光电子技术基础与应用 第六章 光电探测技术 第十一、十二讲

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物理与微电子科学学院. 光电子技术基础与应用 第六章 光电探测技术 第十一、十二讲. School of Physics and Microelectronics Science. 2013 年 04 月. 第十一讲. 1. 5. 光调制技术 — 光信息系统的信号加载与控制( 回顾第十讲内容 ). 绪  论 . 5.1. 5.2. 5.5. 5.3. 5.4. 磁光调制. 晶体光学基础. 电光调制. 光在晶体中的传播. 声光调制. 平均折射率 距离 V s x. - PowerPoint PPT Presentation

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  • School of Physics and MicroelectronicsScience 2013 04

  • 1 5.1 5.3 5.2 5.4 5.5 5

  • 5.4.1 5.4.2 5.4.3 PijklSkl Bij Ts/22

    P11, P12

    5.1 5.2 5.3 5.4 5.5

  • 5.4.1 5.4.2 5.4.3 nn k0n0sinmmK0E m

    5.1 5.2 5.3 5.4 5.5

  • (1) 5.4.1 5.4.2 5.4.3 (2)

    5.1 5.2 5.3 5.4 5.5

  • 5.4.1 5.4.2 5.4.3 dd

    5.1 5.2 5.3 5.4 5.5

  • 1845// 5.5.1 5.5.2 5.5.2

    5.1 5.2 5.3 5.4 5.5

  • 1 2 4 578910

  • 6.1 6.3 6.2 6.4

  • 1873SmithMaySeR30% SimensPtSe 1888HallwachsHertz 1909RichtmeyerNa Zworkyn1933 1950Weimer 1970BoyleCCD

  • RSNEPD R(f) P Ic P/h t Ic/et e =11. R S NEP D R(f)

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • RVsP

    V/W. R S NEP D R(f)

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • SIsP RS R S NEP D R(f)

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • R(S) 0 >0 c
  • NEP NEP NEP NEPNEP f VsV Vn V R S NEP D R(f)

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • DNEP D*D D* Adf D*NEPD* R S NEP D R(f)

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • R(f) R S NEP D R(f)

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • II TT T tVIt R S NEP D R(f)

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.1 6.3 6.2 6.4

  • t t

    6.2.1 6.2.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • (1) I t 6.2.1 6.2.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • (2) =2-1=2-1E1E2cos(t+) I t 6.2.1 6.2.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • mses(t) t> t G t 6.2.1 6.2.2 SNR=Pc/Ps

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • I =0 G 6.2.1 6.2.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • I G ibI idI Pns, Pnb, Pnd, PnTI Ps PcG I 6.2.1 6.2.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • G=1 Pns, Pnb, PndIPnT 6.2.1 6.2.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.2.1 6.2.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • I E1cos1tE2cos(1+)t(
  • P

    6.2.1 6.2.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • > NEP S I PsPcG 6.2.1 6.2.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.1 6.3 6.2 6.4

  • 6.1 6.2 6.3 6.4

  • 1 c c E

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 2T TPt, Ni, Au T 3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • h 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • It ic I S P(t) t SIsP 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • > mvh E =

    6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • >ct

    6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • >90%

    nm(>3eV)

  • 1 = 6.3.1 6.3.2 6.3.3 2 = EF EFEF T=0KEF

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • neUs p pn pI EF EF T=0K 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.1 6.3 6.2 6.4

  • R S NEP D R(f) Is P P IcI P/h t Ic/et e VsP VsV Vn V R S NEP D R(f)

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.2.1 6.2.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • mses(t) t>t G 6.2.1 6.2.2 G=1 NEP

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • > NEP S 6.2.1 6.2.2 I

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • (1) (2) T (3) It 6.3.1 6.3.2 6.3.3 > >90%nm(>3eV) 2=1=

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 1 2 4 578910

  • 6.1 6.3 6.2 6.4

  • (Photoconductive: PC) (Photovoltaic: PV) 100 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • intrinsic semiconductor 0 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • d=L/t G=0/dI LdGG10-3103 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • p-npn p-nnp Ip-n 6.3.1 6.3.2 6.3.3 p-n pnnp = p-n

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • Ip p-nI0IpI06.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • InpLppeLe, L=Lp+Le>p-nLIp-n UocIscp-nI p-nI 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • Uocp-n(I=0)pn 6.3.1 6.3.2 6.3.3 Iscp-n(U=0)p E

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • TI 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • M V/ T 6.3.1 6.3.2 6.3.3 p n

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • ULV RM RR ms 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • T Tc T 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • T >1/ 6.3.1 6.3.2 6.3.3 T T1~1000sT

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • Ps I IIII PsTI(Q=0) 6.3.1 6.3.2 6.3.3

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.1 6.3 6.2 6.4

  • 6.4.1 6.4.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.4.1 6.4.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6-1 6.4.1 6.4.2 6-1

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6-9 6-1 6-9 6.4.1 6.4.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.4.1 6.4.2 G

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • R CdS CdTe PbS InSb GaS Ge:Cu Ge:Au 6.4.1 6.4.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6-2 6.4.1 6.4.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • CdS, CdTe6.4.1 6.4.2 103~104t 50msPbSR 1~3.4m 2mt 200sV

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • Si(0.3~1.1m) Ge(1.0~1.7m) InGaAsPInGaSbP 6.4.1 6.4.2 p-n(PD) p-nI (APD) APDT p-np-np-i-n p-np-i-n

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • p-n-pn-p-n V t 6.4.1 6.4.2 (>70%)(>10GHz) p-n Si, GaAs, AlSb-p-n CdS CdTep-n

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • / TI 6.4.1 6.4.2 / NEP10-11W10-9W

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.4.1 6.4.2 /

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • I10-19W 6.4.1 6.4.2 A CDA CI D100V

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • g=5, N=9, G2106. gV 0~102MHz >103MHz CD1 D1ID2D3 gDNIG 6.4.1 6.4.2

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • Si 6.4.1 6.4.2 SiGe IT Si 0.4~1.1m 0.9m >50%0.4A/W

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • SipnPINSi 6.4.1 6.4.2 PINSiSip+t t 1010s10pF pp-n V II

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • E(t)=Es(1+mcosmt)eit TeTPB CdCdNEP 6.4.1 6.4.2 I

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • 6.4.1 6.4.2 SiGe V >105V/cm. I I(APD Avalanche Photo Diode)

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • G MmaxM30~100 6.4.1 6.4.2 VBDVn 13

    6.1 6.2 6.3 6.4

  • PIN 1.55m 61012 21012 T77K R1M 10e-9A 100MHz 100K1M 50M20M SNR (1)

  • (2)

  • (3)

  • (4)

  • (5)

  • (6)

  • (7)

  • (8)

  • (9)

  • PIN 1.55m 61012 21012 (10)