“靶”关之材，国产替代进行时 -...
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证券研究报告
行业研究/深度研究
2018年02月12日
有色金属 增持（维持）
稀有金属Ⅱ 中性（维持）
李斌 执业证书编号：S0570517050001 研究员 [email protected]
邱乐园 执业证书编号：S0570517100003 研究员 010-56793945
孙雪琬 0755-82125064 联系人 [email protected]
1《有色金属: 锂板块情绪改善，关注低估值
龙头》2018.02
2《南山铝业(600219,增持): 深耕铝加工，业
绩增长稳定》2018.02
3《有色金属: 新能源景气下锂仍具备催化，
把握板块回调契机》2018.02
资料来源：Wind
“靶”关之材，国产替代进行时 电子材料系列 1：溅射靶材行业报告 “靶”关之材，步入国产替代进程
靶材是薄膜制备的关键原料之一，2016 年全球市场规模 113.6 亿美元，国际半导体贸易协会（WSTS）预计 2016-2019 复合增速为 13%，主要需求增量来自半导体、显示、太阳能。靶材行业的技术和客户壁垒较高，2017
日美少数企业占据 80%市场。随着国内产业政策扶持、半导体和显示产业向大陆转移等利好，国内靶材企业已打破国外垄断，成功切入全球主流半导体、显示龙头供应链，国产替代进程加速。我们看好国内靶材企业全球市场份额的提升，建议关注江丰电子、有研新材、阿石创、隆华节能。
预计 2016-2019 全球靶材增速 13%，半导体、显示、光伏为主要增长动力
随着磁控溅射技术发展，高纯溅射靶材成为制备薄膜材料的关键原料之一，主要应用于平板显示、记录媒体、电子器件半导体、太阳能、镀膜玻璃等；靶材的纯度、组织、晶粒尺寸等明显制约镀膜质量。WSTS 数据显示，2016
年全球溅射靶材市场需求达 113.6 亿美元，并预计 2016-2019 复合增速达13%，2019 年将超过 163 亿美元。2016 全球靶材下游结构中，半导体占10%、平板显示占 34%、太阳能电池占 21%、记录媒体占 29%，靶材性能要求依次降低；其中前三大应用需求增速超过靶材整体增速，是靶材需求增长的主要驱动力。
市场集中度高，日、美占据 80%高端靶材市场
溅射靶材由于其高技术、高投资、高客户壁垒，具有规模化生产能力企业较少，以霍尼韦尔、日矿金属、东曹、普莱克斯等为代表的靶材龙头企业2017 年占据全球约 80%靶材市场。美、日等跨国企业产业链较为完整，囊括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用各个环节，主导高端的半导体靶材市场；韩国、新加坡及中国台湾地区擅长磁记录及光学薄膜领域，原料多从国外进口；中国靶材产业正处于起步阶段，逐步切入全球主流半导体、显示、光伏等龙头企业客户，原料以进口为主。
国内靶材需求和供给反差悬殊，国产替代进程加速
2015 国内靶材需求全球占比近 25%，年增速约 20%；但国内靶材企业市场份额不到 2%，供需比例反差明显。随着国内溅射靶材技术的成熟和高纯铝生产技术的提高，我国靶材生产成本优势明显，靶材原料之一高纯铝的国内进出口量差距也在逐步缩小。随着 2019 年国家进口靶材免税期结束，国内靶材企业优势更加突出。此外国家政策鼓励半导体和显示产业发展，我们预计 2018-2020 年国内靶材需求将维持 20%以上高速增长，市场份额有望进一步扩大。
国产靶企业异军突起，产能扩张正当时
伴随靶材产业发展，我国出现少量专业从事高纯溅射靶材研发和生产的企业，参与国际化竞争。建议关注标的：1）江丰电子：国内半导体靶材龙头，成功打破日、美垄断，并开始布局显示靶材。2）有研新材：有研集团控股企业，材料研发实力雄厚，实现半导体高纯金属和靶材一体化供应。3）阿石创：国内平面显示靶材领先企业，伴随显示产业发展机遇，快速扩建产能。4）隆华节能：收购四丰电子、广西晶联，显示靶材成为新增长极。
风险提示：半导体、显示和薄膜太阳能电池对靶材需求增速不及预期。
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有色金属 沪深300
一年内行业走势图
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行业评级：
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正文目录
“靶”关之材，国家级战略产业 ....................................................................................... 4
溅射靶材是薄膜制备的关键原料 ............................................................................... 4
磁控溅射技术发展推升靶材需求 ........................................................................ 4
溅射靶材广泛用于半导体、显示、磁记录、光伏等领域 ................................... 4
高制造壁垒铸造“靶”关之材 ................................................................................... 6
靶材纯化：源头材料控制 ................................................................................... 6
靶材制备：严格工艺控制 ................................................................................... 7
靶材性能直接影响溅镀薄膜质量 ........................................................................ 7
全球靶材产业稳步增长，国产替代进程加速 ..................................................................... 8
全球靶材市场稳步增长，市场集中度高 ..................................................................... 8
预计 2016-2019 全球靶材市场增速达 13% ....................................................... 8
溅射靶材产业分布区域特征明显 ........................................................................ 8
溅射靶材企业集中度高，主要企业占据 80%全球市场 ...................................... 9
国内靶材产业加速步入国产替代化进程 ..................................................................... 9
中国靶材市场全球占比有望提升 ........................................................................ 9
国内高纯铝原料进出口量差距缩小 .................................................................. 10
国产靶材企业异军突起 .................................................................................... 11
靶材需求增长主要驱动力：半导体、显示、薄膜太阳能电池 .......................................... 12
平面显示：靶材最大应用市场 ................................................................................. 12
靶材是平面显示各类镀膜制备关键原料 ........................................................... 12
平板显示是国内拉动溅射靶材需求的主要动力 ................................................ 13
2016 年我国平面显示靶材需求全球占比提升至 30%以上 ............................... 13
半导体：靶材应用的战略高地 ................................................................................. 14
国家政策推动半导体产业快速发展 .................................................................. 15
半导体产业向国内转移，材料步入快速发展期 ................................................ 15
2011-2016 全球半导体用靶材复合增长率 3.17% ............................................ 16
薄膜太阳能：靶材应用的后起之秀 .......................................................................... 17
光伏产业孕育靶材发展机遇 ............................................................................. 17
我国太阳能靶材有望随薄膜太阳能电池产业快速发展 ..................................... 18
靶材主要上市企业简介 .................................................................................................... 20
江丰电子（300666）：国内半导体溅射靶材龙头，成功打破国外垄断 ............ 20
有研新材（600206）：雄厚材料研发实力，国内高纯金属靶材一体化供应 ..... 20
阿石创（300706）：国内平面显示靶材领先企业 ............................................. 21
隆华节能（300706）：环保、军工大布局，显示靶材成为新增长极 ................ 21
风险提示 .................................................................................................................. 21
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图表目录
图表 1： 靶材的工作原理 ................................................................................................. 4
图表 2： 溅射靶材发展历程 ............................................................................................. 4
图表 3： 溅射靶材产业链 ................................................................................................. 5
图表 4： 溅射靶材应用分类 ............................................................................................. 5
图表 5： 靶材提纯方法..................................................................................................... 6
图表 6： 靶材制备方法..................................................................................................... 7
图表 7： 溅射靶材的性能控制指标 .................................................................................. 7
图表 8： 2014-2016 全球靶材市场规模 ........................................................................... 8
图表 9： 2016 年全球溅射靶材应用结构 ......................................................................... 8
图表 10： 全球主要溅射靶材企业 .................................................................................... 9
图表 11： 近年集成电路行业相关政策 ........................................................................... 10
图表 12： 2009-2016 年我国高纯铝进出口量 ................................................................ 10
图表 13： 2009-2016 年我国高纯铝产量 ....................................................................... 10
图表 14： 我国溅射靶材相关上市企业 ........................................................................... 11
图表 15： 2012-2017 年我国信息记录材料市场规模 ..................................................... 12
图表 16： 平面显示行业镀膜工艺 .................................................................................. 12
图表 17： 平面显示靶材品种 ......................................................................................... 13
图表 18： 2012-2016 年我国平板显示产业规模增长情况 .............................................. 13
图表 19： 2013-2016 年全球平面显示靶材市场规模 .................................................... 14
图表 20： 2013-2016 年中国平面显示靶材市场规模 .................................................... 14
图表 21： 半导体靶材种类和应用 .................................................................................. 14
图表 22： 半导体主流靶材工艺品种组合 ....................................................................... 14
图表 23： 2012-2016 全球半导体产业市场规模 ............................................................ 15
图表 24： 2012-2016 中国半导体产业市场规模 ............................................................ 15
图表 25： 2012-2016 年全球半导体材料市场规模 ......................................................... 16
图表 26： 2012-2016 年中国半导体材料市场需求 ......................................................... 16
图表 27： 2011-2016 年全球半导体用溅射靶材市场规模 .............................................. 16
图表 28： 2010-2016 我国半导体芯片用靶材市场规模 ................................................. 17
图表 29： 国内在建的 12 寸晶圆制造厂 ......................................................................... 17
图表 30： 薄膜太阳能电池各功能层的靶材种类 ............................................................ 18
图表 31： 2011-2016 年全球太阳能用靶材市场规模 ..................................................... 18
图表 32： 晶硅太阳能电池和薄膜太阳能电池特点 ......................................................... 18
图表 33： 2010-2016 年我国累计光伏装机容量 ............................................................ 19
图表 34： 2010-2015 年我国薄膜太阳电池产量 ............................................................ 19
图表 35： 靶材主要上市企业估值表 .............................................................................. 20
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“靶”关之材，国家级战略产业
溅射靶材是薄膜制备的关键原料
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，
而形成高速度流的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体
表面的原子离开固体并沉积在基体表面。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称
为溅射靶材。
图表1： 靶材的工作原理
资料来源：江丰电子招股说明书，华泰证券研究所
磁控溅射技术发展推升靶材需求
溅射技术 19 世纪中期被发明，直到 20 世纪后期才应用于大规模生产。1842 年格波夫在
实验室中发现了阴极溅射现象，1970 年商业化的磁控溅射设备逐渐应用于实验室和小型
生产。自 20 世纪 80 年代，以集成电路、信息存储、液晶显示器、光存储器、电子控制
器为主的电子与信息产业开始进入高速发展时期，磁控溅射技术才从实验室应用真正进入
工业化规模生产应用领域。自 20 世纪 90 年代以来，随着微电子、平板显示器、镀膜玻璃、
薄膜太阳能、光学薄膜、工具装饰镀膜等领域突飞猛进地发展，靶材已逐渐发展成为一个
专业化产业，世界的靶材市场规模日益扩大。特别是近几年随着触摸屏、低辐射节能（low-e）
玻璃、汽车产业、手机产业等不断迅猛发展，对各种功能薄膜、装饰薄膜的需求越来越大，
并且要求越来越高，不断更新换代。
图表2： 溅射靶材发展历程
资料来源：《国内外磁控溅射靶材的现状及发展态势》，华泰证券研究所
溅射靶材广泛用于半导体、显示、磁记录、光伏等领域
靶材制造和溅射镀膜是靶材制备的关键环节。溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制
造、溅射镀膜和终端应用等环节。其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链
中的关键环节。
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图表3： 溅射靶材产业链
资料来源：江丰电子招股说明书，华泰证券研究所
溅射靶材按其化学成分、几何形状和应用领域不同而有多种不同的分类方法。较常用的分
类方法是根据应用领域进行划分，主要包括记录介质靶材、半导体靶材、显示薄膜靶材、
超导靶材和光学靶材等；其中显示靶材、太阳能靶材和半导体靶材是市场增速较快、景气
度较高的三类靶材。
图表4： 溅射靶材应用分类
靶材分类 应用场合 材料 要求
半导体关
联靶材
电极、布线膜、扩散阻挡
膜、粘附膜、电容器绝缘
膜
钨、钨钛、钛、钽、铝合金、铜、
硅化物等
靶材要求很高，对杂质含量
要求要求较高，价格昂贵
磁记录靶
材
垂直磁记录薄膜、硬盘用
薄膜、薄膜磁头、人工晶
体薄膜
铬、钴、钴铁、镍等 器件高存储密度，高存储速
度
太阳能光
伏靶材
太阳能电池薄膜 氧化锌铝靶、氧化锌靶、锌铝靶、
钼靶、硫化镉靶等
光电转化率高
显示靶材 透明导电膜、电极布线膜、
电致发光薄膜
掺锡氧化铟（ITO）、铌靶、硅靶、
铬靶、钼靶、铝靶、铝合金靶、铜
靶、铜合金等
显示膜纯度要求高、材料面
积大、均匀性好
电子器件
靶材
薄膜电阻、薄膜电容 镍铬靶、镍铬硅靶、铬硅靶、钽靶、
镍铬铝靶
温度系数小、稳定性好
镀膜玻璃
靶材
节能玻璃 银靶、铬靶、钛靶、镍铬靶、锌锡
靶、硅铝靶、氧化钛靶
低辐射、节能控光
其他领域：工具装饰靶材、光学薄膜靶材、屏蔽靶材、非导电薄膜靶材、润滑靶材
资料来源：广东省真空学会，华泰证券研究所
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高制造壁垒铸造“靶”关之材
金属靶材的制备中包括材料纯化和靶材制备两个过程。纯化过程中需确保降低靶材中杂质
含量，制备过程需确保靶材表面平整程度。
靶材纯化：源头材料控制
纯度是溅射靶材的基础。高纯度乃至超高纯度的金属材料是生产高纯溅射靶材的基础，以
半导体芯片用溅射靶材为例，若溅射靶材杂质含量过高，则形成的薄膜无法达到使用所要
求的电性能，并且在溅射过程中易在晶圆上形成微粒，导致电路短路或损坏，严重影响薄
膜的性能。
材料纯化过程中主要方法包括化学提纯化和物理提纯法。
1) 化学提纯法：分为湿法提纯和火法提纯，湿法提纯包括离子交换、溶剂萃取、置换沉
淀和电解精炼等；火法提纯包括氯化精馏、碘化热分解、金属有机物热分解、歧化分
解、熔析精炼和熔盐电解等。目前应用最多的是电解精炼提纯，其原理是在电解过程
中，利用杂质金属和主金属在阴极上析出电位差异从而达到提纯目的。常见的如高纯
Cu、Co、Ni、Ag 和 Ti。
2) 物理提纯法：利用主体金属与杂质物理性质差异，采用蒸发、凝固、结晶、扩散、电
迁移等物理过程去除杂质，具体方法包括区域熔融法、偏析提纯法、真空蒸馏法、单
晶法和电迁移法，一般此类提纯在真空条件下进行，一些吸气性很强的金属需要在高
真空和超高真空条件下完成提纯，其原理是在此条件下降低气体分子在金属中溶解度
从而实现提纯，对于低熔点的 Al、Cu、Au 和 Ag 等金属及其合金等采用真空感应熔
炼制备；对于高熔点的 Ti、Co、Ta 和 Ni 等金属采用真空电子束炉或电弧熔炼制备。
图表5： 靶材提纯方法
资料来源：《高纯贵金属靶材在半导体制造中的应用与制备技术》，华泰证券研究所
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靶材制备：严格工艺控制
溅射靶材制造环节首先需要根据下游应用领域的性能需求进行工艺设计，然后进行反复的
塑性变形、热处理，需要精确地控制晶粒、晶向等关键指标，再经过焊接、机械加工、清
洗干燥、真空包装等工序。目前制备靶材的方法主要有铸造法和粉末冶金法。
1) 铸造法：将一定成分配比的合金原料熔炼，再将合金熔液浇注于模具中，形成铸锭，
最后经机械加工制成靶材。铸造法在真空中熔炼、铸造。常用的熔炼方法有真空感应
熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等。其优点是靶材杂质含量(特别是气体杂
质含量)低，密度高，可大型化；缺点是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金
属，普通熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材。
2) 粉末冶金法：将一定成分配比合金原料熔炼，浇注成铸锭后再粉碎，将粉碎形成的粉
末经等静压成形，再高温烧结，最终形成靶材。粉末冶金法的优点是靶材成分均匀；
缺点是密度低，杂质含量高。常用的粉末冶金工艺包括冷压、真空热压和热等静压等。
图表6： 靶材制备方法
资料来源：《高纯贵金属靶材在半导体制造中的应用与制备技术》，华泰证券研究所
靶材性能直接影响溅镀薄膜质量
靶材制约着溅镀薄膜的物理、力学性能，影响镀膜质量。高纯溅射靶材产品主要应用于半
导体、磁记录、平板显示器以及太阳能电池产业，半导体产业对溅射靶材纯度、内部微观
结构等方面都设定了比较苛刻的标准，对溅射靶材的要求是最高的，价格也最为昂贵；平
面显示器、太阳能电池、磁记录对于溅射靶材的纯度和技术要求略低一筹，但随着靶材尺
寸的增大，对溅射靶材的焊接结合率、平整度等指标提出了更高的要求。
图表7： 溅射靶材的性能控制指标
性能 对靶材质量影响
杂质低、纯度高 靶材的纯度影响薄膜的均匀性
如果靶材中夹杂物过多，会在晶圆表面留下微粒，导致互联线短路或断路
高致密度 高致密度靶材导电、导热性好、强度高、电阻率低、透光率高
溅射功率小、成膜速率高、薄膜不易开裂、使用寿命长
成分和组织均匀 保证镀膜质量的稳定
晶粒尺寸小 靶材的晶粒尺寸越细小，溅镀薄膜的厚度分布越均匀，溅射速率越快
资料来源：欧凯靶材官方网站，华泰证券研究所
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全球靶材产业稳步增长，国产替代进程加速
全球靶材市场稳步增长，市场集中度高
预计 2016-2019 全球靶材市场增速达 13%
根据全球半导体贸易统计协会（WSTS）数据，2016 年全球溅射靶材市场容量达 113.6
亿美元，相比于 2015 年的 94.8 亿美元增长 20%。全球半导体贸易统计协会（WSTS）预
测 2016-2019 年均复合增长率达 13%，到 2019 年全球高纯溅射靶材市场规模将超过 163
亿美元。
半导体、显示、太阳能三大应用成为靶材需求增长主要驱动力。2016 年全球靶材市场的
下游结构中，半导体占比 10%、平板显示占 34%、太阳能电池占 21%、记录媒体占 29%，
靶材性能要求依次降低。
图表8： 2014-2016 全球靶材市场规模 图表9： 2016 年全球溅射靶材应用结构
资料来源：全球半导体贸易统计协会（WSTS），华泰证券研究所 资料来源：全球半导体贸易统计协会（WSTS），华泰证券研究所
溅射靶材产业分布区域特征明显
日本、美国：领导高端半导体溅射靶材市场。溅射靶材最高端的应用是在超大规模集成电
路芯片制造领域，具有规模化生产能力的企业数量相对较少，主要分布在美国、日本等国
家和地区，产业集中度较高。美国、日本跨国集团产业链完整，囊括金属提纯、靶材制造、
溅射镀膜和终端应用各个环节，具备规模化生产能力，在掌握先进技术以后实施垄断和封
锁，主导着技术革新和产业发展。
韩国、新加坡及中国台湾地区：在磁记录及光学薄膜领域具备一定优势。韩国、新加坡、
台湾地区的靶材企业在磁记录、光学薄膜等领域优势明显；但靶材服务厂商普遍缺少核心
技术及装备，不能够在金属的提纯、组织的控制等核心技术领域形成竞争力，溅射靶材的
材料即靶坯依然依赖美国和日本的进口。
中国：起步阶段迎来投资高峰，半导体和液晶面板向大陆转移趋势明显。超高纯金属材料
及溅射靶材在我国还属于较新的行业，以芯片制造厂商、液晶面板制造企业为代表的下游
溅射镀膜和终端用户正在加大力度扩展产能。从全球来看，半导体及液晶面板行业制造向
中国大陆转移趋势愈演愈烈，中国正在迎来这一领域的投资高峰。为此高端溅射靶材的应
用市场需求正在快速增长。
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市场规模（亿美元） 增速（右轴）
平板显示器34%
记录媒体29%
半导体10%
太阳能电池21% 其他
6%
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溅射靶材企业集中度高，主要企业占据 80%全球市场
溅射靶材企业集中度高，2017 年主要企业占据全球约 80%市场份额。以霍尼韦尔（美国）、
日矿金属（日本）、东曹（日本）等跨国集团为代表的溅射靶材生产商较早涉足该领域，
经过几十年的技术积淀，凭借其雄厚的技术力量、精细的生产控制和过硬的产品质量居于
全球溅射靶材市场的主导地位，2017 年占据约 80%市场份额。
图表10： 全球主要溅射靶材企业
名称 地区 简介
2017 年市
场份额 行业地位
日矿金属 日本 主要产品包括铜箔、复合半导体、金属粉末、溅射
靶材等，其中溅射靶材主要用于大规模集成电路、
平板显示、相交光盘等
30% 全球最大的靶材供应
商，铜靶材占比 80%
霍尼韦尔 美国 并购 JohnsonMatthey 靶材厂
主要靶材包括钛铝靶、钛靶、铝靶、铜靶等。
20%
东曹 日本 溅射靶材在美国、日本、韩国和中国的生产基地生
产，主要用于半导体、太阳能发电、平板显示器和
磁记录媒体等领域
20%
普莱克斯 美国 溅射靶材主要应用于电子及半导体行业 10% 铝靶材为优势品种
住友化学 日本 主要产品包括滤色镜、光学功能薄膜、彩色光阻剂、
导光板、触摸屏面板、溅射靶材等
爱发科 日本 溅射靶材主要应用于平板显示、半导体、太阳能电
池等领域，此外爱发科还可以生产 IT0 靶材
资料来源：阿石创招股说明书，WASA，华泰证券研究所
溅射靶材客户市场结构相对分散。作为溅射靶材客户端的溅射镀膜环节具有规模化生产能
力的企业数量相对较多，但质量参差不齐；美国、欧洲、日本、韩国等知名企业居于技术
领先地位，品牌知名度高、市场影响力大，通常会将产业链扩展至下游应用领域，利用技
术先导优势和高端品牌迅速占领终端消费市场，如 IBM、飞利浦、东芝、三星等。
客户壁垒：严认证、长周期。高纯溅射靶材企业进入国际市场，需要通过部分国际组织和
行业协会设置的质量管理体系标准，例如，应用于汽车电子的半导体厂商要求靶材供应商
通过 ISO/TS16949 质量管理体系认证。下游客户往往还会进行合格供应商认证，认证过
程主要包括技术评审、产品报价、样品检测、小批量试用、批量生产等几个阶段，根据国
内靶材企业公开资料，一般需要 2-3 年时间。为了降低供应商开发与维护成本，保证产品
质量的持续性，客户不会轻易更换供应商。
国内靶材产业加速步入国产替代化进程
中国靶材市场全球占比有望提升
2015 国内靶材市场需求全球占比近 25%，但国内企业市场份额不到 2%。需求端，近年
得益于半导体、平板显示等下游市场向大陆转移的确定性趋势，国内靶材市场需求增速较
快，据中国电子材料行业协会统计，2015 年国内高纯溅射靶材市场的市场需求规模约
153.5 亿人民币，占全球市场的 24.17%。同比 2014 年的 128.7亿人民币，增长19.27%。
供给端，国内靶材企业市场份额不到全球 2%，供需比例反差较大，有望成为国内溅射靶
材企业成长动力；再加上国内溅射靶材市场的高增长和国内溅射靶材企业的本土优势，国
内溅射靶材企业的成长空间将有望打开。
2018 年底进口靶材免税期结束，利好国内靶材企业。2015 年 11 月财政部、发改委、工
信部、海关总署、国家税务总局联合发布《关于调整集成电路生产企业进口自用生产性原
料、消耗品、免税商品清单的通知》，《通知》规定：进口靶材的免税期到 2018 年年底结
束。这意味着从 2019 年开始，日、美靶材需要缴纳 5-8%关税；该项政策明显利好国内靶
材企业。
行业研究/深度研究 | 2018 年 02 月 12 日
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国内电子和材料产业政策扶持靶材产业链发展。近年来，为推动靶材产业的发展、增强技
术创新能力，国家先后出台了多项专项政策和资金支持措施。国家产业政策、研发基金的
出台和落实，为溅射靶材行业的快速发展营造了良好的环境。
预计 2018-2020 年国内溅射靶材市场增速维持在 20%以上。随着国内溅射靶材技术成熟
和高纯铝生产技术的提高，我国靶材生成本优势明显；靶材原料之一高纯铝的国内进出口
数量的差距也在逐步缩小。随着 2019 年进口靶材免税期结束，国内靶材企业优势更加突
出。此外国家政策鼓励半导体和显示产业发展，也在大规模向大陆转移；从下游需求角度，
国内半导体、平面显示、薄膜太阳能产业高速增长，也将支撑国内靶材的需求。综上，我
们预计 2018-2020年国内靶材规模增速将不低于 2015年水平，有望维持在 20%增速以上。
图表11： 近年集成电路行业相关政策
发布时间 发布单位 政策名称
2014-04 发改委、工信部 《关于组织实施新型平板显示和宽带网络设备研发及产
业化专项有关事项的通知》
2014-10 发改委、工信部 《2014-2016 年新型显示产业创新发展行动计划》
2014-10 发改委、财政部、工信部 《关键材料升级换代工程实施方案》
2015-05 国务院 《中国制造 2025》
2016-09 工信部 《有色金属工业发展规划（2016-2020 年）》
2016-10 工信部 《产业技术创新能力发展规划（2016-2020 年）》
2016-12 发改委、工信部、财政部 《新材料产业发展指南》
2016-12 国务院 《“十三五”国家战略性新兴产业发展规划》
2017-09 工信部 重点新材料首批次应用示范指导目录（2017 年版）
资料来源：各部委网站，华泰证券研究所
国内高纯铝原料进出口量差距缩小
国内溅射靶材的高纯金属原料多数依靠进口。化学纯度是影响薄膜材料性能的关键因素，
高纯金属原材料是靶材制备的基础。国内虽然拥有生产溅射靶材所需的各种基础矿源，但
金属提纯技术有限，提纯出来的金属材料绝大部分达不到高纯溅射靶材的生产要求，长期
以来，国内厂商主要通过从国外进口获得高纯金属供给。全球范围内，高纯金属产业集中
度较高，美国、日本等国家的高纯金属生产商依托先进的提纯技术在产业链中居于十分有
利的地位，对下游具有较强的议价能力。
2009-2016 我国高纯铝进出口量差距逐步缩小。随着国内溅射靶材技术的成熟和高纯铝生
产技术的提高，我国靶材生产有相对的低成本优势。过去典型靶材种类之一——高纯铝仍
主要依赖进口；但随着国内高纯铝的产量逐年增加，从 2009-2016 年进出口量的差距一直
在缩小，2013、2016 年高纯铝出口量超过进口量。2016 年我国高纯铝产量约为 2009 年
的 3 倍。
图表12： 2009-2016 年我国高纯铝进出口量 图表13： 2009-2016 年我国高纯铝产量
资料来源：《2017-2022 年中国金属靶材行业市场发展现状》，华泰证券研究所 资料来源：《2017-2022 年中国金属靶材行业市场发展现状》，华泰证券研究所
0.00
0.20
0.40
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0.80
1.00
1.20
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2009 2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016
万吨
进口量 出口量
0%
5%
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15%
20%
25%
30%
35%
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0
2
4
6
8
10
12
14
2009 2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016
产量（万吨） 增速（右轴）
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国产靶材企业异军突起
国内部分企业积极在技术领域寻求突破，进入国际靶材市场。国内市场中，高纯溅射靶材
产业发展较晚，具有规模化生产和较强研发能力的企业较少。近年来，受益于国家从战略
高度持续地支持电子材料行业的发展及应用推广，我国国内开始出现少量专业从事高纯溅
射靶材研发和生产的企业，突破靶材专业技术门槛，已在国内靶材市场占据一定份额，主
要有江丰电子、阿石创、有研新材和隆华节能等，并成功开发出一批能适应高端应用领域
的溅射靶材。通过积极参与溅射靶材的国际化市场竞争，我国改变了高纯溅射靶材长期依
赖进口的不利局面。
图表14： 我国溅射靶材相关上市企业
公司 简介 主要应用领域 产能数据 主要客户
江
丰
电
子
国内材料最齐全、工艺最完整、设备能力最强、产能
最大的超高纯度金属材料及溅射靶材生产基地。江丰
电子主营业务为高纯溅射靶材的研发、生产和销售，
主要产品为各种高纯溅射靶材，包括铝靶、钛靶、钽
靶、钨钛靶等。
半导体
液晶显示器
太阳能
2016 年产 400 吨平板显
示器用钼溅射靶材坯料、
300 吨电子级超高纯铝的
生产能力
半导体客户包括台积电、联华电子、
格罗方德、中芯国际、索尼、东芝、
瑞萨、美光、海力士、华虹宏力、意
法半导体、英飞凌；液晶显示应用客
户包括京东方、华星光电；太阳能电
池客户 SunPower 等国内外知名企
业。
有
研
新
材
有色金属研究院的唯一上市公司平台。集半导体材
料、稀土材料、光电材料、高纯/超高纯金属材料、生
物医用材料等多个重要领域于一身的新材料企业。
薄膜新材料
生物医用材料
2016 年高纯 金属产量
49.86 吨，稀土主要产品
4255 吨，光电半导体产品
19.12 吨，红外光学、光纤
产品 13 吨。
优美科汽车催化剂（苏州）、庄信万
丰（上海）催化剂
阿
石
创
集镀膜材料研发、生产、销售等为一体的综合性镀膜
材料企业。产品主要应用在光学/光通讯类、半导体类、
平板显示器类、太阳能类、Low-E 玻璃/汽车玻璃类、
磁存储类、工具/装饰类、LED 类等领域。特别是蒸发
镀膜材料。产品远销日本、美国、德国、韩国等国家。
平板显示
光学元器件
节能玻璃
2016 年度溅射靶材产量
98,217.97 公 斤 ， 销 量
100,675.96 公斤。蒸镀材
料产量 76,172.14 公斤，销
量 75,871.67 公斤。
北京北方光电有限公司、中电科技
（南京）电子信息发展有限公司、湖
北森浤光学有限公司、中国南玻集团
股份有限公司、苏州市联超光电科技
有限公司
隆
华
节
能
公司在传热装备和水处理领域集研发、设计、制造及
项目总承包、运行管理于一身的综合服务商。收购四
丰电子，专业从事 TFT-LCD/AMOLED、半导体 IC 制
造用高纯溅射靶材——高纯钼/铜/钛等产品生产。
半导体 IC 制造 新材料产品产量分别为
4335.54 万元和 5585.32
万元。
中海石油、京东方显示、吉林电力股
份白城发电公司、一拖集团、丰源热
力
资料来源：各公司公告，华泰证券研究所
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靶材需求增长主要驱动力：半导体、显示、薄膜太阳能电池
半导体、显示、薄膜太阳能电池成为靶材需求增长的主要驱动力。2016 年全球靶材市场
的下游结构中，半导体、平板显示、记录媒介、太阳能电池、半导体为主要下游应用。
2012-2017 年我国信息记录材料市场规模复合增速约 10%；而半导体、显示、薄膜太阳能
电池三大应用国内市场需求增速在 20%以上，成为驱动靶材需求增长的主要动力。
图表15： 2012-2017 年我国信息记录材料市场规模
资料来源：《2014-2019 年中国磁条市场深度调查及投资前景评估询报告》，华泰证券研究所
平面显示：靶材最大应用市场
靶材是平面显示各类镀膜制备关键原料
平面显示是靶材的最大应用，2016 年全球市场占比约 34%。平面显示是靶材应用的最大
领域，2016 年市场占比为 34%。平板显示器主要包括液晶显示器（LCD）、等离子显示器
（PDP）、有机发光二极管显示器（OLED）等，以及在 LCD 基础上发展起来的触控（TP）
显示产品。平板显示器多由金属电极、透明导电极、绝缘层、发光层组成，为了保证大面
积膜层均匀性，提高生产率和降低成本，溅射技术越来越多地被用来制备这些膜层。平面
显示行业一般需要靶材纯度达到 99.999%（5N）以上。
显示面板和触控屏面板是平板显示采用 PVD 镀膜的主要环节。平板显示面板的生产工艺
中，玻璃基板要经过多次溅射镀膜形成 ITO 玻璃，然后再经过镀膜，加工组装用于生产
LCD 面板、PDP 面板及 OLED 面板等。触控屏的生产，则还需将 ITO 玻璃进行加工处理、
经过镀膜形成电极，再与防护屏等部件组装加工而成。此外，为了实现平板显示产品的抗
反射、消影等功能，还可以在镀膜环节中增加相应膜层的镀膜。
图表16： 平面显示行业镀膜工艺
资料来源：阿石创招股说明书，华泰证券研究所
0.00%
2.00%
4.00%
6.00%
8.00%
10.00%
12.00%
14.00%
0
1000
2000
3000
4000
5000
6000
7000
8000
9000
10000
2012 2013 2014 2015 2016 2017
我国信息记录材料市场规模（亿元） 增速（右轴)
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平面显示镀膜用靶材主要品种有：钼靶、铝靶、铝合金靶、铬靶、铜靶、铜合金靶、硅靶、
钛靶、铌靶和氧化铟锡（ITO）靶材等。
图表17： 平面显示靶材品种
平面显示类靶材品种 材料 特点 应用领域
ITO 靶材 铟 对可见光透明、导电性良好 液晶显示玻璃、幕墙玻璃和飞机、汽车
上的防雾挡风玻璃等
钨钼合金旋转靶材 钨、钼 组织均匀晶粒细小、高耐热冲击 液晶显示器和等离子显示器领域
资料来源：晶联光电官网，华泰证券研究所
平板显示是国内拉动溅射靶材需求的主要动力
2012-2016 国内平板显示增速在 25%以上。中国大陆从上世纪 80 年代开始进入液晶显示
领域，在政府政策导向和产业扶植下，我国大陆液晶显示产业快速发展，成为平板显示行
业发展速度最快的地区。根据赛迪顾问数据显示，2016 年中国平板显示器件产业整体规
模达到 1500 亿元，同比增长 25.99%；2012-2016 年国内平板显示增速基本保持在 25%
以上。
图表18： 2012-2016 年我国平板显示产业规模增长情况
资料来源：赛迪顾问，华泰证券研究所
LCD 大尺寸趋势支撑显示溅射靶材需求。根据 HIS Market 数据，全球大尺寸 LCD 面板
需求在 2016-2018 年预计每年增长 5-6%；而全球 LCD 面板产业重心逐步向大陆转移，
HIS 预测 2018 年中国将成为全球最大平面显示供应商，市占率达 35%。由于液晶显示用
溅射靶材尺寸普遍较大，液晶面板出货量平稳较快的增长速度将为溅射靶材生产厂商提供
更加广阔的发展空间。
2017-2019 年 OLED 渗透率有望快速提升。OLED 屏幕在手机屏、电视屏等中小尺寸显示
屏幕上具有明显的优势；随着 OLED 良率提升、以及成本不断降低，市场渗透率有望快速
提升。IHS 预测，2017 年有 36%的智能手机搭载柔性 OLED 屏幕；从全球看 2016-2019
年全球 OLED 电视预计出货量年增速在 70%以上，出货额年增速在 40%以上。
2016 年我国平面显示靶材需求全球占比提升至 30%以上
我国平面显示靶材市场发展迅猛，2016 年市场规模已达到 80 亿元。中国电子材料行业协
会数据显示，2013 -2016 年，全球平板显示用溅射靶材市场规模分别为 29.5 亿美元、31.4
亿美元、33.8 亿美元和 38 亿美元。其中，我国平板显示用溅射靶材 2013-2016 市场规模
分别为 39.4 亿元、55 亿元、69.3 亿元和 80 亿元。中国平面靶材需求在全球占比已经从
2013 年约 20%提升到 2016 年占比超过 30%。
0.00%
5.00%
10.00%
15.00%
20.00%
25.00%
30.00%
35.00%
40.00%
45.00%
0
200
400
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1,000
1,200
1,400
1,600
2012 2013 2014 2015 2016
亿元国内平板显示产业规模 增长率（右轴）
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图表19： 2013-2016 年全球平面显示靶材市场规模 图表20： 2013-2016 年中国平面显示靶材市场规模
资料来源：中国电子材料行业协会，华泰证券研究所 资料来源：中国电子材料行业协会，华泰证券研究所
预计 2018-2020 年国内显示靶材需求增速维持 20-25%增速。综上，考虑到 2012-2016
国内平板显示产业增速基本保持在 25%以上；同时国内 LCD 国产替代进程加速、再加上
OLED 渗透率有望快速提升，我们预计 2018-2020 年国内平板显示产业增速将至少维持在
20-25%；对应到国内显示靶材的需求也将相应增加。
半导体：靶材应用的战略高地
半导体靶材性能要求位居各类应用之首。半导体芯片行业遵循发展“摩尔定律”，已历
经半个世纪。半导体行业所需溅射靶材主要用于晶圆制造材料和封装测试材料。为了满足
半导体芯片高精度、小尺寸的需求，芯片制造对溅射靶材纯度要求很高，通常需达 99.9995%
（5N5）甚至 99.9999%（6N）以上。在各类半导体应用中性能要求最高、价格最为昂贵。
图表21： 半导体靶材种类和应用
应用 靶材材料 主要用途
晶圆制造 AI、AlCu、AlSi、AlSiCu 等
W、Ti、Wti 等，Cu、CuAl、CuMn 等
X、Ta、Ru 等，W、WSi、Ti、Co、NiPt 等
Y、Ti、Ta、TiAl 等
铝互联
铜互联
硅化物接触
金属栅
先进封装 AlCu、Ag、Au、Ti、Cu、MoNi、Niv、Wti 等
AlCu、Ti、Cu、Ni、Niv 等
Cu、Ti、Ta、Wti 等
凸点下金属层
重布线层
硅通孔
资料来源：《2016-2022 年中国 ITO 靶材产业现状分析》，华泰证券研究所
铝和铜是半导体生产主流工艺。半导体靶材主要以铜靶、铝靶、钛靶和钽靶这四种业界主
流的薄膜金属材料为主。芯片生产的导电层中同时存在铝和铜两种导线工艺，一般来说
110nm 晶圆技术节点以上使用铝导线，通常用钛材料作为阻挡层薄膜材料；110nm 晶圆
技术节点以下使用铜导线，通常使用钽材料作为铜导线的阻挡层。在芯片的应用场景中，
既需要使用铜、钽材料等先进工艺来实现降低功耗、提高运算速度等作用，又需要使用铝、
钛材料的 110nm 以上节点工艺来保证可靠性和抗干扰性等性能。
图表22： 半导体主流靶材工艺品种组合
要素 半导体主流靶材工艺品种组合
导电层 铜 铝
阻挡层 钽 钛
适用范围 110nm 以下节点 110nm 以上节点
功能 降低功耗、提高运算速度 保证可靠性和抗干扰性能
资料来源：江丰电子招股说明书，华泰证券研究所
6.44%7.64%
12.43%
0%
2%
4%
6%
8%
10%
12%
14%
0
5
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30
35
40
2013 2014 2015 2016
全球（亿美元） 全球增速（右轴）
39.59%
26.00%
15.44%
0%
5%
10%
15%
20%
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30%
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70
80
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2013 2014 2015 2016
中国（亿元） 中国增速（右轴）
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国家政策推动半导体产业快速发展
国家集成电路纲要规划 2020 年集成电路产业保持 20%年增长率，集成电路关键装备和材
料成为重点。2014 年 6 月，国家发布《国家集成电路产业发展推进纲要》，提出中国集成
电路产业到 2020 年将达到 1 万亿规模，也就是意味着到 2020 年中国集成电路产业将保
持 20%左右的年增长率。纲要中提出在半导体设备和材料领域，加强集成电路装备、材料
与工艺结合，研发光刻机、刻蚀机、离子注入机等关键设备，开发光刻胶、大尺寸硅片等
关键材料，加强集成电路制造企业和装备、材料企业的协作，加快产业化进程，增强产业
配套能力。
十二五期间，“02 专项”推进半导体装备和材料企业发展。《国家中长期科学和技术发展规
划纲要（2006-2020）》中关于集成电路产业的规划是 02 专项，即《极大规模集成电路制
造技术及成套工艺》。02 专项在“十二五”期间重点实施的内容和目标分别是：重点进行
45-22 纳米关键制造装备攻关，开发 32-22 纳米互补金属氧化物半导体（CMOS）工艺、
90-65 纳米特色工艺，开展 22-14 纳米前瞻性研究，形成 65-45 纳米装备、材料、工艺配
套能力及集成电路制造产业链，进一步缩小与世界先进水平差距，装备和材料占国内市场
的份额分别达到 10%和 20%，开拓国际市场。
我国半导体集成电路 “十三五”规划提出材料国产化率达 50%的目标。规划提出，关键
材料产业化技术水平达到 28nm 工艺要求，并实现大批量产业化；部分专业领域产业技术
推进到 20-14nm 水平，产品进入生产线应用；在前沿技术领域研究占有一席之地；建成
材料产业共性技术应用开发平台；推动资源整合，打造 3-4 家进入国际同行前列的世界级
企业；材料国产化率有能力达到 50%。
半导体产业向国内转移，材料步入快速发展期
国家政策和基金支持推动国内半导体产业发展。在《国家集成电路产业发展推进纲要》和
国家集成电路产业投资基金的推动下，中国半导体市场已成为全球增长引擎，2016 年销
售额超过 4300 亿元，年增长率达到 20%。在国内设计、制造和封测三项并举、协调发展
的格局下，中国半导体行业协会预计 2017 年国内半导体产业增速区间为 18-25%。
图表23： 2012-2016 全球半导体产业市场规模 图表24： 2012-2016 中国半导体产业市场规模
资料来源：全球半导体贸易统计协会（WSTS），华泰证券研究所 资料来源：中国半导体行业协会，华泰证券研究所
国内半导体材料产业增速远高于全球水平。根据中国电子材料行业协会数据，2016 年中
国大陆半导体材料采购金额攀高至 65.5 亿美元，年增 7.3%，不仅是采购金额增加幅度最
大的地区，也跃居全球第 4 大买家。大陆半导体材料市场近年来受产业链增长拉动，半导
体材料销售额保持较高增速， 2016 年已经达到 647 亿元的规模，增速约 10%，远高于
全球半导体材料规模增速。预计随着全球半导体产业向大陆转移，日本、台湾等占有率将
有所下降，而大陆半导体材料市场将会进一步扩大。
-2.70%
4.79%
9.80%
-0.24%1.10%
-4%
-2%
0%
2%
4%
6%
8%
10%
12%
2,600
2,700
2,800
2,900
3,000
3,100
3,200
3,300
3,400
3,500
2012 2013 2014 2015 2016
全球半导体市场销售额（亿美元） 增速（右轴）
11.60%
16.21%
20.21% 19.71% 20.10%
0%
5%
10%
15%
20%
25%
0
1,000
2,000
3,000
4,000
5,000
2012 2013 2014 2015 2016
中国半导体产业规模（亿元） 增速（右轴）
行业研究/深度研究 | 2018 年 02 月 12 日
谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准 16
图表25： 2012-2016 年全球半导体材料市场规模 图表26： 2012-2016 年中国半导体材料市场需求
资料来源：全球半导体贸易统计协会（WSTS），华泰证券研究所 资料来源：中国电子材料协会，华泰证券研究所
十二五期间，国内半导体材料企业技术和市场取得长足发展。十二五期间，集成电路和先
进封装材料产业整体技术水平得到大幅度提升，根据中国半导体协会统计，我国半导体主
体材料应用技术节点达到 90-65 纳米。溅射靶材、CMP 抛光液、电子气体、工艺化学品
等部分产品可达 28 纳米工艺要求。集成电路材料产业技术创新战略联盟配合 02 专项实施
推进国产材料量产应用，上百种材料实现批量销售，19 种材料采购比例超过 50%。国内
8-12 英寸主要制造厂累计采购国产材料超过 12 亿元，其中 CMP 铜抛光液、钽靶和组件
等 3 种材料单一品种累计采购金额超过 5000 万元，NF3、CMP 阻挡层抛光液等两种材料
累计采购金额达 2 亿元。主要材料企业累计申请发明专利 3574 项，获授权发明专利 1422
项。在半导体溅射靶材领域江丰电子、有研亿金都是重点支持企业。
2011-2016 全球半导体用靶材复合增长率 3.17%
靶材在芯片制造和封装材料市场占比分别为 2.6%和 2.7%。根据江丰电子公告，溅射靶材
在晶圆制造材料中，约占芯片制造材料市场的 2.6%；在封装测试材料中，约占封装测试
材料市场的 2.7%。
2011-2016 全球半导体用靶材年复合增长率 3.17%。国际半导体产业协会(SEMI)全球半导
体用溅射靶材销售额从 2011 年的 10.1 亿美元到 2016 年为 11.7 亿美元，年均复合增长率
为 3.17%，其中晶圆制造用溅射靶材年均复合增长率为 2.07%，封装测试用溅射靶材年均
复合增长率为 4.65%。
图表27： 2011-2016 年全球半导体用溅射靶材市场规模
资料来源：国际半导体产业协会，华泰证券研究所
-3.48%
1.85%
-1.75%
2.43%
-4%
-3%
-2%
-1%
0%
1%
2%
3%
420
425
430
435
440
445
450
2012 2013 2014 2015 2016
全球半导体材料市场销售额（亿美元）
11.70%
4.99% 4.72%
10.43%9.48%
0%
2%
4%
6%
8%
10%
12%
14%
0
100
200
300
400
500
600
700
2012 2013 2014 2015 2016
国内半导体材料市场（亿元） 增速（右轴）
0.00%
1.00%
2.00%
3.00%
4.00%
5.00%
6.00%
7.00%
8.00%
9.00%
10.00%
0
1
2
3
4
5
6
7
2011 2012 2013 2014 2015 2016
亿美元
晶圆制造用溅射靶材 封装用溅射靶材 整体增速（右轴）
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2016 年我国半导体溅射靶材达 14 亿元，年增速达 20%。中国半导体产业持续发展也为
半导体制造材料市场的发展奠定了良好的基础，作为半导体材料之一，2016 年我国集成
电路用溅射靶材市场规模约 14 亿元，年增速达 20%。
图表28： 2010-2016 我国半导体芯片用靶材市场规模
资料来源：中国电子材料行业协会，华泰证券研究所
在建产能投产后靶材市场或将翻倍。根据国际半导体设备与材料产业协会（SEMI）数据，
截止 2017 年 11 月，国内已量产的 12 寸晶圆厂共有 10 家，总产能 56.9 万片每月；而
目前建设中的 12 寸晶圆厂共有 9 家，总产能 54 万片/月。若上述在建产能投产，相当于
国内晶圆产能增加 95%；靶材作为半导体制备的关键原料，因此国内半导体靶材需求也相
应比例增加。
图表29： 国内在建的 12 寸晶圆制造厂
序号 公司 工厂代码 工艺 产能（千片/月）
1 德科码 FAB 1 CMOS 20
2 华力微 FAB 2 CMOS 40
3 晋华集成 FAB 1 CMOS 60
4 晶合集成 FAB 1 CMOS 40
5 武汉新芯 FAB 2 CMOS 200
6 中芯国际 FAB 16 CMOS 40
7 中芯国际 FAB B2B CMOS 35
8 中芯国际 FAB B3 CMOS 35
9 中芯国际 FAB SN1 CMOS 70
资料来源：中国电子报，华泰证券研究所
预计 2018-2020 国内半导体靶材需求增速在 20%左右。综上，2016 年我国集成电路用溅
射靶材市场规模约 14 亿元，年增速达 20%。供给端，随着国产溅射靶材技术成熟，尤其
是国产溅射靶材具备一定性价比优势，并且符合溅射靶材国产化的政策导向；需求端，半
导体产业向国内转移的趋势已基本确立，国内半导体产业崛起将推动国内半导体靶材需求
的提升。预计 2018-2020 年我国溅射靶材的市场规模有望持续扩大，复合增速将维持在
2016 年 20%左右增速水平。
薄膜太阳能：靶材应用的后起之秀
光伏产业孕育靶材发展机遇
PVD 镀膜的另一大应用领域是太阳能电池，主要镀膜材料为溅射靶材。较为常用的溅射
靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及 ITO 靶（氧化铟锡）、AZO 靶（氧化铝锌）等，纯
度要求一般在 99.99%（4N）以上，其中，铝靶、铜靶用于导电层薄膜，钼靶、铬靶用于
阻挡层薄膜，ITO 靶、AZO 靶用于透明导电层薄膜。
0%
5%
10%
15%
20%
25%
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2
4
6
8
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14
16
2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016F
我国半导体芯片用靶材市场规模（亿元） 增速（右轴）
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图表30： 薄膜太阳能电池各功能层的靶材种类
薄膜功能 靶材种类
导电层 铝靶、铜靶
阻挡层 钼靶、铬靶
透明导电层 ITO 靶、AZO 靶
资料来源：太阳能光伏网，华泰证券研究所
2011-2016 全球太阳能用靶材增速保持 20%以上。太阳能光伏产业的快速发展给太阳能电
池用溅射靶材市场带来了可观的成长空间，2016 年全球太阳能电池用溅射靶材市场规模
23.4 亿美元，在全球靶材市场中占比约 21%。根据江丰电子招股书数据，2011-2016 年
全球太阳能靶材规模增速一直保持在 20%以上。
图表31： 2011-2016 年全球太阳能用靶材市场规模
资料来源：江丰电子招股说明书，华泰证券研究所
我国太阳能靶材有望随薄膜太阳能电池产业快速发展
我国作为世界上最大的光伏产业基地，薄膜太阳能电池发展或可期。近年来随着国家对环
境保护、节能减排方面的重视，我国太阳能光伏产业已快速成长为全球最大的太阳能电池
片和电池组件生产制造基地。太阳能电池主要分为晶体硅太阳能电池和薄膜太阳能电池，
靶材主要应用于后者。
图表32： 晶硅太阳能电池和薄膜太阳能电池特点
种类 特点 设备投入 产业发展情况
晶体硅 转化效率高、性能稳定 小 成熟，主导地位
薄膜 低成本、制造温度低、应用范围大、重量轻 设备昂贵，投入大 发展初期，市场占比小
资料来源：太阳能光伏网，华泰证券研究所
薄膜太阳能电池成为拉动靶材市场空间的潜在动力。薄膜太阳能电池凭借其突出的光电转
换效率，近年来呈现增速明显提升之势。2015 年我国薄膜太阳能电池产量增速超过 50%。
这也为溅射靶材市场带来了充分的成长空间。
35%
41%
35%
31%
22%
26%
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5
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15
20
25
2011 2012 2013 2014 2015 2016
全球太阳能靶材规模（亿美元） 增速（右轴）
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图表33： 2010-2016 年我国累计光伏装机容量 图表34： 2010-2015 年我国薄膜太阳电池产量
资料来源：国家能源局。华泰证券研究所 资料来源：太阳能光伏网。华泰证券研究所
原材料短缺和设备昂贵限制了薄膜太阳能电池在我国的广泛应用。在生产薄膜太阳能电池
的原材料方面，中国的薄膜生产商在很大程度上要依靠外国的供应商，一些主要的原材料
如导电玻璃和硅烷气体等供不应求。此外，薄膜太阳能电池生产设备复杂昂贵；据太阳能
光伏网数据，目前薄膜太阳能电池生产设备投入远大于晶体硅太阳能电池；尤其是关键设
备长期以来一直被欧洲、美国和日本的企业垄断。
受益转化效率提升和规模化生产，薄膜太阳能电池有望“反客为主”。目前国内太阳能电
池主要以晶体硅太阳能电池为主，薄膜电池的产量仍较小，而且以硅薄膜电池为主，因此
溅射靶材市场规模较小。根据中国电子行业协会数据，2013-2015 年薄膜电池市场规模约
为 3.5 亿元、4.6 亿元和 7.5 亿元。但根据太阳能光伏网数据，薄膜电池转化效率以 1-1.5pct/
年的速度提升；按照这个效率提升速度预计到 2020 年薄膜电池转化效率有望超过晶体硅
电池。加之随着国内薄膜电池生产线的投产规模化效益显现，届时综合成本如果低于晶体
硅电池，有望成为市场的主流选择；薄膜电池行业增速将高于晶硅电池行业增速。
预计国内太阳能电池靶材市场 2018-2020 年有望维持 20%以上增速。综上，2011-2016
年全球太阳能靶材规模增速一直保持在 20%以上。我国作为世界上最大的光伏产业基地，
2015 年我国薄膜太阳能电池产量增速超过 50%；这也为薄膜太阳能电池溅射靶材市场带
来了充分的成长空间。随着薄膜太阳能电池转换效率提升和成本下降，我们预计
2018-2020 年国内薄膜太阳能电池靶材增速将高于全球增速，保守估计维持在 20%以上。
29%
222%
124%
199%
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79%
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2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016
我国累积光伏装机容量（GW) 增速（右轴）
31%
49%
-29%-35%
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2010 2011 2012 2013 2014 2015
我国薄膜太阳能电池产量(MW) 增速（右轴）
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靶材主要上市企业简介 图表35： 靶材主要上市企业估值表
代码 简称
营业收入(亿元） 净利润（亿元） PE（倍）
2015 2016 2017Q1-3 2015 2016 2017Q1-3 市值(亿元) TTM 2018E
300666.SZ 江丰电子 2.91 4.43 3.89 0.24 0.55 0.39 93.74 161.11 97.65
600206.SH 有研新材 25.90 38.08 28.56 0.3 0.48 0.48 74.88 111.52 76.40
300706.SZ 阿石创 1.24 1.75 1.74 0.26 0.36 0.35 41.50 93.04 53.83
300263.SZ 隆华节能 13.71 8.12 7.60 1.79 0.15 0.47 48.07 212.05 48.40
平均值 144.43 69.07
平均值(去掉最高) 121.89 59.54
资料来源：Wind，数据截至 2018-2-11，PE 为 Wind 一致预期，华泰证券研究所
江丰电子（300666）：国内半导体溅射靶材龙头，成功打破国外垄断
国内高纯溅射靶材行业龙头。公司主营业务为高纯溅射靶材，是国内材料最齐全、工艺最
完整、设备能力最强、产能最大的超高纯度金属材料及溅射靶材生产基地。公司主要产品
包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等，作为制造超大规模集成电路芯片、液晶面板、薄膜太
阳能电池的 PVD 电子薄膜原料，主要应用于半导体、平板显示器及太阳能电池等领域，
已成为中芯国际、台积电、格罗方德、意法半导体、东芝、海力士、京东方、SunPower
等国内外知名厂商的高纯溅射靶材供应商。
半导体溅射靶材新秀，成功打破美、日垄断。在以半导体应用为主的高端靶材领域，公司
成功打破美国、日本跨国公司的垄断格局，在 16 纳米技术节点已实现批量供货。据公告，
公司正不断完善和攻克 28-14nm 技术节点用钽靶、钛靶的晶粒晶向控制技术、靶材焊接
技术、精密机械加工技术及清洗封装技术，并积极进行客户开发和测试。伴随着近年来晶
圆厂的建设加速、以及 2018 年底进口靶材关税优惠取消，都将利好国内半导体靶材企业。
客户资源优质。公司客户资源优质，在研发、资金、技术、客户等方面均已构筑护城河。
在半导体领域，在铝靶、钛靶、钽靶等方面已成为台积电主要供应商；公司在铝靶、钛靶、
钽靶、铜阳极材料方面成为中芯国际主要供应商。平板显示领域，铝靶产品已实现对京东
方、华星光电批量销售。公司公告马来西亚子公司已获得当地项目设备进口许可证，整体
靶材焊接工厂正处于建设周期。
扩建产能，加大平板显示用靶材布局。2017 年公司募投建设“年产 400 吨平板显示器用
钼溅射靶材坯料产业化项目”、“年产 300 吨电子级超高纯铝生产项目”，产能稳步提升。
平面显示是全球靶材最大的应用市场，公司凭借半导体靶材的经验优势进入平面显示靶材
领域，目前平面显示铝靶产品已放量，典型客户包括京东方、华星光电等。
有研新材（600206）：雄厚材料研发实力，国内高纯金属靶材一体化供应
有研院控股企业，雄厚材料研发实力支撑。有研新材是有研院控股的有色新材料行业的领
军企业。目前主要从事高纯金属材料、 高端稀土功能材料、 生物医用材料、微电子光电
子用薄膜材料、红外光学及光纤材料等新材料的研发与制备。产品主要应用于新能源及新
能源汽车、新一代信息技术、生物医药、节能环保等战略性新兴产业领域。
国内半导体靶材稀缺供应商，高纯金属独具优势。在半导体靶材领域，子公司有研亿金主
打 4-6 英寸靶材市场、并积极拓宽 8-12 英寸靶材市场。公司依托有研控股体系多年金属
研究经验，在高纯金属制备方面优势明显；公司高纯金属靶材产业化项目拟建设 8-12 英
寸半导体靶材产能约 20000 块/年。伴随着靶材产能提升规模效应显现，可降低公司成本。
光电半导体、光纤材料、医疗器械等产品储备丰富。公司是红外锗单晶国内最大的供应商，
也是全球水平砷化镓最大的供应商；光纤用四氯化锗和四氯化硅产品技术领先，是国内市
场的主要供应商；在医疗器械领域，公司开发了牙弓丝、非血管支架、齿科贵金属合金等
产品。公司已成立有研国晶辉、有研医疗等子公司，推进业务独立专业运营。
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阿石创（300706）：国内平面显示靶材领先企业
国内 PVD 镀膜材料领先企业。公司是国内 PVD 镀膜材料领先企业，主营蒸镀材料和溅射
靶材业务，广泛应用于光学元器件和平板显示领域，2013-2017Q3 毛利率保持在 35%以
上。公司凭借丰富的 PVD 镀膜材料制备工艺，成功建立起较为全面的产品供应体系，产
品涉足平板显示、光学元器件、节能玻璃、半导体、太阳能电池等领域。
受益平面显示产业快速发展，新建平板显示靶材产能。消费升级带动各类消费电子产品需
求增长，尤其是随着柔性显示技术突破、OLED 良率提升成本下降，平面显示如 LCD、
OLED 等应用大幅推广，带动平面镀膜用溅射靶材需求提升。公司顺应下游需求，利用募
集资金投资建设“年产 350 吨平板显示溅射靶材建设项目”，稳步扩张平面显示靶材产能，
并通过规模效益降低成本。
客户资源优质，且粘性较强。经过多年积累，公司已与京东方、群创光电、蓝思科技、伯
恩光学、爱普生、水晶光电等知名厂商建立合作关系。PVD 镀膜高技术、高投入，认证周
期长达 2-3 年，因此客户粘性较高。显示镀膜靶材国产化率水平低，随着平面显示大规模
向大陆转移平面靶材需求快速提升。
高额研发投入，积极储备技术。公司历年研发投入在营收中占比保持 5%左右，打造优质
研发平台自主研发核心技术，已获得 23 项专利，9 项核心自主研发技术。同时公司积极
把握下游半导体和太阳能光伏产业的快速发展趋势，已经研发出应用于半导体、太阳能电
池等领域的新产品。
隆华节能（300706）：环保、军工大布局，显示靶材成为新增长极
制冷设备领导者，加码环保水务治理。公司是专业从事制冷设备研发、制造、销售的高科
技企业，2016 年其核心产品制冷设备市占率达 80%，是绝对的领导者。公司 2013 年 10
月收购国内凝结水精处理领导企业中电加美，进入环保水处理领域。同时公司顺应 PPP
热潮，与中船环境合作投资成立新疆隆华和上海隆华两个环保平台，借助外部资源加速项
目落地。
收购四丰电子，布局显示靶材。公司 2014 年底收购高端钼靶材供应商四丰电子，正式进
军钼靶材领域。四丰电子在钼靶材领域处于行业龙头地位，产品出货量高速增长，直接供
货三星、LG、国星光电等显示领头；此外也积极布局铜、铝靶材等；控股子公司广西晶联
光电作为 ITO 靶材领域先进企业，产能达 60 吨/年。靶材业务成为公司新增长极。
积极参与军民融合，布局军工新材料。随着近年国家军民融合战略方针加速推进，促进军
工产业升级，公司在军工产业进行战略布局，2017 年 9 月公司收购国内领先的船用复合
材料制造商湖北咸宁威海复合材料制品有限公司 66.69%股权，是公司继收购湖南兆恒科
技 52.99%股权以来，在军工新材料领域又一布局。
风险提示
1. 国内半导体增速不及预期，产业快速向东南亚国家转移。2017 年国内半导体产业增
速明显，但 2018-2020 年可能存在产业整体增速有限，并且部分下游封装等应用向
东南亚等国家转移，有可能削弱国内半导体产业的增速。
2. 晶硅电池成本大幅下降，薄膜太阳能电池发展不及预期。薄膜太阳能电池的光电转换
效率提升，但同时存在投资规模大、温度稳定性不足等问题。近年单晶硅和多晶硅电
池成本大幅降低，在一定程度上制约薄膜电池的发展。
3. CVD 方法取得技术突破或者成本大幅降低，大规模替代 PVD 应用。溅射靶材主要用
于物理气相沉积（PVD）方法制备薄膜；一旦相应的 CVD 方法取得技术突破制备同
样的薄膜材料，或者具备成本优势，则有可能吞噬部分溅射镀膜方法的市场空间。
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评级说明 行业评级体系 公司评级体系
－报告发布日后的 6个月内的行业涨跌幅相对同期的沪深 300指数的涨跌
幅为基准；
－投资建议的评级标准
－报告发布日后的6个月内的公司涨跌幅相对同期的沪深300指数的涨
跌幅为基准；
－投资建议的评级标准
增持行业股票指数超越基准 买入股价超越基准 20%以上
中性行业股票指数基本与基准持平 增持股价超越基准 5%-20%
减持行业股票指数明显弱于基准 中性股价相对基准波动在-5%~5%之间
减持股价弱于基准 5%-20%
卖出股价弱于基准 20%以上
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