadatch의 약어이다. 어권에

서는 TIPS(Theory of inventive problem solving)로 불리기도 한다.

115) G. Schuh and M. Grawatsch (2004), TRIZ-Based Technology Intelligence, The TRIZ Journal, April 2004.

(http://www.triz-journal.com/archives/2004/04/05.pdf)

116) 이러한 개념은 사실 TRIZ 기법만의 독창 인 분석기법이라고는 할 수 없다. 실제 TRIZ 분석기법에 사

용되는 S-Curve 개념은 1930년 이래로 기술변화 연구에 용되어 왔으며, 이후 제품수명주기와 기

술수명주기에 한 다양한 연구 성과들이 이와 유사한 개념들을 사용하여 오고 있다. 한 기술을 기

업수 의 략에 통합시키기 한 경 툴로서의 S-Curve 개념은 1980년 반 맥킨지의 Principal이

었던 Richard Foster에 의해 공식 으로 소개된 것으로 알려지고 있다(C. S Fleisher and B. E.

Bensoussan (2002), Strategic and Competitive Analysis, Prentice Hall.).


227

S. Gahide는 이 분석틀을 사용하여 방 기술(yarn spinning)에 한 기술발 단계

를 평가한 결과, 방 기술이 성숙기에 들어서 있으며, 새로운 핵심 기술의 개발 요구가

존재한다고 결론지은 바가 있다. 즉, 기술의 진화과정에 한 분석을 통해 재의 방

기술이 기술발 의 한계 에 가까워지고 있다는 결과를 도출하고, 이에 근거하여 기술

개발의 방향은 핵심 기술의 변화 는 새로운 핵심 기술의 창출에 이 맞추어져야

한다는 연구개발 방향에 한 략 시사 을 얻을 수 있다고 보았다117).

발명의

수

발명의

수준

수익성

성능

시간

• 기술의 성능(Performance)

• 기술의 발전단계는 성능수준의 S-Curve로 파악된다.

• 발명의 수(Number of Inventions)

• 발명의 수는 성장단계로 전환되는 시점에서 첫 번째 정점이 나타나며,

해당 기술시스템의 경쟁력이 유지되는 기간 동안 관련 발명의 수는 지

속적으로 증가한다.

• 발명의 수준(Level of Inventions)

• 발명의 수준이 가장 높게 나타나는 시점은 항상 해당 기술이 처음 출

현하는 시기이며, 성장단계에 진입하기 전에 발명의 수준이 높아지는

현상이 나타난다.

• 수익성(Profitability)

• 수익성은 S-Curve의 경로를 따라간다. 기술의 초기 도입단계에서는

투자비용으로 인해 수익성이 음(-)의 값으로 나타난다.

성장기

성숙기 쇠퇴기

유아기

발명의

수

발명의

수준

수익성

성능

시간

• 기술의 성능(Performance)

• 기술의 발전단계는 성능수준의 S-Curve로 파악된다.

• 발명의 수(Number of Inventions)

• 발명의 수는 성장단계로 전환되는 시점에서 첫 번째 정점이 나타나며,

해당 기술시스템의 경쟁력이 유지되는 기간 동안 관련 발명의 수는 지

속적으로 증가한다.

• 발명의 수준(Level of Inventions)

• 발명의 수준이 가장 높게 나타나는 시점은 항상 해당 기술이 처음 출

현하는 시기이며, 성장단계에 진입하기 전에 발명의 수준이 높아지는

현상이 나타난다.

• 수익성(Profitability)

• 수익성은 S-Curve의 경로를 따라간다. 기술의 초기 도입단계에서는

투자비용으로 인해 수익성이 음(-)의 값으로 나타난다.

성장기

성숙기 쇠퇴기

유아기

그림 5-8. TRIZ 의 기술발 단계 특성

117) S. Gahide (2000), Application of TRIZ to Technology Forecasting Case Study - Yarn Spinning Technology,

The TRIZ Journal, July 2000. (http://www.triz-journal.com/archives/2000/07/d/index.htm)


228

기술환경의 구조 분석2

연구개발 활동의 내 ․ 외부 환경 는 기술 신의 내 ․ 외부 구조는 거의 모든 연구개발

략 수립과정에서 확인되어야 할 필요성이 있는 분석항목이다118). 해당 기술분야의

경쟁력 제고를 해 필수 인 기반기술을 악하고 다른 기술분야와의 융합 계를

악하는 것은 기술환경의 외부 구조를 이해하는 것이며, 해당 분야를 구성하는 세부 기

술들의 연구개발 방향과 기 과학과의 연계성 등을 악하는 것은 기술환경의 내부 구

조를 이해하는 것에 해당된다고 볼 수 있다. 이러한 분석결과들은 기술로드맵 작성 시

투자 상 기술분야와 섹터를 선정하고, 연구개발 과정에서 력의 필요성을 가늠하는

데 유용한 정보로 이용될 수 있다.









투자 타당성


투자대상 분야















투자 타당성


투자대상 분야







그림 5-9. 특허정보를 활용한 기술환경 구조 분석의 유용성

118) 기술환경 는 기술 신의 구조라는 용어는 매우 다양하게 해석될 수 있으나, 여기에서는 기술개발 활

동의 외부환경은 해당 기술분야와 다른 기술분야간의 연 성에 을 맞춘 의미로 사용하 으며, 내

부환경은 해당 기술분야에 포함되는 세부 기술들의 동향에 을 맞춘 의미로 사용하 다.


229

2.1 기반기술과 파급효과

연구개발 활동의 기획단계에서 해당 기술분야의 기술경쟁력 향상에 향을 미치는

기반 기술분야는 어디이며, 해당 기술분야의 기술경쟁력 확보가 향후 어떠한 기술분야

에 기술 효과를 가져올 것인가의 문제는 그 기술분야의 연구개발 활동에 한

투자 타당성 는 필요성에 한 검토과정에서 반드시 확인되어야 할 문제이다.이러한 의문사항에 한 해답을 얻기 한 방법은 여러 가지가 제시될 수 있으나,

특허정보 인용정보는 이러한 질문에 해 가장 간단하고 명료한 분석방법과 분석결

과를 제공해 다.[그림 5-10]은 이러한 분석방법의 기본 인 개념의 틀을 보여주고 있다. 먼 분석

상 분야의 연구개발 활동의 기반이 되는 기술분야가 어디인가를 악하기 해서는

분석 상 분야의 특허들이 어떠한 기술분야의 특허들을 주로 인용하고 있는가에 한

분석이 필요하다. 이러한 분석방법은 분석 상 특허들에 인용된 특허들은 분석 상 기

술분야에 한 기술 원천이 되는 기술이라는 사고방식에 그 기반을 두고 있으며,

다른 표 으로는 기술 측면의 투입요소를 밝히기 한 분석과정이라 할 수 있다.한 분석 상 분야의 연구개발 성과가 기술 측면의 향력을 미치게 되는, 즉 기

술 효과가 나타나는 분야는 분석 상 분야의 특허들이 주로 인용되고 있는 분야

를 탐색함으로써 악될 수 있다. 이 경우에는 특허의 피인용 정보를 이용하여 분석이

이루어지며, 이 분석방법도 앞서 살펴본 인용 정보에 한 분석방법과 마찬가지로 인

용된 기술들은 인용한 기술들에 한 기술 원천이 된다는 사고방식에 기반을 두고

있다. 다만 이 두 가지 분석방법들 간의 차이 은 분석 의 방향이 다르다는 것뿐이

다. 피인용 정보를 이용한 효과 분석은 분석 상 기술분야의 연구개발 활동이 기

술 측면에서 어떠한 효과를 가져오는가에 한 성과 측면의 분석방법이라 할

수 있다.이 분석기법을 용하는 과정에서 주의해야 할 은 우리가 심의 상으로 삼은

분야 이외의 특허들에 한 데이터가 확보되어야 하며, 이러한 기술분야들에 한 기

술분류의 설정 등 분석 상 기술분야를 넘어서는 추가 인 분석작업이 요구된다는

이다.


230

분석대상기술분야

기술분야 A

기술분야 B

기술분야 C

기술분야 D

기술분야 O

기술분야 P

기술분야 Q

기술분야 R

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

인용 분석(Backward Citations) 피인용 분석(Forward Citations)

투입(기반기술) R&D 성과(파급효과)

인용 회수 피인용 회수

분석대상기술분야

기술분야 A

기술분야 B

기술분야 C

기술분야 D

기술분야 O

기술분야 P

기술분야 Q

기술분야 R

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

.

인용 분석(Backward Citations) 피인용 분석(Forward Citations)

투입(기반기술) R&D 성과(파급효과)

인용 회수 피인용 회수

그림 5-10. 특허 인용정보를 활용한 기반기술 효과 분석

2.2 기술분야별 연구개발 활동의 내부 구조

앞서 살펴본 특정 기술분야의 기반기술 효과에 한 분석은 우리가 심의

상으로 삼고 있는 기술분야를 둘러싼 기술 측면의 외부 구조를 악하기 한 분

석으로서 외부 환경에 한 분석의 성격을 가지고 있다. 그러나 기술분야의 연구개

발 동향과 신활동의 구조를 보다 정확하게 악하기 해서는 해당 기술분야 내부의

신 구조가 확인되어야 한다. 즉, 과거와 재의 주도 인 기술을 악하고 향후 기술

발 을 주도하게 될 새로운 기술은 무엇인지가 악되어야 하는 것이다.이러한 분석을 해서는 우선 으로 분석 상 기술분야에 포함되어 있는 세부 기술

분야가 정의되어야 하며, 분류 결과에 한 정보가 포함된 특허 데이터가 비되어야

한다. 한 재의 기술개발 구조뿐만 아니라 과거로부터의 시계열 인 변화도 확인되

어야 한다.주요한 분석도구로는 세부기술별 특허건수, 유율과 같은 양 지표가 사용될 수

있으며, 분석 상 기술분야를 구성하는 세부 기술들 간의 네트워크 구조를 악하기

해 특허 인용분석과 같은 분석도구가 사용될 수 있다119). [그림 5-11]은 특정 기술

분야의 내부 구조를 분석하는 형 인 분석도구들을 보여주고 있다.119) 이 분석방법은 실질 으로 「제5장. 제2 . 2.1 기반기술과 효과」에서 설명된 분석방법과 동일하다.

다만 여기에서 언 된 기술개발 활동의 내부 구조 악을 한 인용분석은 분석 상이 되는 기술분야

내에 포함되는 특허들만을 상으로 분석이 실시된다는 이 다르다. 필요한 경우에는 분석 상 기술

분야에 포함되는 특허와 그 범 를 벗어난 특허들에 한 체 인 인용분석을 통해 기술개발 활동의

체 인 네트워크 는 지식흐름의 황을 악해 볼 수도 있다.


231

• 세부기술별 특허(출원)건수, 점유율

내부 구조의 현황 파악

• 세부기술별 특허(출원)건수, 점유율에 대한 시계열 분석

내부 구조의 동적 변화 파악

• 세부기술간 인용관계 분석

네트워크ㆍ지식흐름의 파악

세부기술 A

세부기술 B세부기술 C

세부기술 D

세부기술 A

세부기술 B

세부기술 C

세부기술 D

세부기술 A

세부기술 A

세부기술 B

세부기술 B

세부기술 C

세부기술 D

세부기술A

세부기술B

세부기술C 세부기술

D

• 세부기술별 특허(출원)건수, 점유율

내부 구조의 현황 파악

• 세부기술별 특허(출원)건수, 점유율에 대한 시계열 분석

내부 구조의 동적 변화 파악

• 세부기술간 인용관계 분석

네트워크ㆍ지식흐름의 파악

세부기술 A

세부기술 B세부기술 C

세부기술 D

세부기술 A

세부기술 B

세부기술 C

세부기술 D

세부기술 A

세부기술 B

세부기술 C

세부기술 D

세부기술 A

세부기술 A

세부기술 B

세부기술 A

세부기술 B

세부기술 B

세부기술 C

세부기술 D

세부기술A

세부기술B


D

세부기술A

세부기술B


D

그림 5-11. 특정 기술분야의 내부 구조 분석도구

2.3 과학과 기술의 연계구조

과학(Science)과 기술(Technology)을 구분할 수 있는가의 문제와 구분할 수 있다면

그 경계는 어디인가의 문제는 매우 모호하고 난해한 문제이다. 그러나 이러한 문제에

한 명확하고 엄격한 정의를 내리는 것은 본 보고서의 연구범 밖의 문제이며, 우리

가 여기서 심을 가지는 것은 과학기술 문헌에 한 서지학 분석 는 정량 통계

분석을 수행하는 과정에서 과학기술논문과 특허문헌 간의 계를 어떻게 분석하고, 그

러한 분석을 통해 나타난 상을 어떻게 이해할 것이며, 그 게 악된 상에 어떠한

분석 의미를 부여하여 기술개발 략 수립과정에 활용할 것인가의 문제이다.일반 으로 과학기술 논문은 주로 학과 연구기 에서 활동하는 연구자들에 의해

산출된다. 기업에서 이루어지는 연구개발 성과가 논문으로 발표되는 경우는 그리 많지

않으며, 기업의 기술개발 활동의 성과는 주로 특허와 노하우의 형태로 나타난다. 물론

최근에는 학과 연구기 의 연구개발 성과를 지 재산권으로 보호하는 문제에 하여

많은 논의가 있으며, 실제 미국의 경우 일부 학은 연구 성과를 극 으로 특허화하

여 막 한 수입을 올리고 있는 사례도 쉽게 찾아볼 수 있다. 반면에 기업의 연구개발

성과는 주로 특허와 노하우로서 나타나는데, 이는 기업의 기술개발 성과는 해당 기업

의 수익 극 화를 한 핵심 역량과 직결되므로, 기업은 연구 성과가 최 한 외부에

공개되지 않도록 노력하기 때문이다. 따라서 기업의 연구개발 동향과 그 성과를 악

하기 한 거의 유일한 정보는 특허와 같이 법 보호가 보장된 산업재산권 정보라 해

도 과언이 아닐 것이다.


232

문헌서지학 는 통계 근을 통한 과학-기술 연계구조 분석은 논문의 유형으

로 발생되는 연구 성과는 보다 학술 이고 새로운 개념의 최신 기술 는 첨단 분야에

하게 연 되어 있으며, 특허의 유형으로 발생되는 연구 성과는 응용기술이나 가까

운 미래에 시장에 용될 수 있는 기술과 보다 한 계가 있다는 가정에 바탕을

두고 있다120).이러한 가정을 바탕으로 특허정보를 이용한 과학-기술 연계구조 분석은 특허에 인

용된 논문정보를 통해 해당 특허기술이 보다 원천 이고 학술 이며, 새로운 첨단 기

술 분야와 어느 정도의 근 성을 가지고 있는가를 확인하는데 이 맞추어진다. 다

시 말하면, 우리는 이러한 분석도구를 통해 해당 기술 분야가 지닌 성격을 악하고, 그 기술 분야가 학 는 연구기 에서 이루어지는 기 과학 분야와 어느 정도의 연

계성을 가지고 있는가에 한 정보를 얻을 수 있게 된다. 이 분석을 해 사용될 수

있는 표 인 분석도구는 과학연계 지수(Science Linkage)이다121).

2.4 기술간 융합관계

최근 연구개발 활동과 련된 주요한 이슈 의 하나는 여러 기술 분야들의 융합

상이다. 이러한 상은 재 기술 신 활동의 특성과 한 계를 가진다. 제품의 복

잡도와 다기술(multi-technology) 특성이 증가하고, 여러 기업과 산업이 범 한

유사 기술 분야를 공유하게 됨에 따라 기술의 수렴(technological convergence) 는

기술의 융합(technological fusion) 상이 나타나고 있는 것이다122).특허정보에는 해당 기술이 속하는 여러 분야에 한 정보가 포함되어 있다. 이러한

정보는 기술내용이나 발명자가 밝힌 다양한 용가능 분야에 한 기재내용을 통해서

도 악될 수 있으나, 특허정보는 기술 분류코드라는 유용한 형태의 정보를 제공한다. 가장 일반 인 기술 분류정보는 국제특허분류(IPC)로서 주요 국가들의 특허 데이터에

120) 이러한 가정은 지 까지 연구자들이 연구 성과를 공개하는 일반 인 행태에 근거한다. 그러나 이러한

가정에 해서 근래 들어 여러 가지 반박의 여지가 발생되고 있다. 최근 지 재산권, 특히 특허권의

보호 상이 확 되는 경향이 있으며, 기 과학 분야의 연구 성과들에 해서도 우선 으로 특허출원

을 하여 그 경제 가치에 한 보호 조치를 강구해야 한다는 인식이 확산되고 있기 때문이다. 따라서

이러한 가정의 타당성 여부는 향후 연구개발의 성과를 어떠한 방식으로 공개하는가에 한 연구개발

풍토의 변화에 따라 달라질 수 있다고 할 것이다.

121) 과학연계 지수(SL, Science Linkage)에 한 자세한 사항은 「제2장. 제3 . 7. 과학연계 지수」를 참고할 것.

122) N. Rosenberg (1976), Perspectives on Technology, Cambridge, MA: Cambridge University Press. ; F.

Kodama (1986), Technological Diversification of Japanese Industry, Science, 233, 291-296. ; F.

Kodama (1992), Technological Fusion and the New R&D, Harvard Business Review, 70(4), 70-78.


233

는 개별 특허에 해 하나 이상의 IPC 코드가 부여되어 있다. 이 밖에 주요 선진국들

은 자국의 제도 특징과 상황에 맞추어 독자 인 분류체계를 운 하고 있으며123), 이

들에 한 정보는 IPC 코드와 함께 각국의 특허 데이터에 포함되어 있다.이와 같이 특허정보가 다양한 유형의 기술 분류코드를 포함하고 있다는 사실은 특허

데이터를 사용하여 기술 간의 연결 계나 융합 상을 분석할 수 있는 가능성을 제공

한다. [그림 5-12]는 특허 데이터를 이용하여 기술융합 황을 악하기 한 일반

인 분석방법을 보여주고 있다124)125).

기술분야 A

• 특허분류 1• 특허분류 2• 특허분류 3• 특허분류 4• 특허분류 5• 특허분류 6

기술분야 B

기술분야 B

• 특허분류 5• 특허분류 6• 특허분류 7• 특허분류 8• 특허분류 9

기술분야 C

• 특허분류 9• 특허분류 10• 특허분류 11

기술분야 C

기술분야 A

A-B 융합영역

B-C 융합영역

융합영역에 포함된 특허들의 특성 분석

• 주로 어떠한 세부기술 분야에서 융합이 발생하는가?

• 최근 융합현상이 강화(또는 약화)되는 세부기술 분야는?

• 융합영역의 기술개발을 주도하고 있는 주체는?

• 예상치 못한 분야에서 융합현상이 발견되었는가?

.

.

.

기술분야 A

• 특허분류 1• 특허분류 2• 특허분류 3• 특허분류 4• 특허분류 5• 특허분류 6

기술분야 B

기술분야 B

• 특허분류 5• 특허분류 6• 특허분류 7• 특허분류 8• 특허분류 9

기술분야 C

• 특허분류 9• 특허분류 10• 특허분류 11

기술분야 C

기술분야 A

A-B 융합영역

B-C 융합영역

융합영역에 포함된 특허들의 특성 분석

• 주로 어떠한 세부기술 분야에서 융합이 발생하는가?

• 최근 융합현상이 강화(또는 약화)되는 세부기술 분야는?

• 융합영역의 기술개발을 주도하고 있는 주체는?

• 예상치 못한 분야에서 융합현상이 발견되었는가?

.

.

.

그림 5-12. 특허정보를 이용한 기술간 융합 계 분석

123) 표 인 분류체계로는 미국특허분류(USPC, The United States Patent Classification System), 유럽특

허분류(ECLA, The European Classification System) 일본의 FI(File Index), F-term(File forming

term) 등이 있다.

124) 다만, 이 그림에서 A-B 융합 역이 특허분류 5~6에 포함되는 특허들의 집합만을 의미하는 것은 아니

라는 에 유의하여야 한다. 를 들어 어떠한 특허에 특허분류 1과 9의 2가지 분류코드가 부여되어

있다면 이 특허는 A-B 융합 역에 포함되게 된다. 이러한 상이 나타날 수 있는 것은 하나의 특허에

2 이상의 분류코드가 부여될 수 있다는 에 그 원인이 있다.

125) 이러한 분석방법 이외에 「제5장. 제2 . 2.1 기반기술과 효과」에서 설명된 분석방법과 분석결과

한 기술간 융합 계를 지식흐름의 에서 악하기 한 분석도구로서 활용될 수 있다.


234

다만, 특허 분류체계를 이용하여 분석을 수행하고자 하는 경우에 분석가는 각국의

특허 데이터에 포함되어 있는 분류정보의 특성을 명확히 이해하고 있어야 한다. 이는

특허분류를 부여하는 여러 국가의 분류 담당 기 들의 업무역량과 분류를 부여하는 성

향에 차이가 있는 것이 실이기 때문이다. 따라서 이러한 분석과정에는 다양한 특허

분류에 한 풍부한 경험과 지식을 가진 문가 그룹이 반드시 참여해야 된다. 만약, 분석이 요망되는 특허 데이터에 포함되어 있는 분류정보를 사용하는 것이 하지 않

다고 단되고, 분석 상 분야의 범 가 비교 좁아 데이터의 양이 상 으로 은

경우에는 분석에 한 분류 시스템을 설계하여 사용하는 방법이 모색될 수 있을 것

이다.


235

기술경쟁력 분석3

연구개발 활동을 측정하는 지표로서 특허지표의 유용성은 특허와 연구개발 활동과의

상 계에 한 정량 연구결과에 바탕을 두고 있다. 특허지표의 유용성에 한 이

러한 연구결과들은 연구개발 활동의 투입 측면뿐만 아니라 성과 측면에 한 측정 지

표로서 특허지표가 사용될 수 있는 근거를 제시하고 있다126). 근과 분석이 상 으

로 용이한 특허정보를 활용하여 기술경쟁력을 측정할 수 있을 것이라는 이러한 가능성

은 연구개발의 동향과 기술경쟁력에 한 정보를 원하는 연구기획자나 정책수립자에게

보다 많은 기회를 제공하게 된다.특허정보를 이용한 기술경쟁력 분석은 크게 두 가지 의 지표를 사용하여 이루어

지게 된다. 하나는 특허건수를 심으로 하는 양 지표이며 다른 하나는 인용정보, 패

리 정보 등을 사용하는 질 지표이다. 한 연구개발 략의 수립을 한 략

시사 을 얻기 해 포트폴리오 매트릭스 분석을 사용할 수도 있다. 특허정보를 이용

한 기술경쟁력 분석의 결과는 기술로드맵 작성 시 투자 타당성 투자 상 분야와 연

구개발을 한 력의 필요성을 단하는데 유용한 정보를 제공한다.









투자 타당성


투자대상 분야















투자 타당성


투자대상 분야







그림 5-13. 특허정보를 활용한 기술경쟁력 분석의 유용성

126) Z. Griliches (1990), Patent Statistics as Economic Indicators - A Survey Part Ⅰ, NBER Working

Paper, 3301. ; H. Ernst (1996), Patentinformationen für die strategische Planung von Forschung und

Entwicklung. Wiesbaden, Deutscher Universitätsverlag.


236

3.1 특허지표를 이용한 기술경쟁력의 파악

특허지표를 이용한 기술경쟁력 분석은 가장 흔히 볼 수 있는 특허분석의 유형이라

할 수 있다. 가장 간단한 특허건수 분석으로부터 시기술우 지수(RTA)와 같은 상

지수는 물론, 인용정보를 이용한 기술수 분석 등은 국내외의 다양한 특허분석

보고서에서 쉽게 할 수 있다.앞서 언 한 바와 같이 특허정보를 통한 기술경쟁력 분석은 크게 양 경쟁력 분석

과 질 경쟁력 분석으로 나 어 볼 수 있다. 이 두 가지 방법 하나만을 사용하는

경우에는 어떠한 경우이든 분석가에게 불충분한 정보를 제공하게 되므로, 분석에 필요

한 데이터에 근이 가능한 경우에는 다양한 데이터를 활용하여 두 가지 측면에 한

경쟁력 분석을 모두 수행하는 것이 바람직하다.양 경쟁력을 악하기 해 주로 사용되는 지수는 특허건수, 유율, 상 지수

인 시기술우 (RTA) 지수 는 시특허우 (RPA) 지수이며, 질 수 을 악하

기 해 가장 흔히 사용되는 지수는 인용정보를 이용한 지수들이다127)128). [그림

5-14]는 특허정보를 사용하여 기술경쟁력을 악하는 일반 인 분석과정을 보여주고

있다.

양적 경쟁력 분석 질적 경쟁력 분석 종합적 판단

• 특허건수• 점유율• 현시기술우위 지수(RTA)• 현시특허우위 지수(RPA)

• 특허 당 피인용 수(CPP)• 특허영향 지수(PII)• 현재영향 지수(CII)• 특허 당 평균 청구항 수• 패밀리 규모

• 기술력 지수(TS)• 양적 경쟁력 분석 결과와 질적경쟁력 분석 결과를 함께 평가하여 경쟁력의 특성을 파악

그림 5-14. 특허지표를 이용한 기술경쟁력 분석의 일반 로세스

127) 질 수 을 평가하기 한 지수로서 청구항 수와 패 리 규모 등이 사용되는 경우도 있으나, 련된

연구들이 상 으로 인용지수에 비해 어 지수의 신뢰성과 유용성을 고려하여 인용 련 지수들이

주로 사용되고 있다.

128) 각각의 지수들의 특징과 사용방법에 한 자세한 사항은 「제2장. 특허정보의 정량 분석지표」를 참

고할 것.


237

3.2 특허 포트폴리오

연구개발 략의 수립 과정에서 가장 핵심이 되는 이슈는 한정된 자원을 어떻게 분

배하여 최 의 성과를 얻어낼 수 있을 것인가 하는 문제이다. 이러한 문제와 련하여

지 까지 자원의 분배와 련된 다양한 분석기법들이 소개되었으며, 그 의 하나가

소 포트폴리오 분석으로 불리는 분석기법이다129).포트폴리오 분석 모델은 경 략 분야에서 처음 개발되고 활용되기 시작한 분석모

델이다130). [그림 5-15]는 표 인 두 가지의 시장 포트폴리오 매트릭스를 소개하고

있다. 이 BCG 매트릭스는 상 시장 유율과 시장 성장률의 두 가지 변수로서

4개의 매트릭스 셀을 형성하고, 각각의 셀에 치되는 사업단 는 제품시장 부문에

한 략 시사 을 제공한다. 이에 비해 GE 비즈니스 스크린 매트릭스는 사업강

과 산업매력도라는 두 가지 변수로서 총 9개의 셀로 구성된 분석도구를 제공한다. GE 매트릭스의 두 가지 변수는 각각 여러 가지 요소들에 의하여 평가된 결과를 사용하여

결정된다. 이들 매트릭스의 공통 인 특징은 매트릭스를 구성하는데 두 가지의 변수를

사용한다는 것과, 이 두 가지의 변수는 기업이 향력을 발휘할 수 있는 내부 요인

(상 시장 유율, 사업강 )과 기업이 통제하기 어려운 외부 요인(시장 성장률, 산업 매력도)으로 구성된다는 것이다. 내부 요인과 외부 요인으로 구성되는 시장

의 포트폴리오 매트릭스 분석방법은 뒤에서 살펴볼 기술 의 포트폴리오 매트

릭스 분석에도 동일하게 용된다.

129) 포트폴리오 분석이라는 명칭은 그 단어 인 의미가 여러 가지로 해석될 수 있어, 의미가 명확하게

달되지 않을 수 있다. 여기에서는 포트폴리오 분석이라는 용어를 각각의 셀에 개별 인 의미가 부여되

어 있는 매트릭스를 구성하고, 그 셀에 포함되는 분석 상 분야에 분석 의미를 부여함으로써 다양한

분야에 한 략 시사 을 얻는 분석방법을 지칭하는 것으로 사용하기로 한다.

130) 다각화와 복합기업으로 표되는 1950~1960년 의 경 이론은 1960년 말부터 1970년 에 발생한 미

국 주식시장의 붕괴와 인 이션으로 인해 강한 의문을 제기받게 되었다. 이에 따라 범 하게 걸쳐

있는 다각화된 사업들에 한 자원배분을 가이드할 수 있는 실질 인 분석틀이 요구되었으며, 이러한

상황에서 BCG(The Boston Consulting Group)와 GE(General Electric)/McKinsey가 제시한 포트폴리오

매트릭스 분석은 경 분야에 엄청난 반향을 불러왔다(C. S Fleisher and B. E. Bensoussan (2002),

Strategic and Competitive Analysis, Prentice Hall).


238

LowHigh

Low

Hig

h

Question Mark(Problem Child)

Cash Cow

Star

Dog

Relative Market Share

Mar

ket G

row

th

Star• 현금 유동성은 중립적

• 전략 - 성장을 위한 투자

Question Mark• 현금유입은 부정적

• 전략 - 분석

Cash Cow• 현금유입이 높고 안정적

• 전략 - 현금회수

Dog• 현금유입은 중립 또는 부정적

• 전략 - 퇴출

High Medium Low

Hig

hM

ediu

mLo

w

Business Unit Position

Indu

stry

Attr

activ

enes

s

투자/성장(Build)

선택적 개선/방어(Hold)

수확/퇴출(Harvest)

• 전반적 매력도 : 高

• 전반적 매력도 : 中

• 전반적 매력도 : 低

LowHigh

Low

Hig

h


Cash Cow

Star

Dog


Mar

ket G

row

th

LowHigh

Low

Hig

h


Cash Cow

Star

Dog


Mar

ket G

row

th

Star• 현금 유동성은 중립적

• 전략 - 성장을 위한 투자

Question Mark• 현금유입은 부정적

• 전략 - 분석

Cash Cow• 현금유입이 높고 안정적

• 전략 - 현금회수

Dog• 현금유입은 중립 또는 부정적

• 전략 - 퇴출

High Medium Low

Hig

hM

ediu

mLo

w


Indu

stry

Attr

activ

enes

s







High Medium Low

Hig

hM

ediu

mLo

w


Indu

stry

Attr

activ

enes

s

High Medium Low

Hig

hM

ediu

mLo

w


Indu

stry

Attr

activ

enes

s







그림 5-15. BCG 매트릭스와 GE 비즈니스 스크린 매트릭스

그러나 사업단 는 제품시장 단 를 기 으로 작성되는 이러한 시장 심 포트

폴리오 매트릭스는 해당 제품에 내재되어 있는 기술단 들에 한 정보를 제공하지 못

한다는 문제 을 가지고 있어 기술 략의 수립과정에 합한 포트폴리오 분석 기법에

한 필요성이 제기되었으며, 이러한 요구에 부응하여 다양한 기술 포트폴리오 분석 모

델들이 제시되어 왔다. [그림 5-16]은 통 인 기술 포트폴리오의 표 인 두 가지

사례를 보여주고 있다. 그림에서 볼 수 있는 바와 같이 4개의 셀로 구성되는 Booz Allen Hamilton 모델131)과 9개의 셀로 구성되는 Pfeiffer 모델132)은 상호간의 매트릭

스 구조가 실질 으로 같다고 볼 수 있을 정도로 유사하다. 두 가지 매트릭스 모두 앞

서 시장 포트폴리오 매트릭스와 마찬가지로 내 변수와 외 변수의 2가지 변수를 사

용하여 매트릭스를 구성하고 있으며, 내 변수로서는 상 기술 치( 는 기술 경

쟁 우 )를, 외 변수로서는 기술 요도( 는 매력도)를 사용하고 있다.

131) J. M. Harris, R. W. Shaw, Jr. and W. P. Somers (1981), The Strategic Management of Technology,

New York, Booz Allen Inc.

132) W. Pfeiffer, W. Schneider and R. Dogl (1986), Technologie-Portfolio-Management, in: E. Staudt (Ed.),

Das Management von Innovationen, Frankfurter Allgemeine Zeitung, Frankfurt, 107-124.


239

LowHigh

Low

Hig

h

Draw

Cash in

Bet

Fold

Relative Technology Position

Tech

nolo

gy Im

port

ance

Bet• 선도적 위치 확보

• 집중적 투자

Draw• 모호한 영역

• 분석과 전략적 판단 필요

Cash in• 기술적 중요성 감소 가능성

• 세심한 분석이 필요

Fold• 투자 再考

Low High

Low

Hig

h

Relative Technological Strength(Technology Resource Strength)

Tech

nolo

gy A

ttrac

tiven

ess

• 투자(Investment)

Middle

Mid

dle

• 선택적 투자(Selective Investment)

• 투자중지, 회수(Disinvestment)

LowHigh

Low

Hig

h

Draw

Cash in

Bet

Fold


Tech

nolo

gy Im

port

ance








LowHigh

Low

Hig

h

Draw

Cash in

Bet

Fold


Tech

nolo

gy Im

port

ance








Low High

Low

Hig

h


Tech

nolo

gy A

ttrac

tiven

ess


Middle

Mid

dle



Low High

Low

Hig

h


Tech

nolo

gy A

ttrac

tiven

ess


Middle

Mid

dle



그림 5-16. 통 기술 포트폴리오 매트릭스 사례

그러나 이러한 통 인 기술 포트폴리오 매트릭스 분석들은 여러 가지 요인들에

해 인터뷰 5 척도와 같은 측정방법 등을 활용하여 작성되기 때문에 주 단

결과에 향을 받게 되고, 특정한 시 에 한 상황만이 묘사되므로 동 인 변화에

한 정보를 제공하지 못한다는 단 이 지 되어 왔다. 이러한 문제인식을 바탕으로 특

허 데이터를 이용한 기술 포트폴리오 분석방법이 제시되게 되었다. 특허 포트폴리오

매트릭스의 표 인 두 가지 분석틀이 [그림 5-17]에 제시되어 있다133).먼 [그림 5-17]의 좌측에 제시되어 있는 포트폴리오 매트릭스는 특정한 기술분야

에서 활동하는 여러 기업들의 기술개발 특성을 악하기 해 사용될 수 있는 표

인 분석틀이다. 이 분석기법은 기술개발 활동의 양 인 측면에 련된 지표와 질 인

측면에 련된 지표로서 매트릭스를 구성하고, 이 매트릭스 상에 분석 상 기업들을

치시켜 각각의 기업들의 기술개발 활동의 특성을 악하는 방법이다.

133) H. Ernst (1999), Evaluation of Dynamic Technologycal Developments by means of Patent Data, in:

K. Brockhoff, A. K. Chakrabarti and J. Hauschildt (eds), The Dynamics of Innovation: Strategic and

Managerial Implications. Heidelberg and New York, Springer, 107-132 ; H. Ernst (1998), Patent

Portfolios for Strategic R&D Planning, Journal of Engineering and Technology Management, 15, 279-308.


240

이에 반하여 [그림 5-17]의 우측에 제시되어 있는 매트릭스 분석틀은 앞서 살펴본

형 인 시장 포트폴리오 매트릭스와 기술 포트폴리오 매트릭스의 구조와 유사한 틀

로 구성되어 있다. 이 매트릭스는 기술 경쟁우 에 한 지표와 기술 분야의 매력도에

한 지표를 기 으로 구성되며, 특정 기업이나 국가와 련된 기술 분야들을 매트릭

스 상에 치시켜 으로써, 각각의 기술 분야에 해 어떠한 기술개발 략을 수립해

야 하는가에 한 략 시사 을 얻기 한 분석방법이다.

Low High

Low

Hig

h

B

C

A

D

Patent Activity

Pate

nt Q

ualit

y

A• Selective patentees of high

quality patents

B• Active patentees of high

quality patents

C• Non-active patentees of low

quality patents

D• Active patentees of low

quality patents

Low High

Low

Hig

h

Relative Patent Position

Tech

nolo

gy A

ttrac

tiven

ess


Middle

Mid

dle



Low High

Low

Hig

h

B

C

A

D

Patent Activity

Pate

nt Q

ualit

y


quality patents


quality patents


quality patents


quality patents

Low High

Low

Hig

h

B

C

A

D

Patent Activity

Pate

nt Q

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quality patents


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Low High

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Tech

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Middle

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Low

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Middle

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그림 5-17. 특허 포트폴리오 매트릭스 사례

분석가는 이와 같은 특허 포트폴리오 매트릭스 분석을 수행하고자 하는 경우에 매트

릭스를 구성하기 한 변수들을 어떻게 설계하고 측정하여야 하는가를 결정해야 한다. 일반 으로 기술의 매력도는 특허출원의 증가율을 체변수로 사용하여 측정한다. 물

론 이 증가율은 분석결과의 의미가 보다 정확하게 도출될 수 있도록 다양한 형태로 정

의될 수 있다. 한 상 인 기술경쟁 우 는 다양한 양 , 질 특허지표를 이용하여

정의될 수 있으며, 분석목 과 상 이용 가능한 데이터의 범 를 고려하여 설계되

어야 한다134).134) H. Ernst는 양 지표로서 특허출원 건수를 사용하고, 질 지표로서는 특허등록률, 유효특허 잔존율,

해외 특허출원 비율, 피인용율을 사용하여 이들 양 지표와 질 지표를 조합함으로써 상 인 기술

경쟁 우 를 측정하는 방법을 제시한 바 있다. 그러나, H. Ernst도 이러한 방법이 인 방법은 아

니며, 상황에 따라 한 측정방법이 도입되어야 함을 지 하고 있다(H. Ernst (1999), Evaluation of

Dynamic Technologycal Developments by means of Patent Data, in: K. Brockhoff, A. K.

Chakrabarti and J. Hauschildt (eds), The Dynamics of Innovation: Strategic and Managerial

Implications. Heidelberg and New York, Springer, 107-132.)


241

참고 으로 실제 분석가들이 특허 포트폴리오를 효과 으로 작성하는데 도움이 될

수 있도록 H. Ernst가 제시한 몇 가지 권고사항을 소개하는 것으로 특허 포트폴리오

매트릭스에 한 논의는 마무리 짓기로 한다.

항 목 권 고 사 항

1. 일반 사항

․ 모든 련 기술들을 살펴볼 수 있도록 분석의 을 보다 넓게 유지해야 한다. (경쟁사와 공 자의 기술 등).

․ 특허 활동과 시장 활동의 시간 기 이 응되어야 한다.

2. 특허 지표

․ 한 특허지표를 선택해야 한다. - 디자인 출원(유용한 정보를 제공하는 경우가 있다) - 특허 출원(최근의 R&D 동향) - 특허 자산(유효 특허, 특허의 질 지표) - 국제 (국가간) 비교가능성

3. 분류

․ 특허문헌에 담긴 모든 정보를 활용해야 한다(특히 록).․ IPC만으로 특허를 분류하는 것은 바람직하지 않다.․ 기술 문가의 참여가 반드시 필요하다.

4. 상 특허 우

․ 모든 기업들이 서로 경쟁하는 경우, 가장 강한 특허권자를 분석기 으로 삼는다.․ 일부 기업과 경쟁 계가 있는 경우, 가장 강한 경쟁기업을 분석기 으로 삼는다.․ 추가 으로 특허에 한 질 지표를 포함시키는 것이 바람직하다(피인용율, 등

록률, 해외출원 비율 등)

5. 기술 매력도

․ 객 기 을 으로 사용해야 한다. - 특허의 주분류와 부분류에 근거한 성장률

- 상 성장률, 최근의 특허증가 동향

- 체 인 특허출원 동향

․ 주 방법에 의한 객 기 의 평가(시장지식의 포함)․ 다양한 기술 매력도 측정방법을 용한 특허 포트폴리오의 작성(민감도 분석)

6. 보강

․ 기업수 에서의 특허 략 분석

- 련 경쟁자의 악

- 체 인 특허 경쟁 우 에 한 질 평가

․ 특허 포트폴리오와 다른 략수립 도구들의 병행 분석

출처 : H. Ernst (1998), Patent Portfolios for Strategic R&D Planning, Journal of Engineering and Technology Management, 15, 279-308.

표 5-2. 특허 포트폴리오의 효과 작성을 한 권고사항


242

연구개발의 주체와 경쟁 ․ 협력대상의 발굴4

경쟁 상과 력 상은 동 의 앞면과 뒷면의 계라고도 할 수 있다. 정책 결정권

자 는 의사 결정권자가 최종 으로 그 동 을 어떻게 뒤집느냐에 따라 력의 트

가 될 수도 있고, 시장에서 사활을 건 투를 벌이게 될 상 가 될 수도 있는 것이

다. 그런데, 이러한 경쟁 상 는 력 상의 후보에 올릴 기업이나 기 을 어떻게 확

인할 수 있을까? 우선, 시장에서의 경쟁상황이나 시장 유율, 매출정보 등과 같은 시

장 정보를 통해서 확인하는 방법을 생각해 볼 수 있다. 그러나 만약 시장에 직 나서

지 않고 연구개발에 주력해서 기술 자체를 상품화하는 소규모의 업체가 있다면? 는

기업이 확인하기 어려운 특정 학이나 연구기 에서 그 기업의 주력 제품이 시장에서

경쟁력을 완 히 상실하도록 만들게 될 새로운 기술을 개발한 상태라면?앞서 우리는 기업 는 연구기 의 기술개발 동향을 악하기 한 정보의 원천으로

서 특허정보의 유용성과 요성에 해 언 한 바 있다. 특허 데이터에 담겨있는 기술

신의 주체들에 한 정보는 뛰어난 기술 경쟁력을 갖춘 신 주체를 발굴하고, 연구

개발 활동에 참여하고 있는 다양한 기 들 간의 력 계를 악하는데 유용하게 사용

될 수 있다. 이러한 분석결과들은 기술로드맵 작성 시 투자 상 섹터를 선정하고 력

의 필요성과 그 구체 방안을 마련하는데 유용한 정보로 이용될 수 있다.









투자 타당성


투자대상 분야















투자 타당성


투자대상 분야







그림 5-18. 특허정보를 활용한 경쟁․ 력 상 분석의 유용성


243

4.1 연구섹터별 활동현황

기술 신 활동은 사회를 구성하는 다양한 역에서 진행되고 있다. 기업들은 날로

경쟁이 치열해지고 있는 시장에서 경쟁 우 를 확보하기 해 핵심역량으로서의 기술

경쟁력에 한 요성을 인식하고, 갈수록 많은 비용을 연구개발 활동에 투입하고 있

으며, 학과 여러 연구기 들도 그 본질 기능이라 할 수 있는 연구개발 활동을 지

속 으로 개하고 있다. 한 기술 신 활동에 있어서 정부의 역할도 매우 요한 것

으로 인식되고 있다. 세계의 주요 국가들은 성공 여부가 매우 불투명하거나 막 한 자

의 투입이 요구되어 민간 역에서는 연구개발 활동이 이루어지기 어려운 분야에

해 정부가 극 으로 지원하는 한편, 소기업과 같은 국가 경쟁력의 기반이 되는 부

문을 지속 으로 지원하여 기술 신 활동에 한 사회 반 인 역량을 강화시키기

해 총력을 기울이고 있다.이 게 다양한 섹터에서 기술 신 활동이 어떻게 개되고 있는가는 연구개발 정책

수립자는 물론, 경제학자와 기업의 연구개발 기획 리자들의 주요 심사 하나라

할 수 있다. 왜냐하면, 이러한 유형의 정보는 국가의 총체 인 기술 경쟁력을 제고시키

기 해 사회 각 부문이 어떠한 역할을 담당해야 하는가에 한 시사 을 제공해

수 있을 뿐만 아니라, 특정 기술분야에 한 정부의 지원을 유인하고 학과 연구기

들이 해당 분야에 극 인 연구개발 활동을 개하도록 설득시키기 한 근거로서 활

용될 수 있기 때문이다.특허정보를 이용한 섹터별 연구개발 활동 황 분석을 해서는 개별 특허들이 어떠

한 섹터로부터 산출되었는가에 한 정보가 필요하다. 즉, 특허를 산출한 발명자들의

소속 기 에 한 정보와 그 기 이 기업, 공공기 , 민간 비 리기 는 학과 같

이 사회를 구성하는 다양한 섹터 어떠한 섹터에 포함된 기 인가에 한 추가 인

정보가 요구된다. 그러나 재 부분의 특허 데이터들은 이와 련된 별도의 데이터

필드를 포함하고 있지 않다. 따라서 재로서는 섹터별 연구개발 활동 황 분석은 이

러한 정보들을 체할 수 있는 데이터를 사용하여 분석이 이루어지고 있는데, 그 체

데이터는 바로 개별 특허들의 소유권자 정보와 그 소유권자가 소속된 섹터에 한 정

보이다. 물론 이러한 데이터는 일반 으로 쉽게 근할 수 있지는 않다. 일반 으로 특

허 소유권자 정보에는 여러 특허 데이터베이스를 통해 쉽게 근할 수 있지만, 그 각

각의 소유권자에 응되는 소속 섹터 정보가 포함된 2차 가공 데이터는 한정되어 있

기 때문이다. 이와 같은 데이터 근의 곤란성은 지 까지 다량의 데이터에 한 섹터

별 분석이 이루어진 사례를 쉽게 찾아볼 수 없는 주요한 원인이기도 하다. 분석 상


244

데이터의 양 규모가 작은 경우에는 분석가가 직 이러한 정보를 분석용 데이터베이

스 내에 포함시킬 수 있으나, 데이터의 규모가 큰 경우에는 섹터 정보가 포함된 별도

의 데이터베이스를 활용하여야만 한다.[그림 5-19]는 일반 인 섹터별 연구개발 황에 한 분석방법을 보여주고 있다.

특허건수, 유율과 같은 간단한 정량지표들이 사용될 수 있으며, 필요한 경우 지 까

지 설명된 다양한 분석지표와 분석도구들을 활용하여 각각의 섹터에서 이루어지는 연

구개발 활동의 여러 측면을 살펴볼 수도 있을 것이다.

섹터 정의 섹터별 특성 분석 전략적 시사점 도출

• 분석목적과 이용 가능한 데이터베이스 등을 고려하여 섹터를 정의

• 섹터 정의의 사례

- 기업- 공공기관- 대학- 민간 비영리- 개인

• 원하는 정보 유형을 고려하여 적절한 분석지표와 분석도구를 사용

• 섹터별 연구개발 현황 분석 사례

기업

개인

공공기관

대학

등록연도

기업

개인

공공기관

대학


• 해당 분야에서 각 섹터가 담당해야할 역할은?

• 분석결과로부터 심층 분석이 필요한 것으로 판단되는 섹터는?

.

.

.

섹터 정의 섹터별 특성 분석 전략적 시사점 도출

• 분석목적과 이용 가능한 데이터베이스 등을 고려하여 섹터를 정의

• 섹터 정의의 사례

- 기업- 공공기관- 대학- 민간 비영리- 개인

• 원하는 정보 유형을 고려하여 적절한 분석지표와 분석도구를 사용

• 섹터별 연구개발 현황 분석 사례

기업

개인

공공기관

대학

등록연도

기업

개인

공공기관

대학


기업

개인

공공기관

대학


• 해당 분야에서 각 섹터가 담당해야할 역할은?

• 분석결과로부터 심층 분석이 필요한 것으로 판단되는 섹터는?

.

.

.

그림 5-19. 특허정보를 이용한 섹터별 연구개발 황 분석방법

4.2 연구개발의 협력관계

갈수록 복잡화되고 있는 기술 신 활동의 구조는 연구개발 주체들에게 연구개발 분

야를 다변화, 다양화할 것을 요구하고 있다. 그러나 특정 연구분야와 련된 모든 기술

분야에서 경쟁력을 갖추는 데에는 인력, 비용 연구개발 활동의 효율성 면에서 한계

가 있기 마련이다. 결국 연구개발의 주체는 자신이 경쟁력을 갖추어야 할 핵심 기술분

야와 다른 연구기 과의 력을 통해 기술자원을 공 받아야 할 력 상 기술분야를


245

선택해야 할 상황에 자주 직면하게 되고 있는 것이다.이러한 상황에서 가장 먼 확인되어야 할 것은 자신을 포함한 다른 연구주체들이

재 어떠한 력 계를 유지하고 있는가를 확인하는 것이라 할 수 있다. 즉, 국가 수

에서는 주요 선진국들이 특정 분야에서 어떠한 력 네트워크를 구축하고 있는가가

확인되어야 하며, 기업 는 기 수 에서는 주요 경쟁 기업이나 련 연구기 들이

서로 력하고 있는 황이 악되어야 하는 것이다. 이러한 분석을 통해 정책 수립자

와 연구개발 기획자는 재 연구개발 활동의 력구조를 이해할 수 있게 되고, 이러한

이해를 바탕으로 향후 력 상 국가, 지역 는 기 을 발굴하고 선택하기 한 기

인 정보를 획득하게 된다고 할 수 있다.특허정보를 이용한 력 계 분석은 크게 소유 차원의 력 계 분석과 연구활동 차

원의 력 계 분석으로 나 어질 수 있다. 물론 각각의 력 유형에 한 분석과정에

서는 분석에 사용되는 데이터와 분석결과를 해석하는 방법에 차이가 있게 된다135). [그림 5-20]은 특허 데이터를 활용하여 연구개발의 력 계를 분석하는 일반 인 방

법을 보여주고 있다.

분 석 목 적

• 연구성과의 소유 협력(공유관계) 분석

→ 특허출원인(또는 소유권자) 정보 이용

• 연구개발 활동의 협력 분석

→ 발명자 정보 이용

분 석 도 구

• 주요 활용지표

→ 공동출원(또는 소유) 수, 공동발명 수, 샐턴 지수

• 주요 시각화 도구

→ 선그래프, 원그래프, 막대그래프, 매트릭스, 네트워크 차트

분 석 대 상

• 분석대상의 유형

- 국가 수준의 협력관계- 지역 수준의 협력관계- 섹터 수준의 협력관계- 기관 수준의 협력관계- 개인 수준의 협력관계

C

B

A

CBAA B

CD

분 석 목 적

• 연구성과의 소유 협력(공유관계) 분석

→ 특허출원인(또는 소유권자) 정보 이용

• 연구개발 활동의 협력 분석

→ 발명자 정보 이용

분 석 도 구

• 주요 활용지표

→ 공동출원(또는 소유) 수, 공동발명 수, 샐턴 지수

• 주요 시각화 도구

→ 선그래프, 원그래프, 막대그래프, 매트릭스, 네트워크 차트

분 석 대 상

• 분석대상의 유형

- 국가 수준의 협력관계- 지역 수준의 협력관계- 섹터 수준의 협력관계- 기관 수준의 협력관계- 개인 수준의 협력관계

C

B

A

CBAA B

CD

그림 5-20. 특허정보를 이용한 연구개발의 력 계 분석방법

135) 이에 한 자세한 사항은 「제2장. 제4 . 1.공동출원 ․ 발명 특허 수」와 「제2장. 제4 . 2.샐턴 지

수」를 참고할 것.


246

4.3 주요 연구기관 및 연구개발자 분석

어떠한 기술분야에 해 연구개발 략을 수립하는 과정에서 그 분야의 주요 신

리더가 구인가를 확인하는 것은 기본 인 분석사항이라 할 수 있다. 해당 기술분야

의 신활동을 주도하는 리더는 향후 경쟁의 상이 될 수 있으며, 자신의 기술역량을

제고하여 시장에서의 경쟁 우 를 확보하기 한 력의 트 가 될 수도 있기 때문

이다.기술 신 리더는 국가나 지역 수 에서 악될 수도 있고, 기업 는 기 수 에서

악될 수도 있으며, 연구개발자 수 에서 악될 수도 있다. 이러한 다양한 수 에서

의 기술 신 리더를 악하기 한 분석과정에서 특허 데이터는 매우 유용한 정보를

제공한다. 특허 데이터에는 특허권의 소유권자와 발명자에 한 명칭, 주소, 소재지(는 거주지) 국가와 같은 다양한 정보가 담겨있기 때문이다.

그러나 일반 으로 연구개발의 기획단계에서 가장 심의 상이 되는 항목은 기

수 의 분석과 발명자 수 의 분석일 것이다. 이들에 한 정보는 실제 인 경쟁자의

악과 력 상의 발굴을 한 직 인 정보를 제공하기 때문이다.우선 기 수 의 분석은 특허출원인( 는 소유권자) 정보를 이용하여 이루어지게 된

다. 실제 인 발명활동이 이루어진 기업 는 기 을 발견하기 해서는 발명자의 소

속 기 에 한 정보를 활용하여야 하지만 특허 정보에는 이와 같은 내용의 데이터가

포함되어 있지 않으므로, 소유권자에 한 정보를 이용할 수밖에 없는 것이다. 그러나

소유권자 정보를 이용한 분석은 나름 로의 고유한 분석 의미를 갖는데, 이는 실제

시장에서의 경쟁상황에서는 발명을 산출한 기업이나 기 정보보다는 재 그 기술에

한 권리를 소유한 기 정보가 더 유용하게 사용되는 경우가 있을 수 있기 때문이

다.다음으로 발명자 수 의 분석은 특허 정보에 포함되어 있는 발명자 련 데이터를

사용하여 분석을 수행하게 된다. 이 분석과정에서 가장 문제가 되는 것은 인명의 표기

가 다양하다는 과 동명이인의 문제가 있을 수 있다는 이다. 우선 인명 표기의 다

양성 문제는 일정한 기 에 의해 발명자 명칭이 정비된 데이터베이스에 근할 수 있

다면 해결될 수 있다. 앞서 연구섹터별 활동 황 분석을 설명하면서 언 하 듯이 분

석 상 데이터의 규모가 작은 경우에는 분석가가 직 발명자 인명 데이터를 정비, 가공하여 사용할 수 있을 것이나, 데이터의 규모가 큰 경우에는 인명 데이터가 정비된

데이터베이스를 사용하는 것이 바람직할 것이다. 그 다음의 문제로서 동명이인의 존재


247

가능성 문제는 보다 해결이 곤란한 문제라고 할 수 있다. 가장 좋은 해결방법은 발명

자 개개인에게 부여된 고유정보(주민등록번호 등)를 이용하는 것이나, 일반 으로 이

러한 데이터에 근할 수 있는 분석자는 한정되어 있는 것이 실이다. 따라서 이러한

방법을 사용할 수 없는 경우에는 차선책으로 발명자의 주소와 해당 발명의 내용 등을

참고하여 분석결과를 도출할 수밖에 없다. 이 경우에는 어느 정도의 오류가 포함되어

있다는 을 분석가가 인지하고 있어야만 한다.이와 같이 소유권자 는 발명자 정보를 이용하여 주요 연구기 과 연구개발자를 탐

색하기 해서는 특허건수와 같이 연구개발 활동의 양 측면을 측정하기 한 지표와

인용정보와 같이 연구개발 성과의 기술 요성을 측정하기 한 지표들이 사용될 수

있다136).

136) 이 경우 사용될 수 있는 표 인 지표로는 기 별 는 발명자별 특허건수, 특허 당 피인용 수(CPP),

특허 향 지수(PII), 기술력 지수(TS) 등을 들 수 있다. 이 분석과정에서는 특허의 양 인 측면과 질

인 측면 모두를 살펴보는 것이 바람직하다.


248


19세기와 20세기를 걸쳐오는 동안 한정된 자원과 그로 인한 수익의 감소는 경제

성장에 한 많은 비 견해들을 불러왔다. 그러나 경제성장에 한 이와 같은 난

들은 무수히 많은 과학기술의 신활동에 의해 극복되어 왔으며, 과학기술의 진보는

시장의 수요자들에게 이 에는 상상도 할 수 없었던 새로운 제품과 서비스들을 제공해

왔다. 이러한 과거와 재의 경험들을 통해 경쟁 환경에서 활동하는 다양한 경쟁의 주

체들과 수많은 경제학자들은 경제성장과 경쟁우 확보를 해 과학기술이 차지하는

요성을 인식하기 시작하 다.새로운 21세기에 어든 지 , 세계 시장은 하나의 경쟁공간으로 통합되어 가고

있으며, 이러한 상황은 시장에서의 경쟁의 강도를 크게 증가시키고 있다. 기업

을 비롯한 다양한 경쟁의 주체들은 이러한 경쟁 환경에서 살아남기 해 력을 기울

이고 있으며, 경쟁우 의 확보를 해 핵심 역량이 되는 기술 경쟁력의 배가를 해

기술 신 활동에 특히 많은 비용을 투입하고 있다. 그러나 어떠한 국가이든, 는 어떠

한 기업이든 간에 연구개발비를 무한정 투입할 수는 없으며, 한정된 투자자원을 효율

이고 효과 으로 배분할 수 있는 략 시각과 역량이 무엇보다 요하다고 할 수

있다. 결국, 연구개발에 한 략 기획활동은 상 인 기술 경쟁력의 우 를 창출

하게 되고, 이 게 창출된 기술 경쟁력은 종국 으로는 시장에서의 경쟁우 확보로

연결되게 되는 것이다.로드맵은 기술개발의 략 기획 도구로서 1970년 에 개발된 이후 연구기획자들

의 많은 심을 받아왔으며, 실제로 많은 기업과 정부부처들이 연구개발 기획과정에

이 기법을 도입하여 왔다. 로드맵은 미래의 측과 목표달성을 한 일련의 단계 실

행과제로서 특징 지워진다. 따라서 로드맵의 작성은 략 인 사고와 미래에 한 통

찰력을 요구하는 작업으로서, 작성자의 주 단과 의사결정권자의 의지가 본질

으로 배제되기 어려운 것이 사실이다. 여기에 바로 로드맵의 함정이 도사리고 있는 것

이다. 만약, 로드맵의 작성 과정이 시장과 기술환경에 한 객 인 정보에 의해 지지

되지 못한다면, 략 인 단과 정책 인 의사결정 과정에 부정 인 향을 미치게

될 것이고, 최종 으로 결정되는 "로드(Road)"는 잘못된 지향 을 향하게 될 가능성이

높아지게 될 것이기 때문이다.그러나, 지 까지는 로드맵의 유용성과 다양한 로드맵 간의 통합 작성방법과 같은

주제에 연구의 이 맞추어져 왔으며, 실제 로드맵의 작성자에게 시장과 기술에

한 정보를 제공할 수 있는 다양한 분석도구들과 련된 논의는 상 으로 매우 은

편이었다. 이러한 상황은 로드맵 작성 실무자들이 실제 로드맵 작성 시 많은 어려움을


249

경험하게 되는 가장 큰 요인이 되어 왔으며, 로드맵의 유용성에 한 의문이 제기되는

하나의 원인으로 작용하기도 하 다. 더욱이 기술 신 과정에 한 통찰력을 얻는다는

것은 시장상황을 악하는 것보다 훨씬 난해하고 힘든 작업이라는 것은 이미 잘 알려

져 있는 사실이다.특허정보는 연구개발 활동을 악하기 한 유용한 정보로서, 일 부터 경제학자와

연구기획자들로부터 많은 주목을 받아왔다. 특히 지식기반 경제로 패러다임이 환되

면서 무형자산이 유형자산을 과하는 상이 실제로 일어나고 있으며, 특허로서 보호

받을 수 있는 상 한 선진국의 주도로 계속 확 되어 나가고 있는 등, 특허정보의

유용성과 가치는 지속 으로 높아질 망이다.특허정보의 이러한 유용성은 로드맵 작성 시에 기술 신 과정과 연구개발 동향을

악하기 한 도구로서 특허정보를 사용할 수 있을 것이라는 기 를 가지게 한다. 실제

주요 선진국들은 연구기획 과정에서 특허정보를 활용하기 한 다양한 시도를 하고 있

으며, 특허정보 분석에 한 다양한 기법과 기 들에 한 연구들이 진행되고 있다.본 보고서는 기술정보로서 이와 같은 유용성을 가진 특허정보를 로드맵 작성 시에

활용하는 것이 가능할 것이라는 인식으로부터 출발하여, 실제 어떠한 방법으로 특허분

석을 로드맵 작성과정에 목시킬 수 있을 것인가에 연구의 이 맞추어졌다. 이와

같은 논의를 해 본 보고서에서는 특허정보가 세계 으로 활용되고 있는 황을

우선 으로 간단히 살펴보았으며, 지 까지는 국내에서 특허정보와 지표에 한 연구

가 비교 활발하지 못했다는 을 감안하여 특허지표와 분석방법에 해 보다 심도

있게 살펴보았다. 마지막 부분에서는 재 특허분석이 용된 국내 로드맵의 사례와

국내외의 특허분석 보고서의 개략 인 내용을 살펴보고, 로드맵 작성자가 원하는 정보

의 항목에 따라 특허분석이 제공할 수 있는 정보의 유형과 이 때 용될 수 있는 특허

분석 기법들을 서로 응시켜 보는 방식으로 특허분석의 용가능성을 타진해 보았다.본 보고서에서 언 된 내용들이 로드맵 작성 시 특허분석을 용하기 해 검토되어

야 할 모든 내용을 포 하고 있다고는 할 수 없다. 로드맵의 작성체계 어떠한 단계

에서 어떠한 방식으로 특허분석가가 참여하고 분석결과가 반 되어야 하는가라는 시스

템 인 문제에 해서는 언 되지 못하 다. 한, 정부부처에서 이루어지는 규모 사

업이나 기술 범 가 큰 거시 로드맵에 용될 수 있는 정량 분석기법에 논의의

이 맞추어져 있어, 제품 로드맵과 같이 분석 상 기술범 가 매우 좁고, 실질 인

기술내용에 한 면 한 검토가 필용한 로드맵에 용될 수 있는 정성 분석기법들에

해서는 언 되지 못하 다. 이러한 과제들에 해서는 향후, 로드맵 작성에 참여하는

계자들과 특허분석 업무에 종사하는 분석가들이 지속 으로 심을 가지고 연구해야

할 필요성이 있다고 할 것이다.

참고문헌

250

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회 한국지식경 학회 학술심포지엄.

기술로드맵 작성을 위한 특허분석방법론

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발행일 : 1쇄 인쇄 2005년 10월 31일

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